Получение и транспортировка ионных пучков малых и средних энергий
В настоящей работе проведен обзор экспериментальных исследований ионно-пучковой плазмы, возникающей в пространстве транспортировки широкого интенсивного ионного пучка низкой энергии при условиях, характерных для технологических систем ионно-лучевого травления. Описаны эксперименты, в которых дока...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Физическая инженерия поверхности |
|---|---|
| Datum: | 2005 |
| 1. Verfasser: | |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russian |
| Veröffentlicht: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2005
|
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98720 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Получение и транспортировка ионных пучков малых и средних энергий / В.И. Фареник // Физическая инженерия поверхности. — 2005. — Т. 3, № 1-2. — С. 4–29. — Бібліогр.: 63 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-98720 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Фареник, В.И. 2016-04-17T07:17:27Z 2016-04-17T07:17:27Z 2005 Получение и транспортировка ионных пучков малых и средних энергий / В.И. Фареник // Физическая инженерия поверхности. — 2005. — Т. 3, № 1-2. — С. 4–29. — Бібліогр.: 63 назв. — рос. 1999-8074 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98720 539.188, 533.95 В настоящей работе проведен обзор экспериментальных исследований ионно-пучковой плазмы, возникающей в пространстве транспортировки широкого интенсивного ионного пучка низкой энергии при условиях, характерных для технологических систем ионно-лучевого травления. Описаны эксперименты, в которых доказана определяющая роль γ-эмиссии с поверхности мишени в механизме автокомпенсации пучка. Приведены зависимости температуры нейтрализующих электронов и потенциала ионно-пучковой плазмы от параметров системы в различных режимах нейтрализации при использовании атомарных и молекулярных рабочих газов, а также при наличии катода-нейтрализатора. Описана динамика функции распределения электронов ионно-пучковой плазмы по энергиям, ее угловая зависимость, принципиальное различие вида функции распределения электронов по энергиям при наличии и в отсутствие термо-катода. Рассмотрен вопрос влияния типа ионного источника на общие закономерности процесса нейтрализации. Изучено влияние термоэлектронной эмиссии на нейтрализацию широкого интенсивного ионного пучка низкой энергии. Описан способ ионно-лучевой обработки диэлектрических поверхностей, позволяющий управлять потенциалом поверхности и обеспечивающий возможность оперативного контроля момента окончания травления диэлектрика. У цій роботі ми провели огляд експериментальних досліджень іонно-пучкової плазми, що виникає у просторі транспортування широкого інтенсивного іонного пучка низької енергії за умовах, типових для технологічних систем іонно-променевого травлення. Описані експерименти, у яких доведена визначальна роль γ-емісіїз поверхні мішені у механізмі авто-компенсації пучка. Приведені залежності температури нейтралізуючих електронів та потенціала іонно-пучкової плазми від параметрів системи у різних режимах нейтралізації за використанням атомарних та молекулярних робочих газів, а також за наявністю катода-нейтралізатора. Описана динаміка функції розподілу електронів іонно-пучкової плазми по енергіях, її кутова залежність, принципова різниця вида ФРЕЕ за наявності та у відсутності термокатода. Розглянуто питання впливу типа іонного джерела на загальні закономірності процеса нейтралізації. Також був вивчен вплив термоелектронної емісії на нейтралізацію широкого інтенсивного іонного пучка низької енергії. У роботі також був описан спосіб іонно-променевої обробки диелектричних поверхонь, що дозволяє керувати потенціалом поверхні та забез-печує можливість оперативного конролю момента завершення травлення диелектрика. This work contains the review of experimental researches of ion-beam plasma arising in the transportation space of wide intense low energy ion beam under conditions typical for technological systems of ion-beam etching. The experiments proving determinative role of γ-emission from a target surface in the mechanism of auto-compensation of a beam are described. We provide here the dependencies of temperature of neutralizing electrons and ion-beam plasma potential from system parameters in various modes of neutralization obtained with using atomic and molecular working gases, as well as with the presence of cathode-neutralizer. Dynamics of electron energy distribution function and its angular dependence is described. The principal difference of EEDF form is discovered with presence and in absence of the cathode-neutralizer. The question of ion source type influence on general regularities of the neutralization process is considered. The influence of thermal electron emission on the neutralization of a wide low energy ion beam is investigated. It is also described the technique of ion-beam processing of dielectric surfaces allowing to control the surface potential and providing a possibility of the operative determination of the dielectric etching completion. ru Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України Физическая инженерия поверхности Получение и транспортировка ионных пучков малых и средних энергий Отримання і транспортування іонних пучків малих і середніх енергій Receipt and transportation of ion beams of low and average energy Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Получение и транспортировка ионных пучков малых и средних энергий |
| spellingShingle |
Получение и транспортировка ионных пучков малых и средних энергий Фареник, В.И. |
| title_short |
Получение и транспортировка ионных пучков малых и средних энергий |
| title_full |
Получение и транспортировка ионных пучков малых и средних энергий |
| title_fullStr |
Получение и транспортировка ионных пучков малых и средних энергий |
| title_full_unstemmed |
Получение и транспортировка ионных пучков малых и средних энергий |
| title_sort |
получение и транспортировка ионных пучков малых и средних энергий |
| author |
Фареник, В.И. |
| author_facet |
Фареник, В.И. |
| publishDate |
2005 |
| language |
Russian |
| container_title |
Физическая инженерия поверхности |
| publisher |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Отримання і транспортування іонних пучків малих і середніх енергій Receipt and transportation of ion beams of low and average energy |
| description |
В настоящей работе проведен обзор экспериментальных исследований ионно-пучковой плазмы,
возникающей в пространстве транспортировки широкого интенсивного ионного пучка низкой
энергии при условиях, характерных для технологических систем ионно-лучевого травления.
