Определение величины ВЧ напряжения на потенциальном электроде в сложных технологических газоразрядных установках

Нами предложен метод оценки величины ВЧ напряжения на потенциальном электроде в
 плазменной технологической установке, прямые измерения которого затруднены. Метод
 основан на измерении координат точки поворота на кривой зажигания ВЧ разряда и
 использовании известных значений...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Физическая инженерия поверхности
Date:2005
Main Authors: Лисовский, В., Бут, Ж.П., Ландри, K., Дуэ, Д., Ренар, Г., Касань, В.
Format: Article
Language:Russian
Published: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2005
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98726
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Определение величины ВЧ напряжения на потенциальном электроде в сложных технологических газоразрядных установках / В. Лисовский, Ж.П. Бут, K. Ландри, Д. Дуэ, Г. Ренар, В. Касань // Физическая инженерия поверхности. — 2005. — Т. 3, № 1-2. — С. 70–78. — Бібліогр.: 21 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Description
Summary:Нами предложен метод оценки величины ВЧ напряжения на потенциальном электроде в
 плазменной технологической установке, прямые измерения которого затруднены. Метод
 основан на измерении координат точки поворота на кривой зажигания ВЧ разряда и
 использовании известных значений дрейфовой скорости электронов в газе. Полученные с
 помощью нашего метода результаты близки к данным прямых измерений ВЧ напряжения на
 потенциальном электроде, а также позволяют получить разумные с физической точки
 результаты (совпадение правых ветвей кривых зажигания ВЧ разряда для разных частот),
 согласующиеся с результатами других работ. We propose a technique for evaluating the RF
 potential at the driven electrode in a technological
 gas-discharge device where the direct measurements
 are impeded. The technique is based on registering
 the coordinates of the turning point at the RF discharge
 breakdown curve and using the well-known values
 of the electron drift velocity in a gas. The results we
 obtained with our technique are close to the data of
 direct measuring of the RF potential at the driven
 electrode, and they also permit to get the results
 reasonable from the physical point of view
 (coincidence of right-hand branches of RF discharge
 breakdown curves for different frequencies), in
 agreement with the results of other papers. Нами запропонований метод оцінки величини ВЧ
 напруги на потенційному електроді в плазмовій
 технологічній установці, прямі виміри якого
 затруднені. Метод заснований на вимірі координат
 точок повороту на кривій запалювання ВЧ розряду
 і використанні відо-мих значень дрейфової
 швидкості електронів у газі. Отримані за
 допомогою нашого методу результати близькі до
 даних прямих вимірів ВЧ напруги на потенційному
 електроді, а також дозволяють одержати розумні
 з фізичної точки результати (збіг правих галузей
 кривих запалювання ВЧ розряду для різних
 частот), що погоджуються з результатами інших
 робіт.
ISSN:1999-8074