Некоторые особенности ионно-плазменной металлизации керамических порошков
Исследовано влияние режимов ионно-плазменной металлизации на концентрацию ионов титана, алюминия и меди в металлическом плазменном потоке. Предложены зависимости, позволяющие определить время, необходимое для достижения на поверхности частиц порошка заданной температуры и получения металлической пле...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Современная электрометаллургия |
|---|---|
| Дата: | 2011 |
| Автор: | |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Russian |
| Опубліковано: |
Інститут електрозварювання ім. Є.О. Патона НАН України
2011
|
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/96248 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Некоторые особенности ионно-плазменной металлизации керамических порошков / И.В. Смирнов // Современная электрометаллургия. — 2011. — № 2 (103). — С. 56-60. — Бібліогр.: 12 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-96248 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Смирнов, И.В. 2016-03-12T17:14:45Z 2016-03-12T17:14:45Z 2011 Некоторые особенности ионно-плазменной металлизации керамических порошков / И.В. Смирнов // Современная электрометаллургия. — 2011. — № 2 (103). — С. 56-60. — Бібліогр.: 12 назв. — рос. 0233-7681 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/96248 621.793.14.74 Исследовано влияние режимов ионно-плазменной металлизации на концентрацию ионов титана, алюминия и меди в металлическом плазменном потоке. Предложены зависимости, позволяющие определить время, необходимое для достижения на поверхности частиц порошка заданной температуры и получения металлической пленки требуемой толщины. Effect of conditions of ion-plasma metallization on concentration of ions of titanium, aluminium and copper in metallic plasma flow was studied. Suggested are the relationships allowing determination of time, required to attain the preset temperature on the powder particle surface and to produce a metallic film of a required thickness. ru Інститут електрозварювання ім. Є.О. Патона НАН України Современная электрометаллургия Новые материалы Некоторые особенности ионно-плазменной металлизации керамических порошков Some peculiarities of ion-plasma metallization of ceramic powders Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Некоторые особенности ионно-плазменной металлизации керамических порошков |
| spellingShingle |
Некоторые особенности ионно-плазменной металлизации керамических порошков Смирнов, И.В. Новые материалы |
| title_short |
Некоторые особенности ионно-плазменной металлизации керамических порошков |
| title_full |
Некоторые особенности ионно-плазменной металлизации керамических порошков |
| title_fullStr |
Некоторые особенности ионно-плазменной металлизации керамических порошков |
| title_full_unstemmed |
Некоторые особенности ионно-плазменной металлизации керамических порошков |
| title_sort |
некоторые особенности ионно-плазменной металлизации керамических порошков |
| author |
Смирнов, И.В. |
| author_facet |
Смирнов, И.В. |
| topic |
Новые материалы |
| topic_facet |
Новые материалы |
| publishDate |
2011 |
| language |
Russian |
| container_title |
Современная электрометаллургия |
| publisher |
Інститут електрозварювання ім. Є.О. Патона НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Some peculiarities of ion-plasma metallization of ceramic powders |
| description |
Исследовано влияние режимов ионно-плазменной металлизации на концентрацию ионов титана, алюминия и меди в металлическом плазменном потоке. Предложены зависимости, позволяющие определить время, необходимое для достижения на поверхности частиц порошка заданной температуры и получения металлической пленки требуемой толщины.
Effect of conditions of ion-plasma metallization on concentration of ions of titanium, aluminium and copper in metallic plasma flow was studied. Suggested are the relationships allowing determination of time, required to attain the preset temperature on the powder particle surface and to produce a metallic film of a required thickness.
|
| issn |
0233-7681 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/96248 |
| citation_txt |
Некоторые особенности ионно-плазменной металлизации керамических порошков / И.В. Смирнов // Современная электрометаллургия. — 2011. — № 2 (103). — С. 56-60. — Бібліогр.: 12 назв. — рос. |
| work_keys_str_mv |
AT smirnoviv nekotoryeosobennostiionnoplazmennoimetallizaciikeramičeskihporoškov AT smirnoviv somepeculiaritiesofionplasmametallizationofceramicpowders |
| first_indexed |
2025-11-24T11:37:37Z |
| last_indexed |
2025-11-24T11:37:37Z |
| _version_ |
1850845522696339456 |
| fulltext |
УДК 621.793.14.74
НЕКОТОРЫЕ ОСОБЕННОСТИ
ИОННО-ПЛАЗМЕННОЙ МЕТАЛЛИЗАЦИИ
КЕРАМИЧЕСКИХ ПОРОШКОВ
И. В. Смирнов
Исследовано влияние режимов ионно-плазменной металлизации на концентрацию ионов титана, алюминия и меди
в металлическом плазменном потоке. Предложены зависимости, позволяющие определить время, необходимое для
достижения на поверхности частиц порошка заданной температуры и получения металлической пленки требуемой
толщины.
