Dynamic of wall currents in pulse plasma diode in tin vapor - Tseluyko, A.F.; Lazurik, V.T.; Ryabchikov, D.L.; Hassanein, A.; Borgun, I.V.; Sereda, I.N.; Borisko, S.V. (Вопросы атомной науки и техники, 2011)
In the paper the level of high-current pulse discharge plasma influence on the chamber wall is carried out, that is
important for position choosing of the nanolithographer first collecting mirror with gas-discharge radiation source. In
the high-current pulse discharge in tin vapor the dynamic of wall currents space distribution and power of wall effect
were experimentally investigated. It has been shown, that the ring area in anode flat is undergone by main influence. It
was detected the rapid decreasing of energetic wall effect at distance from discharge axis increasing from 8 to 12 cm. Досліджується рівень впливу плазми сильнострумового імпульсного розряду на стінку камери, що важливо
для вибору місця розташування першого дзеркала нанолітографу, що збирає з газорозрядним джерелом
випромінювання. В сильнострумовому імпульсному розряді в парах олова експериментально вивчена динаміка
просторового розподілення пристінних струмів та потужності впливу на стінку. Показано, що найбільшому
впливу підлягає кільцева область в площині аноду. Виявлено різкий спад енергетичного впливу на стінку при
збільшені відстані від осі розряду з 8 до 12 см. Исследуется уровень воздействия плазмы сильноточного импульсного разряда на стенку камеры, что важно
для выбора месторасположения первого собирающего зеркала нанолитографа с газоразрядным источником
излучения. В сильноточном импульсном разряде в парах олова экспериментально изучена динамика
пространственного распределения пристеночных токов и мощности воздействия на стенку. Показано, что
наибольшему воздействию подвергается кольцевая область в плоскости анода. Обнаружено резкое спадение
энергетического воздействия на стенку при увеличении расстояния от оси разряда с 8 до 12 см.