Нанокристаллические покрытия, полученные вакуумно-дуговым методом с использованием ВЧ напряжения
Показана возможность формирования нанокристаллических покрытий вакуумно-дуговым методом с использованием ВЧ напряжения. Изучены свойства покрытий ZrN, (TiAl)N, а также NbN + Al₂O₃. Полученные нанокристаллические покрытия (TiAl)N с содержанием Al 16 ат.% представляют собой однофазный раствор и...
Saved in:
| Published in: | Физическая инженерия поверхности |
|---|---|
| Date: | 2006 |
| Main Authors: | , , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2006
|
| Online Access: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98800 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Нанокристаллические покрытия, полученные вакуумно-дуговым методом с использованием ВЧ напряжения / П.В. Турбин, В.М. Береснев, О.М. Швец // Физическая инженерия поверхности. — 2006. — Т. 4, № 3-4. — С. 198–202. — Бібліогр.: 12 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1859674570415407104 |
|---|---|
| author | Турбин, П.В. Береснев, В.М. Швец, О.М. |
| author_facet | Турбин, П.В. Береснев, В.М. Швец, О.М. |
| citation_txt | Нанокристаллические покрытия, полученные вакуумно-дуговым методом с использованием ВЧ напряжения / П.В. Турбин, В.М. Береснев, О.М. Швец // Физическая инженерия поверхности. — 2006. — Т. 4, № 3-4. — С. 198–202. — Бібліогр.: 12 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Физическая инженерия поверхности |
| description | Показана возможность формирования нанокристаллических покрытий вакуумно-дуговым
методом с использованием ВЧ напряжения. Изучены свойства покрытий ZrN, (TiAl)N, а также
NbN + Al₂O₃. Полученные нанокристаллические покрытия (TiAl)N с содержанием Al 16 ат.%
представляют собой однофазный раствор и имеют твердость 35 ГПа. Твердость покрытий
ZrN, (TiAl)N не изменилась в течение 2-х месяцев.
Показана можливість формування нанокристалічних покриттів вакуумно-дуговим методом із
застосуванням ВЧ напруги. Вивчено властивості
покриттів ZrN, (TiAl)N, а також NbN + Al₂O₃. Отримані нанокристалічні покриття (TiAl)N з вмістом Al 16 % ат. є однофазним розчином і має твер-дість 35 ГПа. Твердість покриттів ZrN, (TiNAl)N
не змінюється на протязі 2-х місяців.
The opportunity of formation nanocrystalline coatings
by vacuum-arc method with usage of high frequency
voltage was shown. Properties of ZrN,
(TiAl)N, and also NbN + Al₂O₃ coatings were investigated.
Received nanocrystalline (TiAl)N coatings
with contents Al of 16% at. had single-phase solution
and hardness 35 GPa. Hardness of ZrN, (TiNAl) N
coatings has not changed during 2 months.
|
| first_indexed | 2025-11-30T15:19:54Z |
| format | Article |
| fulltext |
ФІП ФИП PSE, 2006, т. 4, № 3 – 4, vol. 4, No. 3 – 4198
ВВЕДЕНИЕ
Способы получения конденсированных нано-
структурных материалов достаточно разнооб-
разны, однако все они основаны на механизме
интенсивной диссипации энергии, с помо-
щью которой формируются наноструктуры.
Оказалось, что в отличие от линейных сис-
тем, где результатом совместного действия
различных факторов является простая супер-
позиция результатов каждого из них по от-
дельности, в нелинейных системах даже от-
носительно небольшое внешнее воздействие
может приводить к весьма значительным
эффектам. Использование таких воздействий
при сильно неравновесном процессе конден-
сации из высокоэнергетических ионно-
плазменных потоков позволяет создавать мат-
ериалы с уникальным структурным состоя-
нием и свойствами [1 – 3].
Результаты, приведенные в ряде работ [4
– 8], свидетельствуют, что такие свойства
нанокристаллических покрытий, как размер
и ориентация зерен, структура сильно зависят
от технологических параметров осаждения –
ионной бомбардировки, потенциала сме-
щения, температуры подложки, плотности
потока и энергии осаждаемых ионов.
Целью данной работы является получение
нанокристаллических покрытий методом
вакуумно-дугового осаждения с использова-
нием ВЧ напряжения, изучение влияния
технологических параметров на структуру,
физико-механические свойства и эксплуа-
тационные характеристики получаемых по-
крытий.