Effect of conditions of ion-plasma metallization on concentration of ions of titanium, aluminium and copper in metallic
plasma flow was studied. Suggested are the relationships allowing determination of time, required to attain the preset
temperature on the powder particle surface and to produce a metallic film of a required thickness.
Ключ е вы е с л о в а : ионно-плазменная металлизация;
концентрация ионов; время металлизации; керамические по-
рошки; газотермические покрытия
Для получения современных композиционных ма-
териалов требуется создание широкой номенклату-
ры исходных порошков, зачастую небольшими пар-
тиями, что вызывает необходимость разработки гиб-
ких и универсальных процессов, обеспечивающих
порошковым материалам требуемые свойства.
Одним из направлений решения данной задачи
является использование технологий металлизации
порошков способами вакуумной конденсации, ко-
торые позволяют осуществлять металлизацию прак-
тически всеми металлами и сплавами, легко изме-
нять толщину покрытия, а также температуру в кон-
тактной зоне от 297 до 1000 К и выше.
В результате использования катодов из различ-
ных материалов и изменения состава среды в рабо-
чем пространстве вакуумной установки можно соз-
давать из простых компонентов многослойные, дис-
кретные, градиентные и нанокристаллические пок-
рытия [1].
В настоящее время для вакуумной металлизации
порошков применяют способы электронно-лучево-
го, резистивного, магнетронного и ионно-плазмен-
ного нанесения покрытий [2—5]. Посредством элек-
тронно-лучевого осаждения в вакууме 2⋅10—3 Па с
целью повышения стойкости алмазного инструмен-
та получают пленки металлов (молибдена, титана,
ванадия и др.) на порошке из синтетических алма-
зов и кубического нитрида бора [2]. Способ резис-
тивного испарения применяли в работе [3] для ме-
таллизации порошка графита медью.
Металлизация порошка указанными способами
усложнена из-за характерного направления потока
паров снизу верх от испарителя, при этом частицы
порошка в процессе металлизации находятся в сво-
бодно падающем состоянии.
Более рациональная схема расположения испа-
рителя (мишени) и обрабатываемой поверхности
может быть реализована с применением магнетрон-
ной распылительной системы.
Способом магнетронного распыления получены
пленки никеля и олова толщиной 5…10 мкм на час-
тицах квазикристаллических порошков при полу-
чении массивных композиционных материалов с по-
вышенными физико-механическими свойствами [5].
С точки зрения технологических и конструктив-
ных возможностей наиболее эффективным для на-
несения покрытий на порошки является способ ион-
но-плазменного напыления, позволяющий в широ-
ких пределах управлять параметрами процесса и
свойствами конденсата за счет наличия высокоио-
низированной составляющей в продуктах эрозии
катода и получать качественные покрытия из раз-
личных материалов с высокой адгезией покрытия
с обрабатываемой поверхностью [6, 7].
Эффективность ионно-плазменного способа по-
казана при нанесении металлических пленок алю-
миния и никеля на керамические порошки оксидов
алюминия и циркония для газотермического напы-
ления защитных покрытий [8]. Плазменные покры-
тия, полученные с использованием данных порош-
ков, характеризовались высокой износостойкостью
и прочностью сцепления с подложкой.
Порошки как объект металлизации, в отличие от
массивных материалов, имеют ряд следующих техно-
логических особенностей при нанесении покрытий:
во-первых, из-за сложности процесса теплопе-
редачи в вакууме может происходить перегрев час-
тиц порошка в результате выделения теплоты кон-
денсации металла;
во-вторых, порошки, особенно мелкой фракции,
склонны к слипанию, усиливающемуся в процессе
осаждения парового потока, что требует примене-
ния специальных мер по устранению их агрегации;
в-третьих, развитая поверхность порошков яв-
ляется источником выделения адсорбируемой влаги
© И. В. СМИРНОВ, 2011
56
и газов, что влияет на процесс откачки и получение
глубокого вакуума.
В этой связи при металлизации порошков осо-
бенно важным является правильное установление
технологических режимов, поскольку качество
сформированных пленок на частицах порошка в
первую очередь будет зависеть от параметров ме-
таллического плазменного потока, температуры в
контактной зоне и времени металлизации.
