Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift

Наведено результати технологічних випробувань плазмохімічного реактора (ПХР) з замкнутим дрейфом електронів, розробленого в ІЯД НАНУ. Досліджена залежність швидкості травлення монокремнію від робочого тиску в ПХР. Знайдено, що при незмінному потоці подачі робочого газу в реактор і зміні тиску в...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Вопросы атомной науки и техники
Дата:2009
Автори: Fedorovich, O.A., Kruglenko, M.P., Polozov, B.P.
Формат: Стаття
Мова:English
Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2009
Теми:
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/88642
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift / O.A. Fedorovich, M.P. Kruglenko, B.P. Polozov // Вопросы атомной науки и техники. — 2009. — № 1. — С. 148-149. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-88642
record_format dspace
spelling Fedorovich, O.A.
Kruglenko, M.P.
Polozov, B.P.
2015-11-19T21:03:26Z
2015-11-19T21:03:26Z
2009
Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift / O.A. Fedorovich, M.P. Kruglenko, B.P. Polozov // Вопросы атомной науки и техники. — 2009. — № 1. — С. 148-149. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.
1562-6016
PACS: 52.77. Bn, 81.65.Cf
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/88642
Наведено результати технологічних випробувань плазмохімічного реактора (ПХР) з замкнутим дрейфом електронів, розробленого в ІЯД НАНУ. Досліджена залежність швидкості травлення монокремнію від робочого тиску в ПХР. Знайдено, що при незмінному потоці подачі робочого газу в реактор і зміні тиску в ПХР від 10⁻³ до 10⁻¹ Тор швидкість травлення зростає від 0,7 до 2,5 мкм/хв на проміжку (6…8)·10⁻² Тор. Далі проходить зменшення швидкості травлення монокремнію при інших незмінних параметрах розряду. Показана нелінійна залежність швидкості травлення від розходу робочого газу SF₆ з тенденцією насичення при подальшому його збільшенні.
The results of recent technological investigations into the plasmachemical reactor (PCR) with closed electron drift, developed at the Institute for Nuclear Research (INR) NAS of Ukraine are presented. The dependence of the monosilicon etching rate on the operating pressure in PCR was investigated. It is shown, that using a constant working gas feed and varying pressure from 10⁻³ to 10⁻¹ Tоrr, the etching rate in the reactor increases from 0.7 up to 2,5 µm/min in the pressure interval (6…8)⋅10⁻² Tоrr. Then the monosilicon etching rate decreases with other discharge parameters unchangeable. The dependence of the etching rate on the working gas (SF₆) flow value at constant pressure is presented. It is shown that this dependence has a nonlinear character with tendency towards saturation under further gas flow increase.
Наведено результати технологічних випробувань плазмохімічного реактора (ПХР) з замкнутим дрейфом електронів, розробленого в ІЯД НАНУ. Досліджена залежність швидкості травлення монокремнію від робочого тиску в ПХР. Знайдено, що при незмінному потоці подачі робочого газу в реактор і зміні тиску в ПХР від 10⁻³ до 10⁻¹ Тор швидкість травлення зростає від 0,7 до 2,5 мкм/хв на проміжку (6…8)·10⁻² Тор. Далі проходить зменшення швидкості травлення монокремнію при інших незмінних параметрах розряду. Показана нелінійна залежність швидкості травлення від розходу робочого газу SF₆ з тенденцією насичення при подальшому його збільшенні.
Приведены результаты технологических исследований плазмохимического реактора (ПХР) с замкнутым дрейфом электронов, разработанного в ИЯИ НАНУ. Исследована зависимость скорости травления монокремния от рабочего давления в ПХР: при неизменном потоке подачи рабочего газа в реактор и изменении давления в ПХР от 10⁻³ до 10⁻¹ Торр скорость травления возрастает от 0,7 до 2,5 мкм/мин на участке (6…8)·10⁻² Торр. Далее происходит уменьшение скорости травления монокремния. Приведена зависимость скорости травления от величины потока SF₆ при фиксированном давлении. Показана нелинейная зависимость скорости травления от расхода рабочего газа с тенденцией насыщения при дальнейшем увеличении газового потока.
en
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
Вопросы атомной науки и техники
Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift
Технологічні випробування плазмохімічного реактора з замкнутим дрейфом електронів
Технологические испытания плазмохимического реактора с замкнутым дрейфом электронов
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift
spellingShingle Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift
Fedorovich, O.A.
Kruglenko, M.P.
Polozov, B.P.
Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
title_short Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift
title_full Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift
title_fullStr Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift
title_full_unstemmed Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift
title_sort technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift
author Fedorovich, O.A.
Kruglenko, M.P.
Polozov, B.P.
author_facet Fedorovich, O.A.
Kruglenko, M.P.
