Особенности плавления электродной проволоки при наплавке способом плазма-МИГ

Определено влияние полоцилиндрической дуги при наплавке способом плазма-МИГ на характер плавления порошковой проволоки, аксиально подаваемой через канал плазмотрона. Показано ее положительное воздействие на равномерность плавления сердечника и металлической оболочки проволоки. Показано, что наплавка...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Автоматическая сварка
Datum:2001
ISSN:0005-111X
Hauptverfasser: Чигарев, В.В., Макаренко, Н.А., Кондрашов, К.А., Воропай, Н.М.
Format: Artikel
Sprache:Russisch
Veröffentlicht: Інститут електрозварювання ім. Є.О. Патона НАН України 2001
Schlagworte:
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/88847
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Особенности плавления электродной проволоки при наплавке способом плазма-МИГ / В.В. Чигарев, Н.А. Макаренко, К.А. Кондрашов, Н.М. Воропай // Автоматическая сварка. — 2001. — № 8 (581). — С. 12-15. — Бібліогр.: 10 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Beschreibung
Zusammenfassung:Определено влияние полоцилиндрической дуги при наплавке способом плазма-МИГ на характер плавления порошковой проволоки, аксиально подаваемой через канал плазмотрона. Показано ее положительное воздействие на равномерность плавления сердечника и металлической оболочки проволоки. Показано, что наплавка плазма-МИГ может осуществляться при пониженном токе плавящегося электрода без коротких замыканий дугового промежутка и минимальном проплавлении основного металла. The influence of a hollow non-consumable electrode arc in surfacing by the plasma-MIG process on the mode of melting of flux-cored wire axially fed through the plasmatron channel, is determined. Its positive effect on the uniformity of melting of the wire core and metal sheath is established. It is shown that surfacing by plasma-MIG process can be performed at a lower current of the consumable electrode without short-circuiting of the arc gap and with minimal penetration of the base metal.
ISSN:0005-111X