Цель работы заключалась в установлении опти-
мальных режимов и условий ионно-плазменного на-
несения функциональных пленок на керамические
порошки посредством определения параметров ме-
таллического плазменного потока и временных за-
висимостей процесса металлизации.
Исследованию параметров плазмы и установле-
нию их взаимосвязи со свойствами покрытий пос-
вящено большое количество публикаций, анализ ко-
торых приведен в работе [9].
Выбор режимов нанесения ионно-плазменных
покрытий (ток горения дуги, потенциал смещения,
расстояние от катода до поверхности подложки,
давление в вакуумной камере) зависит от природы
наносимого материала. При этом каждый материал
имеет свои предельные значения тока. Нижняя гра-
ница характеризует минимальное значение тока дуги,
при котором дуговой разряд будет самоподдержива-
ющимся (пороговый ток). Увеличение тока выше
максимального значения приводит к росту коли-
чества паровой и капельной фаз в продуктах эрозии
материала катода, что отрицательно влияет на качест-
во и состав покрытия.
В качестве испаряемых материалов использова-
ли титан, алюминий, медь, имеющие различные зна-
чения порогового тока и природу испарения. Пок-
рытия из данных металлов наносили на частицы
порошков Al2O3, ZrO2, WC, применяемых при по-
лучении жаропрочных и износостойких покрытий
путем газотермического напыления, наплавки, спе-
кания и т.п.
Металлизацию порошков осуществляли на уста-
новке ионно-плазменного напыления АНГА-1, ос-
нащенной специальным устройством барабанного
типа для перемешивания порошка [10]. Техноло-
гия, оборудование и процессы, происходящие при
плакировании порошка данным способом, рассмот-
рены в работе [11].
Для определения таких параметров, как темпе-
ратура электронов, концентрация и температура ио-
нов испаряемых металлов, использовали подходы,
базирующиеся на обработке вольт-амперных харак-
теристик одиночного зонда [12].
Режимы ионно-плазменной металлизации уста-
навливали исходя из максимальной концентрации
ионов в потоке металлической плазмы. Значения
концентраций ионов испаряемых металлов рассчи-
тывали на основании вольт-амперных зондовых ха-
рактеристик по формуле Бома:
Ni =
2,5Jio
qS√⎯⎯⎯⎯⎯⎯⎯⎯⎯ 2kTi
⁄ Mi
,
(1)
где Jio – ионный ток на зонд при плавающем по-
тенциале плазмы; q – заряд частицы; S – площадь
поверхности зонда; k – постоянная Больцмана;
Ti – температура частицы; Mi – масса иона.
Графические зависимости концентраций ионов
титана, меди и алюминия по оси плазменного потока
от дистанции напыления и тока вакуумной дуги,
рассчитанных согласно формуле (1), представлены
на рис. 1 и 2.
Приведенные на рис. 1 графики свидетельству-
ют, что концентрация ионов титана находится в ди-
апазоне 8⋅1016…7⋅1015 см—3, ионов алюминия –
7⋅1016…5⋅1014 см—3 в зависимости от дистанции на-
пыления. Согласно рис. 2, концентрация ионов ти-
тана достигает максимума при токе дуги 120…140 А,
а меди – начинает уменьшаться при увеличении
тока дуги свыше 100…110 А, для алюминия такая
тенденция зафиксирована уже при 80…90 А, отме-
чено также резкое падение содержания ионов при
увеличении тока выше 120 А.
Рис. 1. Зависимость концентрации ионов титана (штриховая линия)
и алюминия (сплошная линия) от дистанции напыления при различ-
ных значениях тока дуги, А: 1 – 60; 2 – 100; 3 – 140; L –
расстояние от катода до подложки
Рис. 2. Зависимость концентрации ионов титана (1), меди (2)
и алюминия (3) в металлической плазме соответствующих ме-
таллов от тока вакуумной дуги
57
Сложной и наиболее важной является оценка
температуры частиц порошка в процессе металли-
зации. При нанесении покрытий в вакууме ионно-
плазменным способом происходит существенно воз-
растающий разогрев поверхности подложки, что
может вызывать нежелательные изменения в струк-
туре и составе материала. При этом отмечено изме-
нение температуры в широких пределах, что зави-
сит от конструктивных элементов и режимов работы
вакуумной установки.
