О механизме образования высоковольтной фото – ЭДС в тонких косонапыленных пленках CdTe:Ag при собственном и примесном поглощении
Предложена новая модель АФН-пленки и новые механизмы образования АФН, на основе которых рассчитана высоковольтная фото-ЭДС при собственном и примесном фотовозбуждении.
 Теоретически предсказана линейная зависимость люксвольтовой характеристики при малых
 освещенностях, что подтвержда...
Gespeichert in:
| Veröffentlicht in: | Физическая инженерия поверхности |
|---|---|
| Datum: | 2005 |
| Hauptverfasser: | , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russisch |
| Veröffentlicht: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2005
|
| Online Zugang: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98767 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | О механизме образования высоковольтной фото – ЭДС в тонких косонапыленных пленках CdTe:Ag при собственном и примесном поглощении / Ю.Ю. Вайткус, Н.Х Юлдашев, С.М. Отажонов // Физическая инженерия поверхности. — 2005. — Т. 3, № 3-4. — С. 219–227. — Бібліогр.: 12 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862720517766643712 |
|---|---|
| author | Вайткус, Ю.Ю. Юлдашев, Н.Х. Отажонов, С.М. |
| author_facet | Вайткус, Ю.Ю. Юлдашев, Н.Х. Отажонов, С.М. |
| citation_txt | О механизме образования высоковольтной фото – ЭДС в тонких косонапыленных пленках CdTe:Ag при собственном и примесном поглощении / Ю.Ю. Вайткус, Н.Х Юлдашев, С.М. Отажонов // Физическая инженерия поверхности. — 2005. — Т. 3, № 3-4. — С. 219–227. — Бібліогр.: 12 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Физическая инженерия поверхности |
| description | Предложена новая модель АФН-пленки и новые механизмы образования АФН, на основе которых рассчитана высоковольтная фото-ЭДС при собственном и примесном фотовозбуждении.
Теоретически предсказана линейная зависимость люксвольтовой характеристики при малых
освещенностях, что подтверждается экспериментальными ЛВХ пленки CdTe:Ag в монохроматическом свете.
Запропоновано нову модель АФН-плівки й нові
механізми утворення АФН, на основі яких розрахована високовольтна фото-ЭДС за власного і
примісного фотопорушення. Теоретично обгрунтована лінійна залежність люкс-вольтової характеристики при малих освітленнях, що підтверджується експериментальними ЛВХ плівки
CdTe:Ag у монохроматичному світлі.
It was offered a new model for APV film and new
mechanisms of APV formation , on the basic of
which high-voltage photo emf was calculated at own
and admixture light excitation. Theoretically it was
predicted a linear dependence of lux-voltage
characteristic at low illuminations, which is
confirmed by experimental LVC of the CdTe:Ag film
in monochromatic light.
|
| first_indexed | 2025-12-07T18:25:20Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-98767 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1999-8074 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-12-07T18:25:20Z |
| publishDate | 2005 |
| publisher | Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Вайткус, Ю.Ю. Юлдашев, Н.Х. Отажонов, С.М. 2016-04-17T17:33:01Z 2016-04-17T17:33:01Z 2005 О механизме образования высоковольтной фото – ЭДС в тонких косонапыленных пленках CdTe:Ag при собственном и примесном поглощении / Ю.Ю. Вайткус, Н.Х Юлдашев, С.М. Отажонов // Физическая инженерия поверхности. — 2005. — Т. 3, № 3-4. — С. 219–227. — Бібліогр.: 12 назв. — рос. 1999-8074 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98767 Предложена новая модель АФН-пленки и новые механизмы образования АФН, на основе которых рассчитана высоковольтная фото-ЭДС при собственном и примесном фотовозбуждении.
