Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si
Изучены структурные изменения в микрослойных покрытиях (Ti,Cr)-Si в процессе изотермических отжигов при температурах 800, 1000 и 1100 °С. Микрослойную структуру получали путем электронно-лучевого испарения двух слитков (Ti-Cr и Si) и конденсации в вакууме несмешивающихся паровых потоков. Показано, ч...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Современная электрометаллургия |
|---|---|
| Дата: | 2003 |
| Автори: | , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Russian |
| Опубліковано: |
Інститут електрозварювання ім. Є.О. Патона НАН України
2003
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/94056 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si / Б.А. Мовчан, А.И. Устинов, С.С. Полищук, Т.В. Мельниченко // Современная электрометаллургия. — 2003. — № 1. — С. 15-18. — Бібліогр.: 13 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-94056 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Мовчан, Б.А. Устинов, А.И. Полищук, С.С. Мельниченко, Т.В. 2016-02-08T12:53:15Z 2016-02-08T12:53:15Z 2003 Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si / Б.А. Мовчан, А.И. Устинов, С.С. Полищук, Т.В. Мельниченко // Современная электрометаллургия. — 2003. — № 1. — С. 15-18. — Бібліогр.: 13 назв. — рос. 0233-7681 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/94056 Изучены структурные изменения в микрослойных покрытиях (Ti,Cr)-Si в процессе изотермических отжигов при температурах 800, 1000 и 1100 °С. Микрослойную структуру получали путем электронно-лучевого испарения двух слитков (Ti-Cr и Si) и конденсации в вакууме несмешивающихся паровых потоков. Показано, что при диффузионном взаимодействии между слоями микрослойная структура покрытия разрушается и образуется структура на основе икосаэдрической (или аппроксимантной к ней) фазы. ru Інститут електрозварювання ім. Є.О. Патона НАН України Современная электрометаллургия Электронно-лучевые процессы Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si Formation of quasi-crystalline structures in annealing of microlayer coatings (Ti, Cr)-Si Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si |
| spellingShingle |
Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si Мовчан, Б.А. Устинов, А.И. Полищук, С.С. Мельниченко, Т.В. Электронно-лучевые процессы |
| title_short |
Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si |
| title_full |
Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si |
| title_fullStr |
Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si |
| title_full_unstemmed |
Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si |
| title_sort |
образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (ti, cr)-si |
| author |
Мовчан, Б.А. Устинов, А.И. Полищук, С.С. Мельниченко, Т.В. |
| author_facet |
Мовчан, Б.А. Устинов, А.И. Полищук, С.С. Мельниченко, Т.В. |
| topic |
Электронно-лучевые процессы |
| topic_facet |
Электронно-лучевые процессы |
| publishDate |
2003 |
| language |
Russian |
| container_title |
Современная электрометаллургия |
| publisher |
Інститут електрозварювання ім. Є.О. Патона НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Formation of quasi-crystalline structures in annealing of microlayer coatings (Ti, Cr)-Si |
| description |
Изучены структурные изменения в микрослойных покрытиях (Ti,Cr)-Si в процессе изотермических отжигов при температурах 800, 1000 и 1100 °С. Микрослойную структуру получали путем электронно-лучевого испарения двух слитков (Ti-Cr и Si) и конденсации в вакууме несмешивающихся паровых потоков. Показано, что при диффузионном взаимодействии между слоями микрослойная структура покрытия разрушается и образуется структура на основе икосаэдрической (или аппроксимантной к ней) фазы.
|
| issn |
0233-7681 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/94056 |
| fulltext |
|
| citation_txt |
Образование квазикристаллических структур при отжиге микрослойных покрытий (Ti, Cr)-Si / Б.А. Мовчан, А.И. Устинов, С.С. Полищук, Т.В. Мельниченко // Современная электрометаллургия. — 2003. — № 1. — С. 15-18. — Бібліогр.: 13 назв. — рос. |
| work_keys_str_mv |
AT movčanba obrazovaniekvazikristalličeskihstrukturpriotžigemikrosloinyhpokrytiiticrsi AT ustinovai obrazovaniekvazikristalličeskihstrukturpriotžigemikrosloinyhpokrytiiticrsi AT poliŝukss obrazovaniekvazikristalličeskihstrukturpriotžigemikrosloinyhpokrytiiticrsi AT melʹničenkotv obrazovaniekvazikristalličeskihstrukturpriotžigemikrosloinyhpokrytiiticrsi AT movčanba formationofquasicrystallinestructuresinannealingofmicrolayercoatingsticrsi AT ustinovai formationofquasicrystallinestructuresinannealingofmicrolayercoatingsticrsi AT poliŝukss formationofquasicrystallinestructuresinannealingofmicrolayercoatingsticrsi AT melʹničenkotv formationofquasicrystallinestructuresinannealingofmicrolayercoatingsticrsi |
| first_indexed |
2025-11-24T15:13:10Z |
| last_indexed |
2025-11-24T15:13:10Z |
| _version_ |
1850847854210318336 |