В неподвижной вакуумированной массе порош-
ков теплопередача осуществляется только посредс-
твом контактной теплопроводности частиц и излу-
чения. При передаче тепла путем контактной теп-
лопроводности все термическое сопротивление сос-
редоточено в месте контакта частиц. Теплопровод-
ность определяется физическими характеристика-
ми материала порошка, плотностью, геометрией за-
сыпки и не зависит от размера частиц.
При теплообмене путем излучения слой порошка
представляет собой систему тепловых экранов, коли-
чество которых зависит от радиуса и геометрии за-
сыпки. Таким образом, вследствие низкой контактной
теплопроводности и экранирующего действия при лу-
чистом теплообмене, эффективная теплопроводность
слоя оказывается на уровне 1⋅10—2…1⋅10—3 Вт/(м⋅К).
Оценить в первом приближении температуру по-
верхности частиц порошка можно на основании
уравнения теплового баланса, которое для сфери-
ческой частицы порошка будет иметь следующий вид:
πd2
4
Pуд = cm
dTпов
dT
+ (Tпов — T0)I(d),
(2)
где d, c, m – соответственно диаметр, теплоемкость
и масса частицы порошка; Pуд – удельная погло-
щаемая мощность; Tпов – температура на поверх-
ности частицы порошка.
I(d) = ∫
0
2
2πxdx
2
λ1
√⎯⎯⎯(d
2
)2 — x2 —
1
λ2
⎛
⎜
⎝
d
2
— √⎯⎯⎯⎯⎯⎯(
d
2
)2 — x2 ⎞
⎟
⎠
=
=
πλ1λ2d
2λ1 + λ2
+
πdλ1
2λ2
(2λ1 + λ2)
2ln(
2λ2
λ1
),
где λ1, λ2 – теплопроводность соответственно час-
тицы порошка и окружающей среды; x – перемен-
ная интегрирования.
После соответствующих подстановок и преобра-
зования уравнения (2) получим
dTпов
dt
= —
6
cρπd3 TповI(d) +
6
cρπd3 T0I(d) +
3
2cρd
Pуд.
(3)
Решение уравнения (3) с учетом начального ус-
ловия T(0) = T0 будет иметь вид
T(t) = ⎛⎜
⎝
T0 +
b
a
⎞
⎟
⎠
eat —
b
a
,
(4)
где
a = —
6λ1λ2
cρh2(2λ2 + λ1)
⎛
⎜
⎝
1 +
λ1
2λ2 + λ1
ln
2λ2
λ1
⎞
⎟
⎠
;
b = — aT0 +
3
2cρd
Pуд.
Таким образом, из уравнения (4) получаем вре-
мя, необходимое для достижения заданной (допус-
тимой) температуры частиц порошка выбранной
фракции
t =
1
a
ln
⎛
⎜
⎝
aTпов + b
aT0 + b
⎞
⎟
⎠
.
(5)
Графические зависимости времени металли-
зации от диаметра частиц порошка оксида алюми-
ния для заданных температур показаны на рис. 3.
На основании рис. 3 можно сделать вывод, что
достижение уровня температуры, например 300 °С,
на поверхности частиц порошка диаметром 60 мкм
происходит за время примерно 20 с. В этом случае
необходимо применение дополнительных меропри-
ятий по стабилизации температуры порошка, зак-
лючающихся в его интенсивном перемешивании, пе-
риодическом выводе из зоны действия металличес-
кого плазменного потока или при циклическом про-
ведении процесса металлизации.
Особенностью металлизации порошков является
нанесение покрытия на значительную поверхность
(10…100 м2 и больше в зависимости от количества
порошка и его удельной поверхности), для чего тре-
буется увеличение длительности процесса металли-
зации из-за испарения большого количества метал-
ла. В связи с этим процесс металлизации порошка
целесообразно характеризовать эффективной ско-
ростью vэф роста толщины оболочки на частицах.
На основании данной скорости, определяемой экс-
периментально через скорость конденсации на плос-
ких образцах-свидетелях, можно установить время,
Рис. 3. Теоретические зависимости времени металлизации от ди-
аметра частиц порошка оксида алюминия при достижении сле-
дующих значений температуры на поверхности частиц, °С: 1 –
300; 2 – 250; 3 – 200
58
необходимое для нанесения пленки требуемой тол-
щины на частицах определенной фракции порошка:
τ = ∫ dh
vэф
0
h
= ∫
MпSч
MчSпvк
0
h
dh,
(6)
где h – толщина пленки, наносимой на частицы по-
рошка, мкм; vк – скорость конденсации металла плен-
ки на плоскую поверхность, мкм/мин; Sп, Sч – пло-
щади соответственно слоя порошка и поверхности от-
дельной частицы, мм2; Mп, Mч – масса соответственно
загружаемого порошка и отдельной частицы, г.