 Теоретически предсказана линейная зависимость люксвольтовой характеристики при малых
 освещенностях, что подтверждается экспериментальными ЛВХ пленки CdTe:Ag в монохроматическом свете. Запропоновано нову модель АФН-плівки й нові
 механізми утворення АФН, на основі яких розрахована високовольтна фото-ЭДС за власного і
 примісного фотопорушення. Теоретично обгрунтована лінійна залежність люкс-вольтової характеристики при малих освітленнях, що підтверджується експериментальними ЛВХ плівки
 CdTe:Ag у монохроматичному світлі. It was offered a new model for APV film and new
 mechanisms of APV formation , on the basic of
 which high-voltage photo emf was calculated at own
 and admixture light excitation. Theoretically it was
 predicted a linear dependence of lux-voltage
 characteristic at low illuminations, which is
 confirmed by experimental LVC of the CdTe:Ag film
 in monochromatic light. ru Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України Физическая инженерия поверхности О механизме образования высоковольтной фото – ЭДС в тонких косонапыленных пленках CdTe:Ag при собственном и примесном поглощении Про механізм утворення високовольтної фото-ЭДС у тонких косонапилених плівках CdTe:Ag за власного і примісного поглинання About mechanism of high-voltage photo EMF formation in thin slanting deposited films CdTe:Ag by own and admixture absorption Article published earlier |
| spellingShingle | О механизме образования высоковольтной фото – ЭДС в тонких косонапыленных пленках CdTe:Ag при собственном и примесном поглощении Вайткус, Ю.Ю. Юлдашев, Н.Х. Отажонов, С.М. |
| title | О механизме образования высоковольтной фото – ЭДС в тонких косонапыленных пленках CdTe:Ag при собственном и примесном поглощении |
| title_alt | Про механізм утворення високовольтної фото-ЭДС у тонких косонапилених плівках CdTe:Ag за власного і примісного поглинання About mechanism of high-voltage photo EMF formation in thin slanting deposited films CdTe:Ag by own and admixture absorption |
| title_full | О механизме образования высоковольтной фото – ЭДС в тонких косонапыленных пленках CdTe:Ag при собственном и примесном поглощении |
| title_fullStr | О механизме образования высоковольтной фото – ЭДС в тонких косонапыленных пленках CdTe:Ag при собственном и примесном поглощении |
| title_full_unstemmed | О механизме образования высоковольтной фото – ЭДС в тонких косонапыленных пленках CdTe:Ag при собственном и примесном поглощении |
| title_short | О механизме образования высоковольтной фото – ЭДС в тонких косонапыленных пленках CdTe:Ag при собственном и примесном поглощении |
| title_sort | о механизме образования высоковольтной фото – эдс в тонких косонапыленных пленках cdte:ag при собственном и примесном поглощении |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98767 |
| work_keys_str_mv | AT vaitkusûû omehanizmeobrazovaniâvysokovolʹtnoifotoédsvtonkihkosonapylennyhplenkahcdteagprisobstvennomiprimesnompogloŝenii AT ûldaševnh omehanizmeobrazovaniâvysokovolʹtnoifotoédsvtonkihkosonapylennyhplenkahcdteagprisobstvennomiprimesnompogloŝenii AT otažonovsm omehanizmeobrazovaniâvysokovolʹtnoifotoédsvtonkihkosonapylennyhplenkahcdteagprisobstvennomiprimesnompogloŝenii AT vaitkusûû promehanízmutvorennâvisokovolʹtnoífotoédsutonkihkosonapilenihplívkahcdteagzavlasnogoíprimísnogopoglinannâ AT ûldaševnh promehanízmutvorennâvisokovolʹtnoífotoédsutonkihkosonapilenihplívkahcdteagzavlasnogoíprimísnogopoglinannâ AT otažonovsm promehanízmutvorennâvisokovolʹtnoífotoédsutonkihkosonapilenihplívkahcdteagzavlasnogoíprimísnogopoglinannâ AT vaitkusûû aboutmechanismofhighvoltagephotoemfformationinthinslantingdepositedfilmscdteagbyownandadmixtureabsorption AT ûldaševnh aboutmechanismofhighvoltagephotoemfformationinthinslantingdepositedfilmscdteagbyownandadmixtureabsorption AT otažonovsm aboutmechanismofhighvoltagephotoemfformationinthinslantingdepositedfilmscdteagbyownandadmixtureabsorption |