Формирование неоднородной структуры в приповерхностных слоях NiTi в результате ионной имплантации
В работе представлены результаты исследования структуры и химического состава NiTi после имплантации ионами N⁺, N⁺ и Ni⁺. Предложена модель процессов, происходящих в приповерхностных слоях NiTi.
 Показано, что в приповерхностном слое формируется двойной слой, состоящий из частично аморфизир...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Datum: | 2009 |
| Hauptverfasser: | , , , , , , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russisch |
| Veröffentlicht: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2009
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/90767 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Формирование неоднородной структуры в приповерхностных слоях NiTi в результате ионной имплантации / А.Д. Погребняк, N. Levintant , Л.В. Маликов , В.М. Береснев , С.Н. Братушка, Н.К. Ердыбаева , T. Czeppe , Zb. Zwiatek , M. Micleales // Вопросы атомной науки и техники. — 2009. — № 6. — С. 162-168. — Бібліогр.: 21 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Zusammenfassung: | В работе представлены результаты исследования структуры и химического состава NiTi после имплантации ионами N⁺, N⁺ и Ni⁺. Предложена модель процессов, происходящих в приповерхностных слоях NiTi.
Показано, что в приповерхностном слое формируется двойной слой, состоящий из частично аморфизированной микроструктуры, обогащенной Ti и Ni, под которым находится слой микрокристаллической структуры, обогащенный Ti.
Представлені результати дослідження структури і хімічного складу NiTi після імплантації іонами N⁺, N⁺ і
Ni⁺. Запропонована модель процесів, що відбуваються в приповерхневих шарах NiTi. Показано, що в приповерхневому шарі формується подвійний шар, який складається з частково-аморфізованої мікроструктури, збагаченої Ti і Ni, під яким знаходиться шар мікрокристалічної структури, збагачений Ti.
In work results researches of structure and chemical composition of NiTi, are presented after implantation, N⁺ and Ni⁺ the ions of N⁺. The model of processes, what be going on in the near-surface layers of NiTi is offered. Showed that a double layer, consisting of partly amorphous microstructure, enriched Ti and Ni, is formed in a nearsurface
layer, which a layer of microcrystalline structure is under, enriched Ti.
|
|---|---|
| ISSN: | 1562-6016 |