Формирование неоднородной структуры в приповерхностных слоях NiTi в результате ионной имплантации

• Опубліковано в: : Вопросы атомной науки и техники
• Дата: 2009
• Автори: Погребняк, А.Д., Levintant, N., Маликов, Л.В., Береснев, В.М., Братушка, С.Н., Ердыбаева, Н.К., Czeppe, T., Zwiatek, Zb., Micleales, M.
• Формат: Стаття
• Мова: Russian
• Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2009
• Теми: Физика и технология конструкционных материалов
• Онлайн доступ: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/90767
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Формирование неоднородной структуры в приповерхностных слоях NiTi в результате ионной имплантации / А.Д. Погребняк, N. Levintant , Л.В. Маликов , В.М. Береснев , С.Н. Братушка, Н.К. Ердыбаева , T. Czeppe , Zb. Zwiatek , M. Micleales // Вопросы атомной науки и техники. — 2009. — № 6. — С. 162-168. — Бібліогр.: 21 назв. — рос.

В работе представлены результаты исследования структуры и химического состава NiTi после имплантации ионами N⁺, N⁺ и Ni⁺. Предложена модель процессов, происходящих в приповерхностных слоях NiTi. Показано, что в приповерхностном слое формируется двойной слой, состоящий из частично аморфизированной микроструктуры, обогащенной Ti и Ni, под которым находится слой микрокристаллической структуры, обогащенный Ti. Представлені результати дослідження структури і хімічного складу NiTi після імплантації іонами N⁺, N⁺ і Ni⁺. Запропонована модель процесів, що відбуваються в приповерхневих шарах NiTi. Показано, що в приповерхневому шарі формується подвійний шар, який складається з частково-аморфізованої мікроструктури, збагаченої Ti і Ni, під яким знаходиться шар мікрокристалічної структури, збагачений Ti. In work results researches of structure and chemical composition of NiTi, are presented after implantation, N⁺ and Ni⁺ the ions of N⁺. The model of processes, what be going on in the near-surface layers of NiTi is offered. Showed that a double layer, consisting of partly amorphous microstructure, enriched Ti and Ni, is formed in a nearsurface layer, which a layer of microcrystalline structure is under, enriched Ti.