Microplasma discharge striation in the PDP cell

• Veröffentlicht in: Вопросы атомной науки и техники
• Datum: 2011
• Hauptverfasser: Kelnyk, O.I., Samchuk, O.V.
• Format: Artikel
• Sprache: English
• Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2011
• Schlagworte: Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/90949
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Microplasma discharge striation in the PDP cell / O.I. Kelnyk, O.V. Samchuk // Вопросы атомной науки и техники. — 2011. — № 1. — С. 134-136. — Бібліогр.: 7 назв. — англ.

Striation structures formation was investigated for microplasma discharge inside coplanar dielectric cell via particles in cells (PiC) method. These inhomogeneities appear in the discharge current pulse forefront before the sharp maximum of electron current to coplanar anode. Striation structures are formed as ion bunches and they are related with the disturbance of the potential relief near the address electrode. Formation of these structures corresponds to the increase of electrons' number in the high energy band. Досліджувалося утворення неоднорідностей для мікроплазмового розряду в копланарній діелектричній комірці шляхом моделювання методом великих частинок (PiC). Такі неоднорідності виникають на передньому фронті імпульсу розрядного струму перед різким максимумом електронного струму на копланарному аноді. Неоднорідності формуються як іонні згустки і пов'язані зі збуренням профілю потенціалу поблизу адресного електроду. Формування таких структур пов'язане із збільшенням кількості електронів у високоенергетичній частині розподілу за швидкостями. Исследовалось образование неоднородностей для микроплазменного разряда в копланарной диэлектрической ячейке путем моделирования методом крупных частиц (PiC). Такие неоднородности возникают на переднем фронте импульса разрядного тока перед резким максимумом электронного тока на копланарном аноде. Неоднородности формируются как ионные сгустки и связаны с возмущением профиля потенциала вблизи адресного электрода. Формирование таких структур связано с возрастанием количества электронов в высокоэнергетической части распределения по скоростям.