Моделирование стационарного режима реакции СВС в нанослойных материалах (Феноменологическая модель). 1. Одностадийная реакция
Предложены самосогласованная по температурному профилю и упрощенная аналитическая модели стационарного режима СВС в мультислойной наноструктуре, основанные на использовании кинетики реакционного роста фаз в тонких пленках в неизотермических условиях. Self-consistent by a temperature profile and simp...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Современная электрометаллургия |
|---|---|
| Datum: | 2010 |
| Hauptverfasser: | , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russian |
| Veröffentlicht: |
Інститут електрозварювання ім. Є.О. Патона НАН України
2010
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/96071 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Моделирование стационарного режима реакции СВС в нанослойных материалах (Феноменологическая модель). 1. Одностадийная реакция / Т.В. Запорожец, А.М. Гусак, А.И. Устинов // Современная электрометаллургия. — 2010. — № 1 (98). — С. 40-46. — Бібліогр.: 14 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Zusammenfassung: | Предложены самосогласованная по температурному профилю и упрощенная аналитическая модели стационарного режима СВС в мультислойной наноструктуре, основанные на использовании кинетики реакционного роста фаз в тонких пленках в неизотермических условиях.
Self-consistent by a temperature profile and simplified analytic models of stationary mode SHS in multi-layer nanostructure based on application of kinetics of a reaction growth of phases in thin films under non-isothermal conditions are offered.
|
|---|---|
| ISSN: | 0233-7681 |