Микро-нанослойные покрытия, сформированные методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ВЧ-разряда

Микро-нанослойные покрытия, сформированные методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ВЧ-разряда

Показана возможность формирования слоистых покрытий TiN/Mo, TiN/БрАЖ9-4 методом вакуумно-дугового осаждения, с использованием ВЧ разряда, для очистки плазменного потока от микрочастиц. На основе расчета скоростей осаждения (толщины) определены технологические параметры, позволяющие формировать...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Опубліковано в: :Физическая инженерия поверхности
Дата:2006
Автори: Береснев, В.М., Толок, В.Т., Швец, О.М., Фурсова, Е.В., Чернышов, Н.Н., Маликов, Л.В.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2006
Онлайн доступ:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98788
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Микро-нанослойные покрытия, сформированные методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ВЧ-разряда / В.М. Береснев, В.Т. Толок, О.М. Швец, Е.В. Фурсова, Н.Н. Чернышов, Л.В. Маликов // Физическая инженерия поверхности. — 2006. — Т. 4, № 1-2. — С. 104–109. — Бібліогр.: 20 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-98788
record_format dspace
spelling Береснев, В.М.
Толок, В.Т.
Швец, О.М.
Фурсова, Е.В.
Чернышов, Н.Н.
Маликов, Л.В.
2016-04-17T19:09:14Z
2016-04-17T19:09:14Z
2006
Микро-нанослойные покрытия, сформированные методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ВЧ-разряда / В.М. Береснев, В.Т. Толок, О.М. Швец, Е.В. Фурсова, Н.Н. Чернышов, Л.В. Маликов // Физическая инженерия поверхности. — 2006. — Т. 4, № 1-2. — С. 104–109. — Бібліогр.: 20 назв. — рос.
1999-8074
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98788
621.793: 539.61: 669.018: 620.1
Показана возможность формирования слоистых покрытий TiN/Mo, TiN/БрАЖ9-4 методом вакуумно-дугового осаждения, с использованием ВЧ разряда, для очистки плазменного потока от микрочастиц. На основе расчета скоростей осаждения (толщины) определены технологические параметры, позволяющие формировать нанослоистые структуры. Установлены закономерности изменения фазово-структурного состава, микротвердости получаемых покрытий от давления, ускоряющего потенциала подложки. Изучены триботехнические характеристики покрытий в сравнении с покрытием TiN. Результаты триботехнических испытаний свидетельствуют, что нанослойные покрытия TiN/Mo, TiN/БрАЖ9-4 по своим эксплуатационным показателям существенно превышают покрытие TiN.
Доведено можливість формування шарових покриттів TiN/Mo, TiN/БрАЖ9-4 методом вакуумнодугового осадження з використанням ВЧ- розряду, для очищення плазмового потоку від мікрочастинок. На основі розрахунків швидкості осадження (товщини) визначені технологічні параметри, які дозволяють формувати наношарові структури. Установлено закономірності зміни фаза-структурного складу, мікротвердості отриманих покриттів від тиску, прискорюваного потенціалу напруги, який подається на підкладинку. Вивчено триботехнічні характеристики покриттів у порівнянні з покриттям TiN. Результати триботехнічних випробувань свідчать, що наношарові покриття TiN/ Mo, TiN/БрАЖ9-4 за своїми експлуатаційними показниками суттєво перевищують покриття TiN.
The opportunity of formation of layered coverings TiN/Mo, TiN/БрАЖ9-4, by a method of vacuum-arc sedimentation with use HF of the discharge, for clearing a plasma stream of microparticles is shown. On the basis of calculations speed (thickness) the technological parameters are determined, allowing to form nanolayers structures. Laws of change phasestructural structure, microhardness of received coverings from the pressure, the accelerating potential of a substrate are established. Shown, that a study flowing of fciction characteristics of coverings in comparison with covering TiN. Results friction tests testify, that nanolayer coverings TiN/Mo, TiN/БрАЖ9-4 on the operational parameters essentially exceed covering TiN.
ru
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
Физическая инженерия поверхности
Микро-нанослойные покрытия, сформированные методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ВЧ-разряда
Мікро-наношарові покриття сформовані методом вакуумно - дугового осаждення з використанням вч-розряду
Mickro-nanolayer coverings produced by the method vacuum-arc deposition from use the hf-discharge
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Микро-нанослойные покрытия, сформированные методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ВЧ-разряда
spellingShingle Микро-нанослойные покрытия, сформированные методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ВЧ-разряда
Береснев, В.М.
Толок, В.Т.
Швец, О.М.
Фурсова, Е.В.
Чернышов, Н.Н.
Маликов, Л.В.
title_short Микро-нанослойные покрытия, сформированные методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ВЧ-разряда
title_full Микро-нанослойные покрытия, сформированные методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ВЧ-разряда
title_fullStr Микро-нанослойные покрытия, сформированные методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ВЧ-разряда
title_full_unstemmed Микро-нанослойные покрытия, сформированные методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ВЧ-разряда
