Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si
Изучены структурные изменения в микрослойных покрытиях (Ti,Cr)-Si в процессе изотермических отжигов при температурах 800, 1000 и 1100 °С. Микрослойную структуру получали путем электронно-лучевого испарения двух слитков (Ti-Cr и Si) и конденсации в вакууме несмешивающихся паровых потоков. Показано, ч...
Saved in:
| Published in: | Современная электрометаллургия |
|---|---|
| Date: | 2003 |
| Main Authors: | , , , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Інститут електрозварювання ім. Є.О. Патона НАН України
2003
|
| Subjects: | |
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/94056 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si / Б.А. Мовчан, А.И. Устинов, С.С. Полищук, Т.В. Мельниченко // Современная электрометаллургия. — 2003. — № 1. — С. 15-18. — Бібліогр.: 13 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862539271509901312 |
|---|---|
| author | Мовчан, Б.А. Устинов, А.И. Полищук, С.С. Мельниченко, Т.В. |
| author_facet | Мовчан, Б.А. Устинов, А.И. Полищук, С.С. Мельниченко, Т.В. |
| citation_txt | Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si / Б.А. Мовчан, А.И. Устинов, С.С. Полищук, Т.В. Мельниченко // Современная электрометаллургия. — 2003. — № 1. — С. 15-18. — Бібліогр.: 13 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Современная электрометаллургия |
| description | Изучены структурные изменения в микрослойных покрытиях (Ti,Cr)-Si в процессе изотермических отжигов при температурах 800, 1000 и 1100 °С. Микрослойную структуру получали путем электронно-лучевого испарения двух слитков (Ti-Cr и Si) и конденсации в вакууме несмешивающихся паровых потоков. Показано, что при диффузионном взаимодействии между слоями микрослойная структура покрытия разрушается и образуется структура на основе икосаэдрической (или аппроксимантной к ней) фазы.
|
| first_indexed | 2025-11-24T15:13:10Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-94056 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 0233-7681 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-11-24T15:13:10Z |
| publishDate | 2003 |
| publisher | Інститут електрозварювання ім. Є.О. Патона НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Мовчан, Б.А. Устинов, А.И. Полищук, С.С. Мельниченко, Т.В. 2016-02-08T12:53:15Z 2016-02-08T12:53:15Z 2003 Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si / Б.А. Мовчан, А.И. Устинов, С.С. Полищук, Т.В. Мельниченко // Современная электрометаллургия. — 2003. — № 1. — С. 15-18. — Бібліогр.: 13 назв. — рос. 0233-7681 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/94056 Изучены структурные изменения в микрослойных покрытиях (Ti,Cr)-Si в процессе изотермических отжигов при температурах 800, 1000 и 1100 °С. Микрослойную структуру получали путем электронно-лучевого испарения двух слитков (Ti-Cr и Si) и конденсации в вакууме несмешивающихся паровых потоков. Показано, что при диффузионном взаимодействии между слоями микрослойная структура покрытия разрушается и образуется структура на основе икосаэдрической (или аппроксимантной к ней) фазы. ru Інститут електрозварювання ім. Є.О. Патона НАН України Современная электрометаллургия Электронно-лучевые процессы Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si Formation of quasi-crystalline structures in annealing of microlayer coatings (Ti, Cr)-Si Article published earlier |
| spellingShingle | Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si Мовчан, Б.А. Устинов, А.И. Полищук, С.С. Мельниченко, Т.В. Электронно-лучевые процессы |
| title | Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si |
| title_alt | Formation of quasi-crystalline structures in annealing of microlayer coatings (Ti, Cr)-Si |
| title_full | Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si |
| title_fullStr | Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si |
| title_full_unstemmed | Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si |
| title_short | Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si |
| title_sort | образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (ti, cr)-si |
| topic | Электронно-лучевые процессы |
| topic_facet | Электронно-лучевые процессы |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/94056 |
| work_keys_str_mv | AT movčanba obrazovaniekvazikristalličeskihstrukturpriotžigemikrosloinyhpokrytiiticrsi AT ustinovai obrazovaniekvazikristalličeskihstrukturpriotžigemikrosloinyhpokrytiiticrsi AT poliŝukss obrazovaniekvazikristalličeskihstrukturpriotžigemikrosloinyhpokrytiiticrsi AT melʹničenkotv obrazovaniekvazikristalličeskihstrukturpriotžigemikrosloinyhpokrytiiticrsi AT movčanba formationofquasicrystallinestructuresinannealingofmicrolayercoatingsticrsi AT ustinovai formationofquasicrystallinestructuresinannealingofmicrolayercoatingsticrsi AT poliŝukss formationofquasicrystallinestructuresinannealingofmicrolayercoatingsticrsi AT melʹničenkotv formationofquasicrystallinestructuresinannealingofmicrolayercoatingsticrsi |