Отажонов, С. (2004). Фоточувствительность АФН – плёнок в гетероструктуре из CDTE-SiO₂-Si под действием внешнего электрического поля. Физическая инженерия поверхности.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Отажонов, С.М. "Фоточувствительность АФН – плёнок в гетероструктуре из CDTE-SiO₂-Si под действием внешнего электрического поля." Физическая инженерия поверхности 2004.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Отажонов, С.М. "Фоточувствительность АФН – плёнок в гетероструктуре из CDTE-SiO₂-Si под действием внешнего электрического поля." Физическая инженерия поверхности, 2004.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.