Влияние режимов распыления и геометрии распылительной системы на толщину и состав получаемых пленок

• Veröffentlicht in: Физическая инженерия поверхности
• Datum: 2005
• Hauptverfasser: Петухов, В.В., Гончаров, А.А., Коновалов, В.А., Терпий, Д.Н., Ступак, В.А.
• Format: Artikel
• Sprache: Russisch
• Veröffentlicht: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2005
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98759
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Влияние режимов распыления и геометрии распылительной системы на толщину и состав получаемых пленок / В.В. Петухов, А.А. Гончаров, В.А. Коновалов, Д.Н.Терпий, В.А. Ступак // Физическая инженерия поверхности. — 2005. — Т. 3, № 3-4. — С. 241–244. — Бібліогр.: 13 назв. — рос.

Пленки ТаВ₂ были синтезированы ВЧ магнетронным распылением мишени ТаВ₂ на стеклянные и ситалловые подложки. Исследовано влияние параметров распыления магнетронной распылительной системы на состав и толщину покрытий методами фотометрии и вторичной ионной масс-спектрометрии. Показано, что для по...