Описаны эксперименты, в которых доказана определяющая роль γ-эмиссии с поверхности
мишени в механизме автокомпенсации пучка. Приведены зависимости температуры
нейтрализующих электронов и потенциала ионно-пучковой плазмы от параметров системы в
различных режимах нейтрализации при использовании атомарных и молекулярных рабочих
газов, а также при наличии катода-нейтрализатора. Описана динамика функции распределения
электронов ионно-пучковой плазмы по энергиям, ее угловая зависимость, принципиальное
различие вида функции распределения электронов по энергиям при наличии и в отсутствие
термо-катода. Рассмотрен вопрос влияния типа ионного источника на общие закономерности
процесса нейтрализации. Изучено влияние термоэлектронной эмиссии на нейтрализацию
широкого интенсивного ионного пучка низкой энергии. Описан способ ионно-лучевой
обработки диэлектрических поверхностей, позволяющий управлять потенциалом поверхности
и обеспечивающий возможность оперативного контроля момента окончания травления
диэлектрика.
У цій роботі ми провели огляд експериментальних досліджень іонно-пучкової плазми, що виникає у просторі транспортування широкого інтенсивного іонного пучка низької енергії за умовах,
типових для технологічних систем іонно-променевого травлення. Описані експерименти, у яких
доведена визначальна роль γ-емісіїз поверхні мішені у механізмі авто-компенсації пучка. Приведені залежності температури нейтралізуючих
електронів та потенціала іонно-пучкової плазми
від параметрів системи у різних режимах нейтралізації за використанням атомарних та молекулярних робочих газів, а також за наявністю катода-нейтралізатора. Описана динаміка функції
розподілу електронів іонно-пучкової плазми по
енергіях, її кутова залежність, принципова різниця вида ФРЕЕ за наявності та у відсутності
термокатода. Розглянуто питання впливу типа
іонного джерела на загальні закономірності процеса нейтралізації. Також був вивчен вплив
термоелектронної емісії на нейтралізацію широкого інтенсивного іонного пучка низької енергії.
У роботі також був описан спосіб іонно-променевої обробки диелектричних поверхонь, що дозволяє керувати потенціалом поверхні та забез-печує можливість оперативного конролю момента завершення травлення диелектрика.
This work contains the review of experimental researches
of ion-beam plasma arising in the transportation
space of wide intense low energy ion beam
under conditions typical for technological systems
of ion-beam etching. The experiments proving
determinative role of γ-emission from a target surface
in the mechanism of auto-compensation of a beam
are described. We provide here the dependencies of
temperature of neutralizing electrons and ion-beam
plasma potential from system parameters in various
modes of neutralization obtained with using atomic
and molecular working gases, as well as with the
presence of cathode-neutralizer. Dynamics of electron
energy distribution function and its angular dependence
is described. The principal difference of
EEDF form is discovered with presence and in absence
of the cathode-neutralizer. The question of ion
source type influence on general regularities of the
neutralization process is considered. The influence
of thermal electron emission on the neutralization
of a wide low energy ion beam is investigated. It is
also described the technique of ion-beam processing
of dielectric surfaces allowing to control the surface
potential and providing a possibility of the operative
determination of the dielectric etching completion.
|
| issn |
1999-8074 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98720 |
| citation_txt |
Получение и транспортировка ионных пучков малых и средних энергий / В.И. Фареник // Физическая инженерия поверхности. — 2005. — Т. 3, № 1-2. — С. 4–29. — Бібліогр.: 63 назв. — рос. |
| work_keys_str_mv |
AT farenikvi polučenieitransportirovkaionnyhpučkovmalyhisrednihénergii AT farenikvi otrimannâítransportuvannâíonnihpučkívmalihíseredníhenergíi AT farenikvi receiptandtransportationofionbeamsoflowandaverageenergy |
| first_indexed |
2025-12-07T20:56:48Z |
| last_indexed |
2025-12-07T20:56:48Z |
| _version_ |
1850884498527354880 |