Investigation of the optical coatings on the dkdp single ctystals by x-ray photoelectron spectroscopy
Magnesium fluoride and tellurium oxide were used for fabrication of the protective and antireflective
 coatings on the DKDP crystals. The variation of the technology of coating deposition leads to changes
 of surface composition of coatings which was studied by using the X-ray photoe...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Физическая инженерия поверхности |
|---|---|
| Datum: | 2004 |
| Hauptverfasser: | , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Englisch |
| Veröffentlicht: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2004
|
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98494 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Investigation of the optical coatings on the dkdp single ctystals by x-ray photoelectron spectroscopy / V.Yu. Loya, A.V. Lada, P.P. Puga, V.T. Gritsyna // Физическая инженерия поверхности. — 2004. — Т. 2, № 4. — С. 220–223. — Бібліогр.: 4 назв. — англ. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862644479223136256 |
|---|---|
| author | Loya, V.Yu. Lada, A.V. Puga, P.P. Gritsyna, V.T. |
| author_facet | Loya, V.Yu. Lada, A.V. Puga, P.P. Gritsyna, V.T. |
| citation_txt | Investigation of the optical coatings on the dkdp single ctystals by x-ray photoelectron spectroscopy / V.Yu. Loya, A.V. Lada, P.P. Puga, V.T. Gritsyna // Физическая инженерия поверхности. — 2004. — Т. 2, № 4. — С. 220–223. — Бібліогр.: 4 назв. — англ. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Физическая инженерия поверхности |
| description | Magnesium fluoride and tellurium oxide were used for fabrication of the protective and antireflective
coatings on the DKDP crystals. The variation of the technology of coating deposition leads to changes
of surface composition of coatings which was studied by using the X-ray photoelectron spectroscopy
(XPS). The XPS data allow us to conclude that carbon and its compounds, as well as oxygen resulting
in the oxide formation, are the main impurities introduced at the different stages of coating deposition.
The results of paper testify the fact that the ion beam processing of the DKDP single crystals with
film coatings deposited onto their working surfaces facilitates the recovery of the initial composition of
the film under deposition, the removal of impurities from the film surfaces that, in turn, contributes to
the improvement of mechanical properties of the coating and its consolidation.
Для одержання захисних і просвітляючих покриттів кристалів ДКДР використовувалися
фторид магнію та оксид телуру. Модифікація технології нанесення покриттів призвела до зміни
складу поверхні покрить, що досліджувалися методом рентгенівської фотоелектронної спектроскопії (РФС). Дані РФС дозволяють зробити висновок, що вуглець та його сполуки, а такожкисень,
що призводить до утворення оксидів, є основними
домішками, які вводяться на різних етапах нанесення покриттів. Результати роботи свідчать на
користь того, що обробка монокристалів ДКДР з
плівками, осадженими на їх робочі поверхні, за
допомогою іонного пучка сприяє відновленню вихідного складу осаджуваної плівки, вилученню домішок з її поверхні, що, в свою чергу, покращує
механічні властивості покриття і його експлуатаційні характеристики.
Для получения защитных и просветляющих покрытий кристаллов ДКДР использовались фторид магния и оксид теллура. Модификация технологии нанесения покрытий привела к изменению
состава поверхности покрытий, исследуемых методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (РФС). Данные РФС позволяют заключить, что углерод и его соединения, а также кислород, приводящий к образованию оксидов,
являются основными примесями, вводимыми на
различных этапах нанесения покрытий. Результаты работы свидетельствуют в пользу того, что
обработка монокристаллов ДКДР с пленками,
осажденными на их рабочие поверхности, с помощью ионного пучка способствует восстановлению исходного состава осаждаемой пленки, удалению примесей с ее поверхности, что, в свою
очередь, улучшает механические свойства покрытия и его эксплуатационные характеристики.
|
| first_indexed | 2025-12-01T09:18:46Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-98494 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1999-8074 |
| language | English |
| last_indexed | 2025-12-01T09:18:46Z |
| publishDate | 2004 |
| publisher | Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Loya, V.Yu. Lada, A.V. Puga, P.P. Gritsyna, V.T. 2016-04-15T11:16:42Z 2016-04-15T11:16:42Z 2004 Investigation of the optical coatings on the dkdp single ctystals by x-ray photoelectron spectroscopy / V.Yu. Loya, A.V. Lada, P.P. Puga, V.T. Gritsyna // Физическая инженерия поверхности. — 2004. — Т. 2, № 4. — С. 220–223. — Бібліогр.: 4 назв. — англ. 1999-8074 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98494 621.793 Magnesium fluoride and tellurium oxide were used for fabrication of the protective and antireflective
 coatings on the DKDP crystals. The variation of the technology of coating deposition leads to changes
 of surface composition of coatings which was studied by using the X-ray photoelectron spectroscopy
 (XPS). The XPS data allow us to conclude that carbon and its compounds, as well as oxygen resulting
 in the oxide formation, are the main impurities introduced at the different stages of coating deposition.
