Микро-нанослойные покрытия, сформированные методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ВЧ-разряда

Показана возможность формирования слоистых покрытий TiN/Mo, TiN/БрАЖ9-4 методом
 вакуумно-дугового осаждения, с использованием ВЧ разряда, для очистки плазменного потока
 от микрочастиц. На основе расчета скоростей осаждения (толщины) определены
 технологические параметры,...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Физическая инженерия поверхности
Datum:2006
Hauptverfasser: Береснев, В.М., Толок, В.Т., Швец, О.М., Фурсова, Е.В., Чернышов, Н.Н., Маликов, Л.В.
Format: Artikel
Sprache:Russisch
Veröffentlicht: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2006
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98788
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Микро-нанослойные покрытия, сформированные методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ВЧ-разряда / В.М. Береснев, В.Т. Толок, О.М. Швец, Е.В. Фурсова, Н.Н. Чернышов, Л.В. Маликов // Физическая инженерия поверхности. — 2006. — Т. 4, № 1-2. — С. 104–109. — Бібліогр.: 20 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862716465272061952
author Береснев, В.М.
Толок, В.Т.
Швец, О.М.
Фурсова, Е.В.
Чернышов, Н.Н.
Маликов, Л.В.
author_facet Береснев, В.М.
Толок, В.Т.
Швец, О.М.
Фурсова, Е.В.
Чернышов, Н.Н.
Маликов, Л.В.
citation_txt Микро-нанослойные покрытия, сформированные методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ВЧ-разряда / В.М. Береснев, В.Т. Толок, О.М. Швец, Е.В. Фурсова, Н.Н. Чернышов, Л.В. Маликов // Физическая инженерия поверхности. — 2006. — Т. 4, № 1-2. — С. 104–109. — Бібліогр.: 20 назв. — рос.
collection DSpace DC
container_title Физическая инженерия поверхности
description Показана возможность формирования слоистых покрытий TiN/Mo, TiN/БрАЖ9-4 методом
 вакуумно-дугового осаждения, с использованием ВЧ разряда, для очистки плазменного потока
 от микрочастиц. На основе расчета скоростей осаждения (толщины) определены
 технологические параметры, позволяющие формировать нанослоистые структуры. Установлены
 закономерности изменения фазово-структурного состава, микротвердости получаемых
 покрытий от давления, ускоряющего потенциала подложки. Изучены триботехнические
 характеристики покрытий в сравнении с покрытием TiN. Результаты триботехнических
 испытаний свидетельствуют, что нанослойные покрытия TiN/Mo, TiN/БрАЖ9-4 по своим
 эксплуатационным показателям существенно превышают покрытие TiN. Доведено можливість формування шарових покриттів TiN/Mo, TiN/БрАЖ9-4 методом вакуумнодугового осадження з використанням ВЧ- розряду,
 для очищення плазмового потоку від мікрочастинок. На основі розрахунків швидкості осадження (товщини) визначені технологічні параметри,
 які дозволяють формувати наношарові структури.
 Установлено закономірності зміни фаза-структурного складу, мікротвердості отриманих покриттів
 від тиску, прискорюваного потенціалу напруги,
 який подається на підкладинку. Вивчено триботехнічні характеристики покриттів у порівнянні
 з покриттям TiN. Результати триботехнічних випробувань свідчать, що наношарові покриття TiN/
 Mo, TiN/БрАЖ9-4 за своїми експлуатаційними
 показниками суттєво перевищують покриття TiN. The opportunity of formation of layered coverings
 TiN/Mo, TiN/БрАЖ9-4, by a method of vacuum-arc
 sedimentation with use HF of the discharge, for
 clearing a plasma stream of microparticles is shown.
 On the basis of calculations speed (thickness) the
 technological parameters are determined, allowing to
 form nanolayers structures. Laws of change phasestructural
 structure, microhardness of received
 coverings from the pressure, the accelerating potential
 of a substrate are established. Shown, that a study
 flowing of fciction characteristics of coverings in
 comparison with covering TiN. Results friction tests
 testify, that nanolayer coverings TiN/Mo, TiN/БрАЖ9-4 on the operational parameters essentially
 exceed covering TiN.
first_indexed 2025-12-07T18:05:05Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-98788
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1999-8074
language Russian
last_indexed 2025-12-07T18:05:05Z
publishDate 2006
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
record_format dspace
spelling Береснев, В.М.
Толок, В.Т.
Швец, О.М.
Фурсова, Е.В.
Чернышов, Н.Н.
Маликов, Л.В.
2016-04-17T19:09:14Z
2016-04-17T19:09:14Z
2006
Микро-нанослойные покрытия, сформированные методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ВЧ-разряда / В.М. Береснев, В.Т. Толок, О.М. Швец, Е.В. Фурсова, Н.Н. Чернышов, Л.В. Маликов // Физическая инженерия поверхности. — 2006. — Т. 4, № 1-2. — С. 104–109. — Бібліогр.: 20 назв. — рос.
1999-8074
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98788
621.793: 539.61: 669.018: 620.1
Показана возможность формирования слоистых покрытий TiN/Mo, TiN/БрАЖ9-4 методом
 вакуумно-дугового осаждения, с использованием ВЧ разряда, для очистки плазменного потока
 от микрочастиц. На основе расчета скоростей осаждения (толщины) определены
 технологические параметры, позволяющие формировать нанослоистые структуры. Установлены
 закономерности изменения фазово-структурного состава, микротвердости получаемых
 покрытий от давления, ускоряющего потенциала подложки. Изучены триботехнические
 характеристики покрытий в сравнении с покрытием TiN. Результаты триботехнических
 испытаний свидетельствуют, что нанослойные покрытия TiN/Mo, TiN/БрАЖ9-4 по своим
 эксплуатационным показателям существенно превышают покрытие TiN.
