Экзоэлектронная эмиссия из алюминия после механических и термических воздействий

• Опубліковано в: : Физическая инженерия поверхности
• Дата: 2004
• Автор: Шкилько, А.М.
• Формат: Стаття
• Мова: Russian
• Опубліковано: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2004
• Онлайн доступ: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98495
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Цитувати: Экзоэлектронная эмиссия из алюминия после механических и термических воздействий / А.М. Шкилько // Физическая инженерия поверхности. — 2004. — Т. 2, № 4. — С. 224–228. — Бібліогр.: 13 назв. — рос.

Изучена кинетика экзоэлектронной эмиссии из алюминия, подвергнутого механической обработке и окислению при повышенной температуре. Установлена корреляция между интенсивностью затухания эмиссионного тока и ростом оксидной пленки. Методы экзоэмиссии и контактной разности потенциалов рекомендуются для...