 The results of paper testify the fact that the ion beam processing of the DKDP single crystals with
 film coatings deposited onto their working surfaces facilitates the recovery of the initial composition of
 the film under deposition, the removal of impurities from the film surfaces that, in turn, contributes to
 the improvement of mechanical properties of the coating and its consolidation. Для одержання захисних і просвітляючих покриттів кристалів ДКДР використовувалися
 фторид магнію та оксид телуру. Модифікація технології нанесення покриттів призвела до зміни
 складу поверхні покрить, що досліджувалися методом рентгенівської фотоелектронної спектроскопії (РФС). Дані РФС дозволяють зробити висновок, що вуглець та його сполуки, а такожкисень,
 що призводить до утворення оксидів, є основними
 домішками, які вводяться на різних етапах нанесення покриттів. Результати роботи свідчать на
 користь того, що обробка монокристалів ДКДР з
 плівками, осадженими на їх робочі поверхні, за
 допомогою іонного пучка сприяє відновленню вихідного складу осаджуваної плівки, вилученню домішок з її поверхні, що, в свою чергу, покращує
 механічні властивості покриття і його експлуатаційні характеристики. Для получения защитных и просветляющих покрытий кристаллов ДКДР использовались фторид магния и оксид теллура. Модификация технологии нанесения покрытий привела к изменению
 состава поверхности покрытий, исследуемых методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (РФС). Данные РФС позволяют заключить, что углерод и его соединения, а также кислород, приводящий к образованию оксидов,
 являются основными примесями, вводимыми на
 различных этапах нанесения покрытий. Результаты работы свидетельствуют в пользу того, что
 обработка монокристаллов ДКДР с пленками,
 осажденными на их рабочие поверхности, с помощью ионного пучка способствует восстановлению исходного состава осаждаемой пленки, удалению примесей с ее поверхности, что, в свою
 очередь, улучшает механические свойства покрытия и его эксплуатационные характеристики. en Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України Физическая инженерия поверхности Investigation of the optical coatings on the dkdp single ctystals by x-ray photoelectron spectroscopy Дослідження оптичних покриттів на DKDP монокристалів методом рентгенівської фотоелектронної спектроскопії Исследование оптических покрытий на DKDP монокристаллов методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии Article published earlier |
| spellingShingle | Investigation of the optical coatings on the dkdp single ctystals by x-ray photoelectron spectroscopy Loya, V.Yu. Lada, A.V. Puga, P.P. Gritsyna, V.T. |
| title | Investigation of the optical coatings on the dkdp single ctystals by x-ray photoelectron spectroscopy |
| title_alt | Дослідження оптичних покриттів на DKDP монокристалів методом рентгенівської фотоелектронної спектроскопії Исследование оптических покрытий на DKDP монокристаллов методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии |
| title_full | Investigation of the optical coatings on the dkdp single ctystals by x-ray photoelectron spectroscopy |
| title_fullStr | Investigation of the optical coatings on the dkdp single ctystals by x-ray photoelectron spectroscopy |
| title_full_unstemmed | Investigation of the optical coatings on the dkdp single ctystals by x-ray photoelectron spectroscopy |
| title_short | Investigation of the optical coatings on the dkdp single ctystals by x-ray photoelectron spectroscopy |
| title_sort | investigation of the optical coatings on the dkdp single ctystals by x-ray photoelectron spectroscopy |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98494 |
| work_keys_str_mv | AT loyavyu investigationoftheopticalcoatingsonthedkdpsinglectystalsbyxrayphotoelectronspectroscopy AT ladaav investigationoftheopticalcoatingsonthedkdpsinglectystalsbyxrayphotoelectronspectroscopy AT pugapp investigationoftheopticalcoatingsonthedkdpsinglectystalsbyxrayphotoelectronspectroscopy AT gritsynavt investigationoftheopticalcoatingsonthedkdpsinglectystalsbyxrayphotoelectronspectroscopy AT loyavyu doslídžennâoptičnihpokrittívnadkdpmonokristalívmetodomrentgenívsʹkoífotoelektronnoíspektroskopíí AT ladaav doslídžennâoptičnihpokrittívnadkdpmonokristalívmetodomrentgenívsʹkoífotoelektronnoíspektroskopíí AT pugapp doslídžennâoptičnihpokrittívnadkdpmonokristalívmetodomrentgenívsʹkoífotoelektronnoíspektroskopíí AT gritsynavt doslídžennâoptičnihpokrittívnadkdpmonokristalívmetodomrentgenívsʹkoífotoelektronnoíspektroskopíí AT loyavyu issledovanieoptičeskihpokrytiinadkdpmonokristallovmetodomrentgenovskoifotoélektronnoispektroskopii AT ladaav issledovanieoptičeskihpokrytiinadkdpmonokristallovmetodomrentgenovskoifotoélektronnoispektroskopii AT pugapp issledovanieoptičeskihpokrytiinadkdpmonokristallovmetodomrentgenovskoifotoélektronnoispektroskopii AT gritsynavt issledovanieoptičeskihpokrytiinadkdpmonokristallovmetodomrentgenovskoifotoélektronnoispektroskopii |