Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift
Наведено результати технологічних випробувань плазмохімічного реактора (ПХР) з замкнутим дрейфом
 електронів, розробленого в ІЯД НАНУ. Досліджена залежність швидкості травлення монокремнію від робочого тиску в
 ПХР. Знайдено, що при незмінному потоці подачі робочого газу в реактор...
Saved in:
| Published in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Date: | 2009 |
| Main Authors: | , , |
| Format: | Article |
| Language: | English |
| Published: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2009
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/88642 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift / O.A. Fedorovich, M.P. Kruglenko, B.P. Polozov // Вопросы атомной науки и техники. — 2009. — № 1. — С. 148-149. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862657125073813504 |
|---|---|
| author | Fedorovich, O.A. Kruglenko, M.P. Polozov, B.P. |
| author_facet | Fedorovich, O.A. Kruglenko, M.P. Polozov, B.P. |
| citation_txt | Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift / O.A. Fedorovich, M.P. Kruglenko, B.P. Polozov // Вопросы атомной науки и техники. — 2009. — № 1. — С. 148-149. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Вопросы атомной науки и техники |
| description | Наведено результати технологічних випробувань плазмохімічного реактора (ПХР) з замкнутим дрейфом
електронів, розробленого в ІЯД НАНУ. Досліджена залежність швидкості травлення монокремнію від робочого тиску в
ПХР. Знайдено, що при незмінному потоці подачі робочого газу в реактор і зміні тиску в ПХР від 10⁻³ до 10⁻¹ Тор
швидкість травлення зростає від 0,7 до 2,5 мкм/хв на проміжку (6…8)·10⁻² Тор. Далі проходить зменшення швидкості
травлення монокремнію при інших незмінних параметрах розряду. Показана нелінійна залежність швидкості травлення
від розходу робочого газу SF₆ з тенденцією насичення при подальшому його збільшенні.
The results of recent technological investigations into the plasmachemical reactor (PCR) with closed electron drift,
developed at the Institute for Nuclear Research (INR) NAS of Ukraine are presented. The dependence of the monosilicon
etching rate on the operating pressure in PCR was investigated. It is shown, that using a constant working gas feed and
varying pressure from 10⁻³ to 10⁻¹ Tоrr, the etching rate in the reactor increases from 0.7 up to 2,5 µm/min in the pressure
interval (6…8)⋅10⁻² Tоrr. Then the monosilicon etching rate decreases with other discharge parameters unchangeable. The
dependence of the etching rate on the working gas (SF₆) flow value at constant pressure is presented. It is shown that this
dependence has a nonlinear character with tendency towards saturation under further gas flow increase.
Наведено результати технологічних випробувань плазмохімічного реактора (ПХР) з замкнутим дрейфом
електронів, розробленого в ІЯД НАНУ. Досліджена залежність швидкості травлення монокремнію від робочого тиску в
ПХР. Знайдено, що при незмінному потоці подачі робочого газу в реактор і зміні тиску в ПХР від 10⁻³ до 10⁻¹ Тор
швидкість травлення зростає від 0,7 до 2,5 мкм/хв на проміжку (6…8)·10⁻² Тор. Далі проходить зменшення швидкості
травлення монокремнію при інших незмінних параметрах розряду. Показана нелінійна залежність швидкості травлення
від розходу робочого газу SF₆ з тенденцією насичення при подальшому його збільшенні.
Приведены результаты технологических исследований плазмохимического реактора (ПХР) с замкнутым дрейфом
электронов, разработанного в ИЯИ НАНУ. Исследована зависимость скорости травления монокремния от рабочего
давления в ПХР: при неизменном потоке подачи рабочего газа в реактор и изменении давления в ПХР от 10⁻³ до
10⁻¹ Торр скорость травления возрастает от 0,7 до 2,5 мкм/мин на участке (6…8)·10⁻² Торр. Далее происходит
уменьшение скорости травления монокремния. Приведена зависимость скорости травления от величины потока SF₆
при фиксированном давлении. Показана нелинейная зависимость скорости травления от расхода рабочего газа с
тенденцией насыщения при дальнейшем увеличении газового потока.