Принимая форму покрываемых частиц порошка
сферической, после соответствующих подстановок
и интегрирования уравнения (2) получим
τ =
Mп
ρSпvк
⎛
⎜
⎝
R + h
R
⎞
⎟
⎠
3
,
(7)
где r, R – соответственно плотность и радиус час-
тиц порошка.
Как видно из выражения (7), время металлизации
для получения требуемой толщины пленки зависит
как от массы загружаемого порошка и его фракции,
так и от производительности испарителя и площади
загрузочного (перемешивающего) устройства.
Графические зависимости времени металли-
зации от диаметра частиц порошка для различных
материалов показаны на рис. 4.
Из анализа рис. 4 можно сделать вывод о зна-
чительном влиянии диаметра частиц порошка на
время металлизации. При уменьшении диаметра
менее 10 мкм резко возрастает время металлизации
и падает скорость конденсации, а при уменьшении
радиуса менее 1мкм время металлизации увеличи-
вается до технологически неприемлемого значения.
Поэтому при расчете времени металлизации необ-
ходимо учитывать массу и размер частиц порошка.
Например, время металлизации частиц диаметром
20…100 мкм для достижения толщины пленки 1 мкм
не должно превышать 60…80 мин при массе 300 г.
Полученные зависимости времени металлизации от
толщины пленки Н хорошо согласуются с экспери-
ментальными данными, представленными в таблице.
Таким образом, максимальное количество по-
рошка заданной дисперсности, загружаемого в ус-
тройство, связано с размерами перемешивающего
устройства и мощностью испарителя. Для увеличе-
ния производительности установки целесообразно
рационально повышать количество металла, испа-
ряющегося в единицу времени. Однако это также
имеет ограничения из-за возникновения капельной
фазы в продуктах эрозии катода и повышения тем-
пературы частиц порошка.
Для оценки влияния технологических режимов
ионно-плазменной металлизации на состав, равно-
мерность и толщину нанесенных металлических
Рис. 4. Теоретические зависимости времени металлизации от ди-
аметра частиц порошков оксидов алюминия (1) и циркония (2),
а также карбида вольфрама (3)
Химический состав и толщина металлических пленок H
№
спектра
O Al Ti Zr
H, нм
Ti Al
Порошок оксида алюминия
1 41,72 47,04 11,23 — 162 177
2 37,52 48,31 14,17 — 197 165
3 23,85 55,61 20,54 — 266 577
4 22,23 58,54 19,23 — 251 633
Порошок оксида циркония
1 37,12 16,77 3,25 42,86 41 289
2 44,10 0,14 4,86 50,90 70 30
3 29,95 2,33 5,99 61,74 72 51
4 34,82 3,21 2,20 59,76 29 69
Прим е ч а н и е . Во всех спектрах суммарное количество
элементов составляло 100 %.
Рис. 5. Морфология частиц порошка Al2O3 (а), ZrО2 (б), металлизированных титаном и алюминием, × 2500
59
пленок на керамические порошки проводили метал-
лографический и электронно-растровый микроана-
лизы морфологии поверхности и структуры пленок,
результаты которых представлены на рис. 5, 6.
Металлографический анализ металлизирован-
ных порошков показал, что осаждаемые пленки ха-
рактеризуются целостностью, ступенчатым рель-
ефом и равномерностью распределения на поверх-
ности частиц порошка. Данные спектроскопии, при-
веденные в таблице, свидетельствуют о высокой
чистоте металлических конденсатов.
Из рис. 6 следует, что получено достаточно рав-
номерное осаждение медной пленки на поверхности
частиц карбида вольфрама диаметром 150…200 мкм.
Толщина пленки в данном случае составила 4…6 мкм
за время металлизации 20 мин, что хорошо согла-
суется с расчетными данными.
Анализируя внешний вид металлизированных
частиц и микроструктуру полученных пленок, не-
обходимо отметить характер их развития. В первый
момент формируются точечные образования в виде
островков на зародышевых центрах, которыми слу-
жат приповерхностные дефекты частиц. Затем, уве-
личиваясь в диаметре, точечные образования сли-
ваются и образуют в конечном итоге на поверхности
частицы сплошную оболочку при общем содержании
металла в порошковой массе на уровне 3…5 мас. %.
