Влияние условий конденсации на структуру и свойства твердых покрытий на основе B₄C, полученных электронно-лучевым испарением в вакууме

Приведены результаты исследований состава, структуры, адгезии, микротвердости и влагостойкости твердых покрытий на основе карбида бора, полученных путем электронно-лучевого испарения и конденсации в вакууме на поверхности образцов из сплава Ti—6 % Al—4 % V в зависимости от технологических условий ос...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Современная электрометаллургия
Date:2012
Main Authors: Яковчук, К.Ю., Рудой, Ю.Э., Микитчик, А.В., Оноприенко, Е.В., Ахтырский, А.О., Романенко, С.М.
Format: Article
Language:Russian
Published: Інститут електрозварювання ім. Є.О. Патона НАН України 2012
Subjects:
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/96566
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Влияние условий конденсации на структуру и свойства твердых покрытий на основе B₄C, полученных электронно-лучевым испарением в вакууме / К.Ю. Яковчук, Ю.Э. Рудой, А.В. Микитчик, Е.В. Оноприенко, А.О. Ахтырский, С.М. Романенко // Современная электрометаллургия. — 2012. — № 3 (108). — С. 15-19. — Бібліогр.: 5 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Description
Summary:Приведены результаты исследований состава, структуры, адгезии, микротвердости и влагостойкости твердых покрытий на основе карбида бора, полученных путем электронно-лучевого испарения и конденсации в вакууме на поверхности образцов из сплава Ti—6 % Al—4 % V в зависимости от технологических условий осаждения (скорости вращения образцов, ионной обработки и температуры подложки). Given are the results of investigations of composition, structure, adhesion, microhardness and moisture resistance of hard coatings on boron carbide base, produced by electron beam evaporation and condensation in vacuum on the surface of specimens of Ti—6 % Al—4 % V alloy depending on technological conditions of deposition (speed of specimens rotation, ion treatment and substrate temperature).
ISSN:0233-7681