title_sort микро-нанослойные покрытия, сформированные методом вакуумно-дугового осаждения с использованием вч-разряда
author Береснев, В.М.
Толок, В.Т.
Швец, О.М.
Фурсова, Е.В.
Чернышов, Н.Н.
Маликов, Л.В.
author_facet Береснев, В.М.
Толок, В.Т.
Швец, О.М.
Фурсова, Е.В.
Чернышов, Н.Н.
Маликов, Л.В.
publishDate 2006
language Russian
container_title Физическая инженерия поверхности
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
format Article
title_alt Мікро-наношарові покриття сформовані методом вакуумно - дугового осаждення з використанням вч-розряду
Mickro-nanolayer coverings produced by the method vacuum-arc deposition from use the hf-discharge
description Показана возможность формирования слоистых покрытий TiN/Mo, TiN/БрАЖ9-4 методом вакуумно-дугового осаждения, с использованием ВЧ разряда, для очистки плазменного потока от микрочастиц. На основе расчета скоростей осаждения (толщины) определены технологические параметры, позволяющие формировать нанослоистые структуры. Установлены закономерности изменения фазово-структурного состава, микротвердости получаемых покрытий от давления, ускоряющего потенциала подложки. Изучены триботехнические характеристики покрытий в сравнении с покрытием TiN. Результаты триботехнических испытаний свидетельствуют, что нанослойные покрытия TiN/Mo, TiN/БрАЖ9-4 по своим эксплуатационным показателям существенно превышают покрытие TiN. Доведено можливість формування шарових покриттів TiN/Mo, TiN/БрАЖ9-4 методом вакуумнодугового осадження з використанням ВЧ- розряду, для очищення плазмового потоку від мікрочастинок. На основі розрахунків швидкості осадження (товщини) визначені технологічні параметри, які дозволяють формувати наношарові структури. Установлено закономірності зміни фаза-структурного складу, мікротвердості отриманих покриттів від тиску, прискорюваного потенціалу напруги, який подається на підкладинку. Вивчено триботехнічні характеристики покриттів у порівнянні з покриттям TiN. Результати триботехнічних випробувань свідчать, що наношарові покриття TiN/ Mo, TiN/БрАЖ9-4 за своїми експлуатаційними показниками суттєво перевищують покриття TiN. The opportunity of formation of layered coverings TiN/Mo, TiN/БрАЖ9-4, by a method of vacuum-arc sedimentation with use HF of the discharge, for clearing a plasma stream of microparticles is shown. On the basis of calculations speed (thickness) the technological parameters are determined, allowing to form nanolayers structures. Laws of change phasestructural structure, microhardness of received coverings from the pressure, the accelerating potential of a substrate are established. Shown, that a study flowing of fciction characteristics of coverings in comparison with covering TiN. Results friction tests testify, that nanolayer coverings TiN/Mo, TiN/БрАЖ9-4 on the operational parameters essentially exceed covering TiN.
issn 1999-8074
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98788
citation_txt Микро-нанослойные покрытия, сформированные методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ВЧ-разряда / В.М. Береснев, В.Т. Толок, О.М. Швец, Е.В. Фурсова, Н.Н. Чернышов, Л.В. Маликов // Физическая инженерия поверхности. — 2006. — Т. 4, № 1-2. — С. 104–109. — Бібліогр.: 20 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT beresnevvm mikronanosloinyepokrytiâsformirovannyemetodomvakuumnodugovogoosaždeniâsispolʹzovaniemvčrazrâda
AT tolokvt mikronanosloinyepokrytiâsformirovannyemetodomvakuumnodugovogoosaždeniâsispolʹzovaniemvčrazrâda
AT švecom mikronanosloinyepokrytiâsformirovannyemetodomvakuumnodugovogoosaždeniâsispolʹzovaniemvčrazrâda
AT fursovaev mikronanosloinyepokrytiâsformirovannyemetodomvakuumnodugovogoosaždeniâsispolʹzovaniemvčrazrâda
AT černyšovnn mikronanosloinyepokrytiâsformirovannyemetodomvakuumnodugovogoosaždeniâsispolʹzovaniemvčrazrâda
AT malikovlv mikronanosloinyepokrytiâsformirovannyemetodomvakuumnodugovogoosaždeniâsispolʹzovaniemvčrazrâda
AT beresnevvm míkronanošarovípokrittâsformovanímetodomvakuumnodugovogoosaždennâzvikoristannâmvčrozrâdu
AT tolokvt míkronanošarovípokrittâsformovanímetodomvakuumnodugovogoosaždennâzvikoristannâmvčrozrâdu
AT švecom míkronanošarovípokrittâsformovanímetodomvakuumnodugovogoosaždennâzvikoristannâmvčrozrâdu
AT fursovaev míkronanošarovípokrittâsformovanímetodomvakuumnodugovogoosaždennâzvikoristannâmvčrozrâdu
AT černyšovnn míkronanošarovípokrittâsformovanímetodomvakuumnodugovogoosaždennâzvikoristannâmvčrozrâdu
AT malikovlv míkronanošarovípokrittâsformovanímetodomvakuumnodugovogoosaždennâzvikoristannâmvčrozrâdu
AT beresnevvm mickronanolayercoveringsproducedbythemethodvacuumarcdepositionfromusethehfdischarge
AT tolokvt mickronanolayercoveringsproducedbythemethodvacuumarcdepositionfromusethehfdischarge
AT švecom mickronanolayercoveringsproducedbythemethodvacuumarcdepositionfromusethehfdischarge
AT fursovaev mickronanolayercoveringsproducedbythemethodvacuumarcdepositionfromusethehfdischarge
AT černyšovnn mickronanolayercoveringsproducedbythemethodvacuumarcdepositionfromusethehfdischarge
AT malikovlv mickronanolayercoveringsproducedbythemethodvacuumarcdepositionfromusethehfdischarge
first_indexed 2025-12-07T18:05:05Z
last_indexed 2025-12-07T18:05:05Z
_version_ 1850873694477352960

Схожі ресурси