Доведено можливість формування шарових покриттів TiN/Mo, TiN/БрАЖ9-4 методом вакуумнодугового осадження з використанням ВЧ- розряду,
 для очищення плазмового потоку від мікрочастинок. На основі розрахунків швидкості осадження (товщини) визначені технологічні параметри,
 які дозволяють формувати наношарові структури.
 Установлено закономірності зміни фаза-структурного складу, мікротвердості отриманих покриттів
 від тиску, прискорюваного потенціалу напруги,
 який подається на підкладинку. Вивчено триботехнічні характеристики покриттів у порівнянні
 з покриттям TiN. Результати триботехнічних випробувань свідчать, що наношарові покриття TiN/
 Mo, TiN/БрАЖ9-4 за своїми експлуатаційними
 показниками суттєво перевищують покриття TiN.
The opportunity of formation of layered coverings
 TiN/Mo, TiN/БрАЖ9-4, by a method of vacuum-arc
 sedimentation with use HF of the discharge, for
 clearing a plasma stream of microparticles is shown.
 On the basis of calculations speed (thickness) the
 technological parameters are determined, allowing to
 form nanolayers structures. Laws of change phasestructural
 structure, microhardness of received
 coverings from the pressure, the accelerating potential
 of a substrate are established. Shown, that a study
 flowing of fciction characteristics of coverings in
 comparison with covering TiN. Results friction tests
 testify, that nanolayer coverings TiN/Mo, TiN/БрАЖ9-4 on the operational parameters essentially
 exceed covering TiN.
ru
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
Физическая инженерия поверхности
Микро-нанослойные покрытия, сформированные методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ВЧ-разряда
Мікро-наношарові покриття сформовані методом вакуумно - дугового осаждення з використанням вч-розряду
Mickro-nanolayer coverings produced by the method vacuum-arc deposition from use the hf-discharge
Article
published earlier
spellingShingle Микро-нанослойные покрытия, сформированные методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ВЧ-разряда
Береснев, В.М.
Толок, В.Т.
Швец, О.М.
Фурсова, Е.В.
Чернышов, Н.Н.
Маликов, Л.В.
title Микро-нанослойные покрытия, сформированные методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ВЧ-разряда
title_alt Мікро-наношарові покриття сформовані методом вакуумно - дугового осаждення з використанням вч-розряду
Mickro-nanolayer coverings produced by the method vacuum-arc deposition from use the hf-discharge
title_full Микро-нанослойные покрытия, сформированные методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ВЧ-разряда
title_fullStr Микро-нанослойные покрытия, сформированные методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ВЧ-разряда
title_full_unstemmed Микро-нанослойные покрытия, сформированные методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ВЧ-разряда
title_short Микро-нанослойные покрытия, сформированные методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ВЧ-разряда
title_sort микро-нанослойные покрытия, сформированные методом вакуумно-дугового осаждения с использованием вч-разряда
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98788
work_keys_str_mv AT beresnevvm mikronanosloinyepokrytiâsformirovannyemetodomvakuumnodugovogoosaždeniâsispolʹzovaniemvčrazrâda
AT tolokvt mikronanosloinyepokrytiâsformirovannyemetodomvakuumnodugovogoosaždeniâsispolʹzovaniemvčrazrâda
AT švecom mikronanosloinyepokrytiâsformirovannyemetodomvakuumnodugovogoosaždeniâsispolʹzovaniemvčrazrâda
AT fursovaev mikronanosloinyepokrytiâsformirovannyemetodomvakuumnodugovogoosaždeniâsispolʹzovaniemvčrazrâda
AT černyšovnn mikronanosloinyepokrytiâsformirovannyemetodomvakuumnodugovogoosaždeniâsispolʹzovaniemvčrazrâda
AT malikovlv mikronanosloinyepokrytiâsformirovannyemetodomvakuumnodugovogoosaždeniâsispolʹzovaniemvčrazrâda
AT beresnevvm míkronanošarovípokrittâsformovanímetodomvakuumnodugovogoosaždennâzvikoristannâmvčrozrâdu
AT tolokvt míkronanošarovípokrittâsformovanímetodomvakuumnodugovogoosaždennâzvikoristannâmvčrozrâdu
AT švecom míkronanošarovípokrittâsformovanímetodomvakuumnodugovogoosaždennâzvikoristannâmvčrozrâdu
AT fursovaev míkronanošarovípokrittâsformovanímetodomvakuumnodugovogoosaždennâzvikoristannâmvčrozrâdu
AT černyšovnn míkronanošarovípokrittâsformovanímetodomvakuumnodugovogoosaždennâzvikoristannâmvčrozrâdu
AT malikovlv míkronanošarovípokrittâsformovanímetodomvakuumnodugovogoosaždennâzvikoristannâmvčrozrâdu
AT beresnevvm mickronanolayercoveringsproducedbythemethodvacuumarcdepositionfromusethehfdischarge
AT tolokvt mickronanolayercoveringsproducedbythemethodvacuumarcdepositionfromusethehfdischarge
AT švecom mickronanolayercoveringsproducedbythemethodvacuumarcdepositionfromusethehfdischarge
AT fursovaev mickronanolayercoveringsproducedbythemethodvacuumarcdepositionfromusethehfdischarge
AT černyšovnn mickronanolayercoveringsproducedbythemethodvacuumarcdepositionfromusethehfdischarge
AT malikovlv mickronanolayercoveringsproducedbythemethodvacuumarcdepositionfromusethehfdischarge