Дисперсионная чувствительность картины рассеяния к дефектам в зависимости от толщины кристаллических изделий нанотехнологий. II. Численный эксперимент

На основе построенной в первой части работы обобщённой модели дисперсионночувствительной дифрактометрии неидеальных кристаллов произвольной толщины проведён анализ дифференциальных и интегральных картин рассеяния для широкого интервала эффективных толщин кристалла. На основі побудованої у першій час...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
Date:2015
Main Authors: Лизунов, В.В., Кочелаб, Е.В., Скакунова, Е.С., Лень, Е.Г., Молодкин, В.Б., Олиховский, С.И., Толмачёв, Н.Г., Шелудченко, Б.В., Лизунова, С.В., Скапа, Л.Н.
Format: Article
Language:Russian
Published: Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України 2015
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/87995
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Дисперсионная чувствительность картины рассеяния к дефектам в зависимости от толщины кристаллических изделий нанотехнологий. II. Численный эксперимент / В.В. Лизунов, Е.В. Кочелаб, Е.С. Скакунова, Е.Г. Лень, В.Б. Молодкин, С.И. Олиховский, Н.Г. Толмачёв, Б.В. Шелудченко, С.В. Лизунова, Л.Н. Скапа // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2015. — Т. 13, № 2. — С. 349–370. — Бібліогр.: 19 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-87995
record_format dspace
spelling Лизунов, В.В.
Кочелаб, Е.В.
Скакунова, Е.С.
Лень, Е.Г.
Молодкин, В.Б.
Олиховский, С.И.
Толмачёв, Н.Г.
Шелудченко, Б.В.
Лизунова, С.В.
Скапа, Л.Н.
2015-11-06T19:15:40Z
2015-11-06T19:15:40Z
2015
Дисперсионная чувствительность картины рассеяния к дефектам в зависимости от толщины кристаллических изделий нанотехнологий. II. Численный эксперимент / В.В. Лизунов, Е.В. Кочелаб, Е.С. Скакунова, Е.Г. Лень, В.Б. Молодкин, С.И. Олиховский, Н.Г. Толмачёв, Б.В. Шелудченко, С.В. Лизунова, Л.Н. Скапа // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2015. — Т. 13, № 2. — С. 349–370. — Бібліогр.: 19 назв. — рос.
1816-5230
PACS numbers: 07.85.Jy, 61.05.cc, 61.05.cf, 61.05.cp, 61.46.Hk, 61.72.Dd, 68.55.jd
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/87995
На основе построенной в первой части работы обобщённой модели дисперсионночувствительной дифрактометрии неидеальных кристаллов произвольной толщины проведён анализ дифференциальных и интегральных картин рассеяния для широкого интервала эффективных толщин кристалла.
На основі побудованої у першій частині роботи узагальненої моделі дисперсійночутливої дифрактометрії неідеальних кристалів довільної товщини проведено аналіз диференційних та інтеґральних картин розсіяння для широкого інтервалу ефективних товщин кристалу.
Based on generalized model of dispersion-sensitive diffractometry constructed in the first part for imperfect crystals of arbitrary thickness, the analysis of differential and integral scattering patterns for a wide range of effective thickness of the crystal is carried out.
ru
Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
Дисперсионная чувствительность картины рассеяния к дефектам в зависимости от толщины кристаллических изделий нанотехнологий. II. Численный эксперимент
The Dispersion Sensitivity of Scattering Pattern to Defects Depending on Thickness of Crystalline Products of Nanotechnologies. II. Numerical Experiment
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Дисперсионная чувствительность картины рассеяния к дефектам в зависимости от толщины кристаллических изделий нанотехнологий. II. Численный эксперимент
spellingShingle Дисперсионная чувствительность картины рассеяния к дефектам в зависимости от толщины кристаллических изделий нанотехнологий. II. Численный эксперимент
Лизунов, В.В.
Кочелаб, Е.В.
Скакунова, Е.С.
Лень, Е.Г.
Молодкин, В.Б.
Олиховский, С.И.
Толмачёв, Н.Г.
Шелудченко, Б.В.
Лизунова, С.В.
Скапа, Л.Н.
title_short Дисперсионная чувствительность картины рассеяния к дефектам в зависимости от толщины кристаллических изделий нанотехнологий. II. Численный эксперимент
title_full Дисперсионная чувствительность картины рассеяния к дефектам в зависимости от толщины кристаллических изделий нанотехнологий. II. Численный эксперимент
title_fullStr Дисперсионная чувствительность картины рассеяния к дефектам в зависимости от толщины кристаллических изделий нанотехнологий. II. Численный эксперимент
title_full_unstemmed Дисперсионная чувствительность картины рассеяния к дефектам в зависимости от толщины кристаллических изделий нанотехнологий. II. Численный эксперимент
title_sort дисперсионная чувствительность картины рассеяния к дефектам в зависимости от толщины кристаллических изделий нанотехнологий. ii. численный эксперимент
author Лизунов, В.В.
Кочелаб, Е.В.
Скакунова, Е.С.
Лень, Е.Г.
Молодкин, В.Б.
Олиховский, С.И.
Толмачёв, Н.Г.
Шелудченко, Б.В.
Лизунова, С.В.
Скапа, Л.Н.
author_facet Лизунов, В.В.
Кочелаб, Е.В.
Скакунова, Е.С.
Лень, Е.Г.
Молодкин, В.Б.
Олиховский, С.И.
Толмачёв, Н.Г.
Шелудченко, Б.В.
Лизунова, С.В.
