APA (7th ed.) Citation

Отажонов, С. (2004). Фоточувствительность АФН – плёнок в гетероструктуре из CDTE-SiO₂-Si под действием внешнего электрического поля. Физическая инженерия поверхности.

Chicago Style (17th ed.) Citation

Отажонов, С.М. "Фоточувствительность АФН – плёнок в гетероструктуре из CDTE-SiO₂-Si под действием внешнего электрического поля." Физическая инженерия поверхности 2004.

MLA (8th ed.) Citation

Отажонов, С.М. "Фоточувствительность АФН – плёнок в гетероструктуре из CDTE-SiO₂-Si под действием внешнего электрического поля." Физическая инженерия поверхности, 2004.

Warning: These citations may not always be 100% accurate.