Азотирование сталей в газовом дуговом разряде низкого давления

• Veröffentlicht in: Физическая инженерия поверхности
• Datum: 2006
• Hauptverfasser: Андреев, А.А., Шулаев, В.М., Саблев, Л.П.
• Format: Artikel
• Sprache: Russian
• Veröffentlicht: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2006
• Online Zugang: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98799
• Назва журналу: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Zitieren: Азотирование сталей в газовом дуговом разряде низкого давления / А.А. Андреев, В.М. Шулаев, Л.П. Саблев // Физическая инженерия поверхности. — 2006. — Т. 4, № 3-4. — С. 191–197. — Бібліогр.: 12 назв. — рос.

Исследованы физико-механические характеристики слоёв, азотированных в газовом дуговом разряде в среде азота при давлении 0,665 Па. Показано, что этот процесс зависит только от концентрации атомарного азота и температуры подложки, то есть азотирование имеет место при бомбардировке как ионами, так и электронами. Скорость азотирования одинакова в обоих случаях. Бомбардировка ионами или электронами является только удобным инструментом для обеспечения необходимой температуры подложки. Чистота обработки поверхности после азотирования при электронной бомбардировке не изменяется. Досліджено фізико-механічні характеристики шарів, азотованих у газовому дуговому розряді в середовищі азоту при тиску 0,665 Па. Показано, що цей процес залежить тільки від концентрації атомарного азоту і температури підкладки, тобто азотування має місце при бомбардуванні як іонами, так і електронами. Швидкість азотування однакова в обох випадках. Бомбардування іонами або електронами є тільки зручним інструментом для забезпечення необхідної температури підкладки. Чистота обробки поверхні після азотування при електронному бомбардуванні не змінюється. Physical and mechanical properties of the layers nitrided in the gas arc discharge in the nitrogen atmosphere under the pressure of 0,665 Pa are investigated. It is shown that this process depends only on the concentration of atomic nitrogen and temperature of the substrate, i.e., nitration takes place during the bombing with both ions and electrons. The speed of nitration is identical in both cases. The ion or electron bombardment is just a convenient tool for achievening the necessary temperature of the substrate. The clearance of surface treatment after nitration during the electron bombardment does not change.