Качество оболочки определяется режимными пара-
метрами металлизации, степенью дисперсности,
массой порошка и комплексом физико-химических
свойств отдельных частиц.
Выводы
1. Определены концентрации ионов титана, алюми-
ния и меди в металлическом плазменном потоке,
варьированием которых можно регулировать про-
цесс конденсации металлических пленок на кера-
мических порошках. Предельные значения тока ду-
гового разряда обеспечивают максимальную кон-
центрацию ионов и формирование равномерной
оболочки на частицах порошка.
2. Предложены математические модели, позво-
ляющие определить время достижения на поверх-
ности частиц порошка заданной температуры, а так-
же длительность металлизации для получения
пленки требуемой толщины, что позволяет коррек-
тировать технологический режим ионно-плазмен-
ной металлизации в зависимости от массы загружа-
емого порошка, его фракции и производительности
испарителя.
1. О формировании микро-, нанослойных покрытий методом
вакуумно-дугового осаждения / Ю. В. Кунченко, В. В. Кун-
ченко, Г. Н. Картмазов, И. М. Неклюдов // Физическая
инженерия поверхности. – 2004. – 2, № 1. – С. 102—108.
2. Найдич Ю. В., Колениченко Г. А., Костюк Б. Д. Метал-
лизация порошков распылением металла с помощью элек-
тронно-лучевого нагрева // Порошк. металлургия. –
1973. – № 9. – С. 91—94.
3. Фришберг И. В., Пастухов В. П., Баранова Н. Л. Пок-
рытия, нанесенные на порошки графита при термической
металлизации // Там же. – 1981. – № 6. – С. 1—5.
4. Металлизация порошков / С. С. Алимов, В. В. Бобков,
Д. Л. Рябчиков, Р. И. Старовойтов // Материалы меж-
дунар. конф. «Физика плазмы и плазменные технологии»
(Минск, 15—19 сент., 1997 г.). – Минск, 1997. – Т. 4. –
С. 724—727.
5. Безверхий Е. Д., Брязко А. М., Федотов А. А. Нанесе-
ние металлических покрытий на порошки методом магнет-
ронного напыления // Научная сессия МИФИ-2010: Сб.
науч. тр. – М.: МИФИ, 2010. – Т. 3: Фундаменталь-
ные проблемы науки. – С. 36—38.
6. Мрочек Ж. А., Эйзнер Б. А., Марков Г. В. Основы тех-
нологии формирования многокомпонентных вакуумных
электродуговых покрытий. – Минск: Навука і тэхніка,
1991. – 93 с.
7. Шаронов Е. А., Ванновский В. В., Алексеев С. В. Ваку-
умно-дуговое напыление меди на порошок керамики SiO2—
FeOn // Тр. 6-й междунар. конф. «Пленки и покрытия-
2001» (Санкт-Петербург, 3—5 апр. 2001 г.). – СПб:
СПбГТУ, 2001. – С. 146—149.
8. Применение композитных порошков типа керамика—алю-
миний—никель для получения покрытий / Н. Н. Нови-
ков, С. Р. Пустотина, Б. М. Соловьев и др. // Порошк.
металлургия. – 1979. – № 11. – С. 24—28.
9. Хороших В. М. Стационарная вакуумная дуга в техноло-
гических системах для обработки поверхностей // Физи-
ческая инженерия поверхности. – 2003. – 1, № 1. –
С. 19—26.
10. Пат. 41184 Україна, МПК В22F1/00. Пристрій для на-
несення покриттів на порошок / В. І. Копилов, А. Н. Сте-
панчук, І. В. Смирнов та ін. – Опубл. 12.05.2009; Бюл. № 9.
11. Копилов В. І., Смирнов І. В., Сєліверстов І. А. Процеси
іонно-плазмового плакування порошків для газотермічних
покриттів // Наукові вісті НТУУ «КПІ». – 2009. –
№3. – С. 11—20.
12. Об измерении температуры ионов плазмы зондовым мето-
дом / В. Я. Черняк, Ю. А. Чабан, В. П. Платонов и
др. – Київ, 1989. – 40 с.
НТУУ «Киевский политехнический институт», Киев
Поступила 08.02.2011
Рис. 6. Металлография металлизированных частиц карбида вольфрама (а) и медной оболочки на их поверхности (б): а – ×500;
б – ×1000
60
|