Модель формирования слоистой структуры покрытий, получаемых методом вакуумно – дугового осаждения
Приводятся расчетные формулы и на их основе анализ распределения скоростей конденсации
 потоков вещества, генерируемых вакуумно-дуговым источником, толщины покрытий, а также
 характера формируемых слоистых структур в зависимости от геометрии системы катод –
 подложка. В качес...
Saved in:
| Published in: | Физическая инженерия поверхности |
|---|---|
| Date: | 2005 |
| Main Authors: | , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2005
|
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98763 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Модель формирования слоистой структуры покрытий, получаемых методом вакуумно – дугового осаждения / Ю.В. Кунченко, В.В. Кунченко // Физическая инженерия поверхности. — 2005. — Т. 3, № 3-4. — С. 199–207. — Бібліогр.: 16 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Summary: | Приводятся расчетные формулы и на их основе анализ распределения скоростей конденсации
потоков вещества, генерируемых вакуумно-дуговым источником, толщины покрытий, а также
характера формируемых слоистых структур в зависимости от геометрии системы катод –
подложка. В качестве примера рассматривается процесс формирования многослойного
покрытия на основе нитридов титана и хрома.
Надаються розрахункові формули й на їхній підставі аналіз розподілу швидкостей конденсації
потоків речовини, які генеруються вакуумно-дуговым джерелом, товщини покриттів, а також
характеру формованих шаруватих структур залежно від геометрії системи катод – підкладка.
Як приклад розглядається процес формування бгатошарового покриття на основі нітридів титану
й хрому.
Analysis of speed distribution of matter flows condensation,
which are generated by vacuum-arc source,
analyses of covering thickness, as well as the
nature of formed layered structures depending on
geometry of the system “cathode-substrate” are carried
out on the basis of calculation formula given in
the present work. Formation process of multi-layer
covering on the basis of Ti and Cr nitrides is considered
as an example.
|
|---|---|
| ISSN: | 1999-8074 |