Скапа, Л.Н.
publishDate 2015
language Russian
container_title Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології
publisher Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України
format Article
title_alt The Dispersion Sensitivity of Scattering Pattern to Defects Depending on Thickness of Crystalline Products of Nanotechnologies. II. Numerical Experiment
description На основе построенной в первой части работы обобщённой модели дисперсионночувствительной дифрактометрии неидеальных кристаллов произвольной толщины проведён анализ дифференциальных и интегральных картин рассеяния для широкого интервала эффективных толщин кристалла. На основі побудованої у першій частині роботи узагальненої моделі дисперсійночутливої дифрактометрії неідеальних кристалів довільної товщини проведено аналіз диференційних та інтеґральних картин розсіяння для широкого інтервалу ефективних товщин кристалу. Based on generalized model of dispersion-sensitive diffractometry constructed in the first part for imperfect crystals of arbitrary thickness, the analysis of differential and integral scattering patterns for a wide range of effective thickness of the crystal is carried out.
issn 1816-5230
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/87995
citation_txt Дисперсионная чувствительность картины рассеяния к дефектам в зависимости от толщины кристаллических изделий нанотехнологий. II. Численный эксперимент / В.В. Лизунов, Е.В. Кочелаб, Е.С. Скакунова, Е.Г. Лень, В.Б. Молодкин, С.И. Олиховский, Н.Г. Толмачёв, Б.В. Шелудченко, С.В. Лизунова, Л.Н. Скапа // Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології: Зб. наук. пр. — К.: РВВ ІМФ, 2015. — Т. 13, № 2. — С. 349–370. — Бібліогр.: 19 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT lizunovvv dispersionnaâčuvstvitelʹnostʹkartinyrasseâniâkdefektamvzavisimostiottolŝinykristalličeskihizdeliinanotehnologiiiičislennyiéksperiment
AT kočelabev dispersionnaâčuvstvitelʹnostʹkartinyrasseâniâkdefektamvzavisimostiottolŝinykristalličeskihizdeliinanotehnologiiiičislennyiéksperiment
AT skakunovaes dispersionnaâčuvstvitelʹnostʹkartinyrasseâniâkdefektamvzavisimostiottolŝinykristalličeskihizdeliinanotehnologiiiičislennyiéksperiment
AT lenʹeg dispersionnaâčuvstvitelʹnostʹkartinyrasseâniâkdefektamvzavisimostiottolŝinykristalličeskihizdeliinanotehnologiiiičislennyiéksperiment
AT molodkinvb dispersionnaâčuvstvitelʹnostʹkartinyrasseâniâkdefektamvzavisimostiottolŝinykristalličeskihizdeliinanotehnologiiiičislennyiéksperiment
AT olihovskiisi dispersionnaâčuvstvitelʹnostʹkartinyrasseâniâkdefektamvzavisimostiottolŝinykristalličeskihizdeliinanotehnologiiiičislennyiéksperiment
AT tolmačevng dispersionnaâčuvstvitelʹnostʹkartinyrasseâniâkdefektamvzavisimostiottolŝinykristalličeskihizdeliinanotehnologiiiičislennyiéksperiment
AT šeludčenkobv dispersionnaâčuvstvitelʹnostʹkartinyrasseâniâkdefektamvzavisimostiottolŝinykristalličeskihizdeliinanotehnologiiiičislennyiéksperiment
AT lizunovasv dispersionnaâčuvstvitelʹnostʹkartinyrasseâniâkdefektamvzavisimostiottolŝinykristalličeskihizdeliinanotehnologiiiičislennyiéksperiment
AT skapaln dispersionnaâčuvstvitelʹnostʹkartinyrasseâniâkdefektamvzavisimostiottolŝinykristalličeskihizdeliinanotehnologiiiičislennyiéksperiment
AT lizunovvv thedispersionsensitivityofscatteringpatterntodefectsdependingonthicknessofcrystallineproductsofnanotechnologiesiinumericalexperiment
AT kočelabev thedispersionsensitivityofscatteringpatterntodefectsdependingonthicknessofcrystallineproductsofnanotechnologiesiinumericalexperiment
AT skakunovaes thedispersionsensitivityofscatteringpatterntodefectsdependingonthicknessofcrystallineproductsofnanotechnologiesiinumericalexperiment
AT lenʹeg thedispersionsensitivityofscatteringpatterntodefectsdependingonthicknessofcrystallineproductsofnanotechnologiesiinumericalexperiment
AT molodkinvb thedispersionsensitivityofscatteringpatterntodefectsdependingonthicknessofcrystallineproductsofnanotechnologiesiinumericalexperiment
AT olihovskiisi thedispersionsensitivityofscatteringpatterntodefectsdependingonthicknessofcrystallineproductsofnanotechnologiesiinumericalexperiment
AT tolmačevng thedispersionsensitivityofscatteringpatterntodefectsdependingonthicknessofcrystallineproductsofnanotechnologiesiinumericalexperiment
AT šeludčenkobv thedispersionsensitivityofscatteringpatterntodefectsdependingonthicknessofcrystallineproductsofnanotechnologiesiinumericalexperiment
AT lizunovasv thedispersionsensitivityofscatteringpatterntodefectsdependingonthicknessofcrystallineproductsofnanotechnologiesiinumericalexperiment
AT skapaln thedispersionsensitivityofscatteringpatterntodefectsdependingonthicknessofcrystallineproductsofnanotechnologiesiinumericalexperiment
first_indexed 2025-12-07T13:23:45Z
last_indexed 2025-12-07T13:23:45Z
_version_ 1850855994670710784