Investigation of the optical coatings on the dkdp single ctystals by x-ray photoelectron spectroscopy

Magnesium fluoride and tellurium oxide were used for fabrication of the protective and antireflective coatings on the DKDP crystals. The variation of the technology of coating deposition leads to changes of surface composition of coatings which was studied by using the X-ray photoelectron spectros...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Физическая инженерия поверхности
Date:2004
Main Authors: Loya, V.Yu., Lada, A.V., Puga, P.P., Gritsyna, V.T.
Format: Article
Language:English
Published: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2004
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98494
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Investigation of the optical coatings on the dkdp single ctystals by x-ray photoelectron spectroscopy / V.Yu. Loya, A.V. Lada, P.P. Puga, V.T. Gritsyna // Физическая инженерия поверхности. — 2004. — Т. 2, № 4. — С. 220–223. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-98494
record_format dspace
spelling Loya, V.Yu.
Lada, A.V.
Puga, P.P.
Gritsyna, V.T.
2016-04-15T11:16:42Z
2016-04-15T11:16:42Z
2004
Investigation of the optical coatings on the dkdp single ctystals by x-ray photoelectron spectroscopy / V.Yu. Loya, A.V. Lada, P.P. Puga, V.T. Gritsyna // Физическая инженерия поверхности. — 2004. — Т. 2, № 4. — С. 220–223. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.
1999-8074
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98494
621.793
Magnesium fluoride and tellurium oxide were used for fabrication of the protective and antireflective coatings on the DKDP crystals. The variation of the technology of coating deposition leads to changes of surface composition of coatings which was studied by using the X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). The XPS data allow us to conclude that carbon and its compounds, as well as oxygen resulting in the oxide formation, are the main impurities introduced at the different stages of coating deposition. The results of paper testify the fact that the ion beam processing of the DKDP single crystals with film coatings deposited onto their working surfaces facilitates the recovery of the initial composition of the film under deposition, the removal of impurities from the film surfaces that, in turn, contributes to the improvement of mechanical properties of the coating and its consolidation.
Для одержання захисних і просвітляючих покриттів кристалів ДКДР використовувалися фторид магнію та оксид телуру. Модифікація технології нанесення покриттів призвела до зміни складу поверхні покрить, що досліджувалися методом рентгенівської фотоелектронної спектроскопії (РФС). Дані РФС дозволяють зробити висновок, що вуглець та його сполуки, а такожкисень, що призводить до утворення оксидів, є основними домішками, які вводяться на різних етапах нанесення покриттів. Результати роботи свідчать на користь того, що обробка монокристалів ДКДР з плівками, осадженими на їх робочі поверхні, за допомогою іонного пучка сприяє відновленню вихідного складу осаджуваної плівки, вилученню домішок з її поверхні, що, в свою чергу, покращує механічні властивості покриття і його експлуатаційні характеристики.
Для получения защитных и просветляющих покрытий кристаллов ДКДР использовались фторид магния и оксид теллура. Модификация технологии нанесения покрытий привела к изменению состава поверхности покрытий, исследуемых методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (РФС). Данные РФС позволяют заключить, что углерод и его соединения, а также кислород, приводящий к образованию оксидов, являются основными примесями, вводимыми на различных этапах нанесения покрытий. Результаты работы свидетельствуют в пользу того, что обработка монокристаллов ДКДР с пленками, осажденными на их рабочие поверхности, с помощью ионного пучка способствует восстановлению исходного состава осаждаемой пленки, удалению примесей с ее поверхности, что, в свою очередь, улучшает механические свойства покрытия и его эксплуатационные характеристики.
en
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
Физическая инженерия поверхности
Investigation of the optical coatings on the dkdp single ctystals by x-ray photoelectron spectroscopy
Дослідження оптичних покриттів на DKDP монокристалів методом рентгенівської фотоелектронної спектроскопії
Исследование оптических покрытий на DKDP монокристаллов методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Investigation of the optical coatings on the dkdp single ctystals by x-ray photoelectron spectroscopy
spellingShingle Investigation of the optical coatings on the dkdp single ctystals by x-ray photoelectron spectroscopy
Loya, V.Yu.
Lada, A.V.
Puga, P.P.
Gritsyna, V.T.
title_short Investigation of the optical coatings on the dkdp single ctystals by x-ray photoelectron spectroscopy
title_full Investigation of the optical coatings on the dkdp single ctystals by x-ray photoelectron spectroscopy
title_fullStr Investigation of the optical coatings on the dkdp single ctystals by x-ray photoelectron spectroscopy
title_full_unstemmed Investigation of the optical coatings on the dkdp single ctystals by x-ray photoelectron spectroscopy
title_sort investigation of the optical coatings on the dkdp single ctystals by x-ray photoelectron spectroscopy
author Loya, V.Yu.
Lada, A.V.
Puga, P.P.
