Dynamics of one-dimensional electron bunch with the rectangular profile of density, injected into plasma

Dynamics of electron bunch with initially rectangular density profile injected into plasma was studied for 1D model using PIC method. Dependencies of maximal beam density and maximal amplitude of wake wave field upon the model parameters (plasma density and temperature, beam density, velocity and...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Вопросы атомной науки и техники
Datum:2009
Hauptverfasser: Anisimov, I.O., Tolochkevich, Y.M.
Format: Artikel
Sprache:English
Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2009
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/88311
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Dynamics of one-dimensional electron bunch with the rectangular profile of density, injected into plasma / I.O. Anisimov, Y.M. Tolochkevich // Вопросы атомной науки и техники. — 2009. — № 1. — С. 110-112. — Бібліогр.: 9 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-88311
record_format dspace
spelling Anisimov, I.O.
Tolochkevich, Y.M.
2015-11-11T19:52:11Z
2015-11-11T19:52:11Z
2009
Dynamics of one-dimensional electron bunch with the rectangular profile of density, injected into plasma / I.O. Anisimov, Y.M. Tolochkevich // Вопросы атомной науки и техники. — 2009. — № 1. — С. 110-112. — Бібліогр.: 9 назв. — англ.
1562-6016
PACS: 52.35.Fp, 52.40.Mj, 52.65.Rr
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/88311
Dynamics of electron bunch with initially rectangular density profile injected into plasma was studied for 1D model using PIC method. Dependencies of maximal beam density and maximal amplitude of wake wave field upon the model parameters (plasma density and temperature, beam density, velocity and duration) were obtained and interpreted. Deformation index as a qualitative characteristic of deformation of the bunch initial density profile is proposed, its dependencies on the model parameters were studied.
Було досліджено динаміку одновимірного електронного згустку з прямокутним початковим профілем концентрації, інжектованого в однорідну плазму, за допомогою комп’ютерного моделювання методом крупних частинок в комірках. Було пояснено залежність максимальної концентрації електронного згустку і максимальну амплітуду кільватерної хвилі в залежності від параметрів моделі ( концентрації плазми, концентрації згустку, початкової швидкості і тривалості згустку). Вводиться показник деформації в якості характеристики деформації початкового профілю концентрації згустку і досліджується його залежність від параметрів моделі.
Была исследована динамика одномерного электронного сгустка с прямоугольным начальным профилем концентрации, инжектированного в однородную плазму, с применением компьютерного моделирования методом крупных частичек в ячейках. Была объяснена зависимость максимальной концентрации электронного сгустка и максимальная амплитуда кильватерной волны в зависимости от параметров модели ( концентрации плазмы, концентрации сгустка, начальной скорости и продолжительности сгустка). Вводится показатель деформации в качестве характеристики деформации начального профиля концентрации сгустка и исследуется его зависимость от параметров модели.
en
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Плазменная электроника
Dynamics of one-dimensional electron bunch with the rectangular profile of density, injected into plasma
Динаміка одновимірного електронного згустку з прямокутним профілем концентрації, інжектованого у плазму
Динамика одномерного электронного сгустка с прямоугольным профилем концентрации, инжектированного в плазму
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Dynamics of one-dimensional electron bunch with the rectangular profile of density, injected into plasma
spellingShingle Dynamics of one-dimensional electron bunch with the rectangular profile of density, injected into plasma
Anisimov, I.O.
Tolochkevich, Y.M.
Плазменная электроника
title_short Dynamics of one-dimensional electron bunch with the rectangular profile of density, injected into plasma
title_full Dynamics of one-dimensional electron bunch with the rectangular profile of density, injected into plasma
title_fullStr Dynamics of one-dimensional electron bunch with the rectangular profile of density, injected into plasma
title_full_unstemmed Dynamics of one-dimensional electron bunch with the rectangular profile of density, injected into plasma
title_sort dynamics of one-dimensional electron bunch with the rectangular profile of density, injected into plasma
author Anisimov, I.O.
Tolochkevich, Y.M.
author_facet Anisimov, I.O.
Tolochkevich, Y.M.
topic Плазменная электроника
topic_facet Плазменная электроника
publishDate 2009
language English
container_title Вопросы атомной науки и техники
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
format Article
title_alt Динаміка одновимірного електронного згустку з прямокутним профілем концентрації, інжектованого у плазму
Динамика одномерного электронного сгустка с прямоугольным профилем концентрации, инжектированного в плазму
description Dynamics of electron bunch with initially rectangular density profile injected into plasma was studied for 1D model using PIC method. Dependencies of maximal beam density and maximal amplitude of wake wave field upon the model parameters (plasma density and temperature, beam density, velocity and duration) were obtained and interpreted. Deformation index as a qualitative characteristic of deformation of the bunch initial density profile is proposed, its dependencies on the model parameters were studied. Було досліджено динаміку одновимірного електронного згустку з прямокутним початковим профілем концентрації, інжектованого в однорідну плазму, за допомогою комп’ютерного моделювання методом крупних частинок в комірках. Було пояснено залежність максимальної концентрації електронного згустку і максимальну амплітуду кільватерної хвилі в залежності від параметрів моделі ( концентрації плазми, концентрації згустку, початкової швидкості і тривалості згустку). Вводиться показник деформації в якості характеристики деформації початкового профілю концентрації згустку і досліджується його залежність від параметрів моделі. Была исследована динамика одномерного электронного сгустка с прямоугольным начальным профилем концентрации, инжектированного в однородную плазму, с применением компьютерного моделирования методом крупных частичек в ячейках. Была объяснена зависимость максимальной концентрации электронного сгустка и максимальная амплитуда кильватерной волны в зависимости от параметров модели ( концентрации плазмы, концентрации сгустка, начальной скорости и продолжительности сгустка). Вводится показатель деформации в качестве характеристики деформации начального профиля концентрации сгустка и исследуется его зависимость от параметров модели.
issn 1562-6016
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/88311
citation_txt Dynamics of one-dimensional electron bunch with the rectangular profile of density, injected into plasma / I.O. Anisimov, Y.M. Tolochkevich // Вопросы атомной науки и техники. — 2009. — № 1. — С. 110-112. — Бібліогр.: 9 назв. — англ.
work_keys_str_mv AT anisimovio dynamicsofonedimensionalelectronbunchwiththerectangularprofileofdensityinjectedintoplasma
AT tolochkevichym dynamicsofonedimensionalelectronbunchwiththerectangularprofileofdensityinjectedintoplasma
AT anisimovio dinamíkaodnovimírnogoelektronnogozgustkuzprâmokutnimprofílemkoncentracííínžektovanogouplazmu
AT tolochkevichym dinamíkaodnovimírnogoelektronnogozgustkuzprâmokutnimprofílemkoncentracííínžektovanogouplazmu
AT anisimovio dinamikaodnomernogoélektronnogosgustkasprâmougolʹnymprofilemkoncentraciiinžektirovannogovplazmu
AT tolochkevichym dinamikaodnomernogoélektronnogosgustkasprâmougolʹnymprofilemkoncentraciiinžektirovannogovplazmu
first_indexed 2025-12-07T13:23:23Z
last_indexed 2025-12-07T13:23:23Z
_version_ 1850855971111305216