Charging processes of metal macroparticles in the low-temperature plasma at presence of high-energy electron beam

• Опубліковано в: : Вопросы атомной науки и техники
• Дата: 2011
• Автори: Bizyukov, A.A., Sereda, K.N., Chibisov, A.D.
• Формат: Стаття
• Мова: English
• Опубліковано: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2011
• Теми: Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
• Онлайн доступ: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/90891
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Charging processes of metal macroparticles in the low-temperature plasma at presence of high-energy electron beam / A.A. Bizyukov, K.N. Sereda, A.D. Chibisov // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 1. — С. 107-109. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.

The dependences of potential of macroparticle from the parameters and characteristics of plasma-beam system are studied. The modeling of charging processes of the macroparticles in approach of ions and electrons orbit motion limited theory made. The effect of electron emission from macroparticle has been investigated taking into account the space charge on potential of macroparticle. Вивчено залежність потенціалу макрочастинки в пучково-плазмовій системі від її параметрів та характеристик макрочастинки. Моделювання процесу зарядки проводилося в наближенні орбітальної моделі руху іонів й електронів плазми, а також електронів пучка. Досліджено вплив електронної емісії з мікрочасток, розігрітих до високих температур, на величину потенціалу з урахуванням обмеження емісійного електронного струму власним об'ємним зарядом. Изучена зависимость потенциала макрочастицы в пучково-плазменной системе от ее параметров и характеристик макрочастицы. Моделирование процесса зарядки проводилось в приближении орбитальной модели движения ионов и электронов плазмы, а также электронов пучка. Исследовано влияние электронной эмиссии с макрочастиц, разогретых до высоких температур, на величину потенциала c учетом ограничения эмиссионного электронного тока собственным объемным зарядом.