Модель формирования слоистой структуры покрытий, получаемых методом вакуумно – дугового осаждения

Приводятся расчетные формулы и на их основе анализ распределения скоростей конденсации
 потоков вещества, генерируемых вакуумно-дуговым источником, толщины покрытий, а также
 характера формируемых слоистых структур в зависимости от геометрии системы катод –
 подложка. В качес...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Физическая инженерия поверхности
Date:2005
Main Authors: Кунченко, Ю.В., Кунченко, В.В.
Format: Article
Language:Russian
Published: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2005
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98763
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Модель формирования слоистой структуры покрытий, получаемых методом вакуумно – дугового осаждения / Ю.В. Кунченко, В.В. Кунченко // Физическая инженерия поверхности. — 2005. — Т. 3, № 3-4. — С. 199–207. — Бібліогр.: 16 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Description
Summary:Приводятся расчетные формулы и на их основе анализ распределения скоростей конденсации
 потоков вещества, генерируемых вакуумно-дуговым источником, толщины покрытий, а также
 характера формируемых слоистых структур в зависимости от геометрии системы катод –
 подложка. В качестве примера рассматривается процесс формирования многослойного
 покрытия на основе нитридов титана и хрома. Надаються розрахункові формули й на їхній підставі аналіз розподілу швидкостей конденсації
 потоків речовини, які генеруються вакуумно-дуговым джерелом, товщини покриттів, а також
 характеру формованих шаруватих структур залежно від геометрії системи катод – підкладка.
 Як приклад розглядається процес формування бгатошарового покриття на основі нітридів титану
 й хрому. Analysis of speed distribution of matter flows condensation,
 which are generated by vacuum-arc source,
 analyses of covering thickness, as well as the
 nature of formed layered structures depending on
 geometry of the system “cathode-substrate” are carried
 out on the basis of calculation formula given in
 the present work. Formation process of multi-layer
 covering on the basis of Ti and Cr nitrides is considered
 as an example.
ISSN:1999-8074