Polozov, B.P.
topic Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
topic_facet Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
publishDate 2009
language English
container_title Вопросы атомной науки и техники
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
format Article
title_alt Технологічні випробування плазмохімічного реактора з замкнутим дрейфом електронів
Технологические испытания плазмохимического реактора с замкнутым дрейфом электронов
description Наведено результати технологічних випробувань плазмохімічного реактора (ПХР) з замкнутим дрейфом електронів, розробленого в ІЯД НАНУ. Досліджена залежність швидкості травлення монокремнію від робочого тиску в ПХР. Знайдено, що при незмінному потоці подачі робочого газу в реактор і зміні тиску в ПХР від 10⁻³ до 10⁻¹ Тор швидкість травлення зростає від 0,7 до 2,5 мкм/хв на проміжку (6…8)·10⁻² Тор. Далі проходить зменшення швидкості травлення монокремнію при інших незмінних параметрах розряду. Показана нелінійна залежність швидкості травлення від розходу робочого газу SF₆ з тенденцією насичення при подальшому його збільшенні. The results of recent technological investigations into the plasmachemical reactor (PCR) with closed electron drift, developed at the Institute for Nuclear Research (INR) NAS of Ukraine are presented. The dependence of the monosilicon etching rate on the operating pressure in PCR was investigated. It is shown, that using a constant working gas feed and varying pressure from 10⁻³ to 10⁻¹ Tоrr, the etching rate in the reactor increases from 0.7 up to 2,5 µm/min in the pressure interval (6…8)⋅10⁻² Tоrr. Then the monosilicon etching rate decreases with other discharge parameters unchangeable. The dependence of the etching rate on the working gas (SF₆) flow value at constant pressure is presented. It is shown that this dependence has a nonlinear character with tendency towards saturation under further gas flow increase. Наведено результати технологічних випробувань плазмохімічного реактора (ПХР) з замкнутим дрейфом електронів, розробленого в ІЯД НАНУ. Досліджена залежність швидкості травлення монокремнію від робочого тиску в ПХР. Знайдено, що при незмінному потоці подачі робочого газу в реактор і зміні тиску в ПХР від 10⁻³ до 10⁻¹ Тор швидкість травлення зростає від 0,7 до 2,5 мкм/хв на проміжку (6…8)·10⁻² Тор. Далі проходить зменшення швидкості травлення монокремнію при інших незмінних параметрах розряду. Показана нелінійна залежність швидкості травлення від розходу робочого газу SF₆ з тенденцією насичення при подальшому його збільшенні. Приведены результаты технологических исследований плазмохимического реактора (ПХР) с замкнутым дрейфом электронов, разработанного в ИЯИ НАНУ. Исследована зависимость скорости травления монокремния от рабочего давления в ПХР: при неизменном потоке подачи рабочего газа в реактор и изменении давления в ПХР от 10⁻³ до 10⁻¹ Торр скорость травления возрастает от 0,7 до 2,5 мкм/мин на участке (6…8)·10⁻² Торр. Далее происходит уменьшение скорости травления монокремния. Приведена зависимость скорости травления от величины потока SF₆ при фиксированном давлении. Показана нелинейная зависимость скорости травления от расхода рабочего газа с тенденцией насыщения при дальнейшем увеличении газового потока.
issn 1562-6016
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/88642
citation_txt Technological studies of the plasmachemical reactor with сlosed electron drift / O.A. Fedorovich, M.P. Kruglenko, B.P. Polozov // Вопросы атомной науки и техники. — 2009. — № 1. — С. 148-149. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.
work_keys_str_mv AT fedorovichoa technologicalstudiesoftheplasmachemicalreactorwithslosedelectrondrift
AT kruglenkomp technologicalstudiesoftheplasmachemicalreactorwithslosedelectrondrift
AT polozovbp technologicalstudiesoftheplasmachemicalreactorwithslosedelectrondrift
AT fedorovichoa tehnologíčníviprobuvannâplazmohímíčnogoreaktorazzamknutimdreifomelektronív
AT kruglenkomp tehnologíčníviprobuvannâplazmohímíčnogoreaktorazzamknutimdreifomelektronív
AT polozovbp tehnologíčníviprobuvannâplazmohímíčnogoreaktorazzamknutimdreifomelektronív
AT fedorovichoa tehnologičeskieispytaniâplazmohimičeskogoreaktoraszamknutymdreifomélektronov
AT kruglenkomp tehnologičeskieispytaniâplazmohimičeskogoreaktoraszamknutymdreifomélektronov
AT polozovbp tehnologičeskieispytaniâplazmohimičeskogoreaktoraszamknutymdreifomélektronov
first_indexed 2025-12-02T06:11:35Z
last_indexed 2025-12-02T06:11:35Z
_version_ 1850861672128839680