Диссоциативный режим ВЧ емкостного разряда низкого давления
В данной работе представлены результаты экспериментального исследования ВЧ емкостного разряда в SF₆, NF₃ и SiH₄ низкого давления. У роботі наведено результати експериментального дослідження ВЧ ємнісного розряду у SF₆, NF₃ та SiH₄ низького тиску. This paper presents the results of experimental stud...
Saved in:
| Published in: | Физическая инженерия поверхности |
|---|---|
| Date: | 2006 |
| Main Author: | |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2006
|
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98793 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України / В.А. Лисовский // Физическая инженерия поверхности. — 2006. — Т. 4, № 3-4. — С. 143–168. — Бібліогр.: 77 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862568142346125312 |
|---|---|
| author | Лисовский, В.А. |
| author_facet | Лисовский, В.А. |
| citation_txt | Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України / В.А. Лисовский // Физическая инженерия поверхности. — 2006. — Т. 4, № 3-4. — С. 143–168. — Бібліогр.: 77 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Физическая инженерия поверхности |
| description | В данной работе представлены результаты экспериментального исследования ВЧ емкостного разряда в SF₆, NF₃ и SiH₄ низкого давления.
У роботі наведено результати експериментального дослідження ВЧ ємнісного розряду у SF₆, NF₃ та SiH₄ низького тиску.
This paper presents the results of experimental studying rf capacitive discharge in low-pressure SF₆, NF₃ and SiH₄ .
.
|
| first_indexed | 2025-11-26T00:17:47Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-98793 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1999-8074 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-11-26T00:17:47Z |
| publishDate | 2006 |
| publisher | Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Лисовский, В.А. 2016-04-17T19:40:46Z 2016-04-17T19:40:46Z 2006 Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України / В.А. Лисовский // Физическая инженерия поверхности. — 2006. — Т. 4, № 3-4. — С. 143–168. — Бібліогр.: 77 назв. — рос. 1999-8074 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98793 533. 915 В данной работе представлены результаты экспериментального исследования ВЧ емкостного разряда в SF₆, NF₃ и SiH₄ низкого давления. У роботі наведено результати експериментального дослідження ВЧ ємнісного розряду у SF₆, NF₃ та SiH₄ низького тиску. This paper presents the results of experimental studying rf capacitive discharge in low-pressure SF₆, NF₃ and SiH₄ .
 . ru Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України Физическая инженерия поверхности Диссоциативный режим ВЧ емкостного разряда низкого давления Дисоціативна мода вч ємнісного розряду низького тиску Dissociative mode in low-pressure rf discharge Article published earlier |
| spellingShingle | Диссоциативный режим ВЧ емкостного разряда низкого давления Лисовский, В.А. |
| title | Диссоциативный режим ВЧ емкостного разряда низкого давления |
| title_alt | Дисоціативна мода вч ємнісного розряду низького тиску Dissociative mode in low-pressure rf discharge |
| title_full | Диссоциативный режим ВЧ емкостного разряда низкого давления |
| title_fullStr | Диссоциативный режим ВЧ емкостного разряда низкого давления |
| title_full_unstemmed | Диссоциативный режим ВЧ емкостного разряда низкого давления |
| title_short | Диссоциативный режим ВЧ емкостного разряда низкого давления |
| title_sort | диссоциативный режим вч емкостного разряда низкого давления |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98793 |
| work_keys_str_mv | AT lisovskiiva dissociativnyirežimvčemkostnogorazrâdanizkogodavleniâ AT lisovskiiva disocíativnamodavčêmnísnogorozrâdunizʹkogotisku AT lisovskiiva dissociativemodeinlowpressurerfdischarge |