Автоматизированная система оперативного контроля процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда
Описана система автоматического мониторинга технологического процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда, позволяющая в условиях интенсивных ВЧ помех измерять основные параметры процесса, отображать на экране компьютера их текущие значения и временные зависимост...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Физическая инженерия поверхности |
|---|---|
| Дата: | 2006 |
| Автор: | |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Russian |
| Опубліковано: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2006
|
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98794 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Автоматизированная система оперативного контроля процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда / С.В. Дудин // Физическая инженерия поверхности. — 2006. — Т. 4, № 3-4. — С. 169–173. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| id |
nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-98794 |
|---|---|
| record_format |
dspace |
| spelling |
Дудин, С.В. 2016-04-17T19:42:51Z 2016-04-17T19:42:51Z 2006 Автоматизированная система оперативного контроля процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда / С.В. Дудин // Физическая инженерия поверхности. — 2006. — Т. 4, № 3-4. — С. 169–173. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. 1999-8074 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98794 Описана система автоматического мониторинга технологического процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда, позволяющая в условиях интенсивных ВЧ помех измерять основные параметры процесса, отображать на экране компьютера их текущие значения и временные зависимости, а также записывать протокол технологического процесса. Описано систему автоматичного моніторингу технологічного процесу плазмохімічного травління в реакторі на базі ВЧ індукційного розряду, яка дозволяє в умовах інтенсивних ВЧ перешкод вимірювати основні параметри процесу, відображати на екрані комп’ютера їх поточнізначення та часові залежності, а також записувати протокол технологічного процесу. The system for automatic monitoring of the plasmachemical etching process in the ICP reactor is described, which in conditions of intense RF interference allows measuring the main process parameters, displaying the parameters and its time dependencies on the computer monitor as well as recording the protocol of the technology process. ru Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України Физическая инженерия поверхности Автоматизированная система оперативного контроля процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда Автоматизована система оперативного контролю процеса плазмохімічного травління в реаторі на базі ВЧ індукційного розряду Automated system for real-time control of plasma-chemical etching process in ICP reactor Article published earlier |
| institution |
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| collection |
DSpace DC |
| title |
Автоматизированная система оперативного контроля процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда |
| spellingShingle |
Автоматизированная система оперативного контроля процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда Дудин, С.В. |
| title_short |
Автоматизированная система оперативного контроля процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда |
| title_full |
Автоматизированная система оперативного контроля процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда |
| title_fullStr |
Автоматизированная система оперативного контроля процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда |
| title_full_unstemmed |
Автоматизированная система оперативного контроля процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда |
| title_sort |
автоматизированная система оперативного контроля процесса плазмохимического травления в реакторе на базе вч индукционного разряда |
| author |
Дудин, С.В. |
| author_facet |
Дудин, С.В. |
| publishDate |
2006 |
| language |
Russian |
| container_title |
Физическая инженерия поверхности |
| publisher |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| format |
Article |
| title_alt |
Автоматизована система оперативного контролю процеса плазмохімічного травління в реаторі на базі ВЧ індукційного розряду Automated system for real-time control of plasma-chemical etching process in ICP reactor |
| description |
Описана система автоматического мониторинга технологического процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда, позволяющая в условиях
интенсивных ВЧ помех измерять основные параметры процесса, отображать на экране компьютера их текущие значения и временные зависимости, а также записывать протокол технологического процесса.
Описано систему автоматичного моніторингу
технологічного процесу плазмохімічного травління в реакторі на базі ВЧ індукційного розряду,
яка дозволяє в умовах інтенсивних ВЧ перешкод
вимірювати основні параметри процесу, відображати на екрані комп’ютера їх поточнізначення та часові залежності, а також записувати протокол технологічного процесу.
The system for automatic monitoring of the plasmachemical
etching process in the ICP reactor is described,
which in conditions of intense RF interference
allows measuring the main process parameters,
displaying the parameters and its time dependencies
on the computer monitor as well as recording the
protocol of the technology process.
|
| issn |
1999-8074 |
| url |
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98794 |
| citation_txt |
Автоматизированная система оперативного контроля процесса плазмохимического травления в реакторе на базе ВЧ индукционного разряда / С.В. Дудин // Физическая инженерия поверхности. — 2006. — Т. 4, № 3-4. — С. 169–173. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. |
| work_keys_str_mv |
AT dudinsv avtomatizirovannaâsistemaoperativnogokontrolâprocessaplazmohimičeskogotravleniâvreaktorenabazevčindukcionnogorazrâda AT dudinsv avtomatizovanasistemaoperativnogokontrolûprocesaplazmohímíčnogotravlínnâvreatorínabazívčíndukcíinogorozrâdu AT dudinsv automatedsystemforrealtimecontrolofplasmachemicaletchingprocessinicpreactor |
| first_indexed |
2025-12-07T19:47:06Z |
| last_indexed |
2025-12-07T19:47:06Z |
| _version_ |
1850880113111990272 |