Gritsyna, V.T.
author_facet Loya, V.Yu.
Lada, A.V.
Puga, P.P.
Gritsyna, V.T.
publishDate 2004
language English
container_title Физическая инженерия поверхности
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
format Article
title_alt Дослідження оптичних покриттів на DKDP монокристалів методом рентгенівської фотоелектронної спектроскопії
Исследование оптических покрытий на DKDP монокристаллов методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии
description Magnesium fluoride and tellurium oxide were used for fabrication of the protective and antireflective coatings on the DKDP crystals. The variation of the technology of coating deposition leads to changes of surface composition of coatings which was studied by using the X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). The XPS data allow us to conclude that carbon and its compounds, as well as oxygen resulting in the oxide formation, are the main impurities introduced at the different stages of coating deposition. The results of paper testify the fact that the ion beam processing of the DKDP single crystals with film coatings deposited onto their working surfaces facilitates the recovery of the initial composition of the film under deposition, the removal of impurities from the film surfaces that, in turn, contributes to the improvement of mechanical properties of the coating and its consolidation. Для одержання захисних і просвітляючих покриттів кристалів ДКДР використовувалися фторид магнію та оксид телуру. Модифікація технології нанесення покриттів призвела до зміни складу поверхні покрить, що досліджувалися методом рентгенівської фотоелектронної спектроскопії (РФС). Дані РФС дозволяють зробити висновок, що вуглець та його сполуки, а такожкисень, що призводить до утворення оксидів, є основними домішками, які вводяться на різних етапах нанесення покриттів. Результати роботи свідчать на користь того, що обробка монокристалів ДКДР з плівками, осадженими на їх робочі поверхні, за допомогою іонного пучка сприяє відновленню вихідного складу осаджуваної плівки, вилученню домішок з її поверхні, що, в свою чергу, покращує механічні властивості покриття і його експлуатаційні характеристики. Для получения защитных и просветляющих покрытий кристаллов ДКДР использовались фторид магния и оксид теллура. Модификация технологии нанесения покрытий привела к изменению состава поверхности покрытий, исследуемых методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (РФС). Данные РФС позволяют заключить, что углерод и его соединения, а также кислород, приводящий к образованию оксидов, являются основными примесями, вводимыми на различных этапах нанесения покрытий. Результаты работы свидетельствуют в пользу того, что обработка монокристаллов ДКДР с пленками, осажденными на их рабочие поверхности, с помощью ионного пучка способствует восстановлению исходного состава осаждаемой пленки, удалению примесей с ее поверхности, что, в свою очередь, улучшает механические свойства покрытия и его эксплуатационные характеристики.
issn 1999-8074
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98494
citation_txt Investigation of the optical coatings on the dkdp single ctystals by x-ray photoelectron spectroscopy / V.Yu. Loya, A.V. Lada, P.P. Puga, V.T. Gritsyna // Физическая инженерия поверхности. — 2004. — Т. 2, № 4. — С. 220–223. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.
work_keys_str_mv AT loyavyu investigationoftheopticalcoatingsonthedkdpsinglectystalsbyxrayphotoelectronspectroscopy
AT ladaav investigationoftheopticalcoatingsonthedkdpsinglectystalsbyxrayphotoelectronspectroscopy
AT pugapp investigationoftheopticalcoatingsonthedkdpsinglectystalsbyxrayphotoelectronspectroscopy
AT gritsynavt investigationoftheopticalcoatingsonthedkdpsinglectystalsbyxrayphotoelectronspectroscopy
AT loyavyu doslídžennâoptičnihpokrittívnadkdpmonokristalívmetodomrentgenívsʹkoífotoelektronnoíspektroskopíí
AT ladaav doslídžennâoptičnihpokrittívnadkdpmonokristalívmetodomrentgenívsʹkoífotoelektronnoíspektroskopíí
AT pugapp doslídžennâoptičnihpokrittívnadkdpmonokristalívmetodomrentgenívsʹkoífotoelektronnoíspektroskopíí
AT gritsynavt doslídžennâoptičnihpokrittívnadkdpmonokristalívmetodomrentgenívsʹkoífotoelektronnoíspektroskopíí
AT loyavyu issledovanieoptičeskihpokrytiinadkdpmonokristallovmetodomrentgenovskoifotoélektronnoispektroskopii
AT ladaav issledovanieoptičeskihpokrytiinadkdpmonokristallovmetodomrentgenovskoifotoélektronnoispektroskopii
AT pugapp issledovanieoptičeskihpokrytiinadkdpmonokristallovmetodomrentgenovskoifotoélektronnoispektroskopii
AT gritsynavt issledovanieoptičeskihpokrytiinadkdpmonokristallovmetodomrentgenovskoifotoélektronnoispektroskopii
first_indexed 2025-12-01T09:18:46Z
last_indexed 2025-12-01T09:18:46Z
_version_ 1850859767693574145