|
| first_indexed | 2025-12-02T06:11:35Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-88642 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1562-6016 |
| language | English |
| last_indexed | 2025-12-02T06:11:35Z |
| publishDate | 2009 |
| publisher | Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Fedorovich, O.A. Kruglenko, M.P. Polozov, B.P. 2015-11-19T21:03:26Z 2015-11-19T21:03:26Z 2009 Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift / O.A. Fedorovich, M.P. Kruglenko, B.P. Polozov // Вопросы атомной науки и техники. — 2009. — № 1. — С. 148-149. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.77. Bn, 81.65.Cf https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/88642 Наведено результати технологічних випробувань плазмохімічного реактора (ПХР) з замкнутим дрейфом
 електронів, розробленого в ІЯД НАНУ. Досліджена залежність швидкості травлення монокремнію від робочого тиску в
 ПХР. Знайдено, що при незмінному потоці подачі робочого газу в реактор і зміні тиску в ПХР від 10⁻³ до 10⁻¹ Тор
 швидкість травлення зростає від 0,7 до 2,5 мкм/хв на проміжку (6…8)·10⁻² Тор. Далі проходить зменшення швидкості
 травлення монокремнію при інших незмінних параметрах розряду. Показана нелінійна залежність швидкості травлення
 від розходу робочого газу SF₆ з тенденцією насичення при подальшому його збільшенні. The results of recent technological investigations into the plasmachemical reactor (PCR) with closed electron drift,
 developed at the Institute for Nuclear Research (INR) NAS of Ukraine are presented. The dependence of the monosilicon
 etching rate on the operating pressure in PCR was investigated. It is shown, that using a constant working gas feed and
 varying pressure from 10⁻³ to 10⁻¹ Tоrr, the etching rate in the reactor increases from 0.7 up to 2,5 µm/min in the pressure
 interval (6…8)⋅10⁻² Tоrr. Then the monosilicon etching rate decreases with other discharge parameters unchangeable. The
 dependence of the etching rate on the working gas (SF₆) flow value at constant pressure is presented. It is shown that this
 dependence has a nonlinear character with tendency towards saturation under further gas flow increase. Наведено результати технологічних випробувань плазмохімічного реактора (ПХР) з замкнутим дрейфом
 електронів, розробленого в ІЯД НАНУ. Досліджена залежність швидкості травлення монокремнію від робочого тиску в
 ПХР. Знайдено, що при незмінному потоці подачі робочого газу в реактор і зміні тиску в ПХР від 10⁻³ до 10⁻¹ Тор
 швидкість травлення зростає від 0,7 до 2,5 мкм/хв на проміжку (6…8)·10⁻² Тор. Далі проходить зменшення швидкості
 травлення монокремнію при інших незмінних параметрах розряду. Показана нелінійна залежність швидкості травлення
 від розходу робочого газу SF₆ з тенденцією насичення при подальшому його збільшенні. Приведены результаты технологических исследований плазмохимического реактора (ПХР) с замкнутым дрейфом
 электронов, разработанного в ИЯИ НАНУ. Исследована зависимость скорости травления монокремния от рабочего
 давления в ПХР: при неизменном потоке подачи рабочего газа в реактор и изменении давления в ПХР от 10⁻³ до
 10⁻¹ Торр скорость травления возрастает от 0,7 до 2,5 мкм/мин на участке (6…8)·10⁻² Торр. Далее происходит
 уменьшение скорости травления монокремния. Приведена зависимость скорости травления от величины потока SF₆
 при фиксированном давлении. Показана нелинейная зависимость скорости травления от расхода рабочего газа с
 тенденцией насыщения при дальнейшем увеличении газового потока. en Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України Вопросы атомной науки и техники Низкотемпературная плазма и плазменные технологии Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift Технологічні випробування плазмохімічного реактора з замкнутим дрейфом електронів Технологические испытания плазмохимического реактора с замкнутым дрейфом электронов Article published earlier |
| spellingShingle | Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift Fedorovich, O.A. Kruglenko, M.P. Polozov, B.P. Низкотемпературная плазма и плазменные технологии |
| title | Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift |
| title_alt | Технологічні випробування плазмохімічного реактора з замкнутим дрейфом електронів Технологические испытания плазмохимического реактора с замкнутым дрейфом электронов |
| title_full | Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift |
| title_fullStr | Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift |
| title_full_unstemmed | Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift |
| title_short | Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift |
| title_sort | technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift |
| topic | Низкотемпературная плазма и плазменные технологии |
| topic_facet | Низкотемпературная плазма и плазменные технологии |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/88642 |
| work_keys_str_mv | AT fedorovichoa technologicalstudiesoftheplasmachemicalreactorwithslosedelectrondrift AT kruglenkomp technologicalstudiesoftheplasmachemicalreactorwithslosedelectrondrift AT polozovbp technologicalstudiesoftheplasmachemicalreactorwithslosedelectrondrift AT fedorovichoa tehnologíčníviprobuvannâplazmohímíčnogoreaktorazzamknutimdreifomelektronív AT kruglenkomp tehnologíčníviprobuvannâplazmohímíčnogoreaktorazzamknutimdreifomelektronív AT polozovbp tehnologíčníviprobuvannâplazmohímíčnogoreaktorazzamknutimdreifomelektronív AT fedorovichoa tehnologičeskieispytaniâplazmohimičeskogoreaktoraszamknutymdreifomélektronov AT kruglenkomp tehnologičeskieispytaniâplazmohimičeskogoreaktoraszamknutymdreifomélektronov AT polozovbp tehnologičeskieispytaniâplazmohimičeskogoreaktoraszamknutymdreifomélektronov |