Synthesis of Ti-Si and Ti-Si-N coatings by condensation of filtered vacuum-arc plasma
Synthesis of Ti-Si and Ti-Si-N coatings using a filtered vacuum-arc plasma source with consumable titaniumsilicon cathode was investigated. The thickness of films and their elemental composition were defined by means of the X-ray fluorescent analysis. It has been established, that the silicon conc...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Вопросы атомной науки и техники |
|---|---|
| Дата: | 2009 |
| Автори: | Aksyonov, D.S., Aksenov, I.I., Luchaninov, A.A., Reshetnyak, E.N., Strel’nitskij, V.E. |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2009
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/90791 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Synthesis of Ti-Si and Ti-Si-N coatings by condensation of filtered vacuum-arc plasma / D.S. Aksyonov, I.I. Aksenov, A.A. Luchaninov, E.N. Reshetnyak, V.E. Strel’nitskij // Вопросы атомной науки и техники. — 2009. — № 6. — С. 268-272. — Бібліогр.: 4 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
-
Composition adjustment of vacuum-arc Ti-Al-N films, deposited with use of two-channel filter
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2011) -
Plasma streams mixing in two-channel T-shaped magnetic filter
за авторством: Aksyonov, D.S., та інші
Опубліковано: (2011) -
High-productive source of the cathodic vacuum-arc plasma with the rectilinear filter
за авторством: Vasylyev, V.V., та інші
Опубліковано: (2013-10-23) -
Structure and stress state of TiN and Ti₀.₅₋xAl₀.₅YxN coatings prepared by the PIII&D technique from filtered vacuum-arc plasma
за авторством: Reshetnyak, E.N.
Опубліковано: (2014) -
Corrosion durability of nanostructured TiAlYN coatings, deposited by PIII&D method from filtered vacuum-arc cathodic plasma
за авторством: Vasyliev, V.V., та інші
Опубліковано: (2015)