МЕТОДИКА ЭКСПЕРИМЕНТА И
ИССЛЕДОВАНИЙ
Для получения покрытий ZrN, (TiAl)N, и по-
крытия NbN + Al2O3 использовалась много-
функциональная установка [9], оснащенная
вакуумно-дуговым источником плазмы, ис-
точниками магнетронного распыления, а так-
же специально разработанным ВЧ генерато-
ром [10]. Блок-схема ВЧ генератора приве-
дена на рис. 1.
В качестве испаряемого материала исполь-
зовались: цирконий (Zr) вакуумного пере-
плава, а также сплав – 80% Ti и 20% Al. В
качестве реакционного газа применялся газо-
образный азот. Для получения многослойного
покрытия NbN + Al2O3 использовались два
метода: вакуумно-дуговое осаждение Nb ва-
куумного переплава и магнетронное распы-
ление Al марки А9999. Для получения по-
крытия NbN использовался газообразный
УДК 620.178.1: 539.533
НАНОКРИСТАЛЛИЧЕСКИЕ ПОКРЫТИЯ, ПОЛУЧЕННЫЕ
ВАКУУМНО-ДУГОВЫМ МЕТОДОМ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ ВЧ
НАПРЯЖЕНИЯ
П.В. Турбин, В.М. Береснев, О.М. Швец*
Научный физико-технологический центр МОН и НАН Украины (Харьков)
Украина
*Национальный научный центр “ХФТИ” НАН Украины (Харьков)
Украина
Поступила в редакцию 12.09.2006
Показана возможность формирования нанокристаллических покрытий вакуумно-дуговым
методом с использованием ВЧ напряжения. Изучены свойства покрытий ZrN, (TiAl)N, а также
NbN + Al2O3. Полученные нанокристаллические покрытия (TiAl)N с содержанием Al 16 ат.%
представляют собой однофазный раствор и имеют твердость 35 ГПа. Твердость покрытий
ZrN, (TiAl)N не изменилась в течение 2-х месяцев.
Рис. 1. Блок-схема ВЧ генератора: З.У. – зарядное
устройство; Р – разрядник; С – емкость; L – коле-
бательный контур.
ФІП ФИП PSE, 2006, т. 4, № 3 – 4, vol. 4, No. 3 – 4 199
азот, а для Al2O3 – смесь газов аргон + кисло-
род. Подложкой служили, образцы нержаве-
ющей стали 12Х18Н10Т, размером (∅ 20 мм,
δ = 4 мм). Рентгеноструктурные исследования
проводились с использованием рентгеновс-
кого дифрактометра ДРОН-3 в фильтрован-
ном Сu-Kα излучении. Методом рентгеновс-
кого микроанализа исследовалось относи-
тельное содержание элементов по глубине по-
крытия. Морфология поверхности и характер
распределения частиц капельной фазы ис-
следовалась на растровом электронном мик-
роскопе JEOL JSM-840. Наноиндентирование
проводилось с помощью наноиндентора
NANO INDENTER 11 (MTS Systems Inc.,
USA). Технологические параметры осажде-
ния приведены в табл. 1.
РЕЗУЛЬТАТЫ И ОБСУЖДЕНИЯ
Результаты изучения структурного состояния
и механических свойств покрытий (TiAl)N,
ZrN, NbN + Al2O3 приведены в табл. 2.
Покрытия ZrN. С помощью диаграммы
автоматического индентирования были оп-
ределены величины и, уровень сопротивле-
ния пластической деформации полученных
покрытий ZrN.
Обычные покрытия ZrN (δ = 4 мкм), по-
лученные при потенциале подложки 200 В и
температуре подложки около 450° С, показа-
ли нанотвердость 27 – 28 ГПа при модуле
Испаря-
емый
мате-
риал
Покры-
тия
Iд, А
IМ, А
PN,
Па
UВЧ,
В
L, мм U, В При-
меча-
ние
Zr ZrN 110 0,3 200 250 – ВЧ
осаж-
дение
Zr ZrN 110 0,3 – 250 200
Стан-
дартная
техно-
логия
80%Ti
и
20%Al
90 0,3 200 250 –
ВЧ
осаж-
дение
(TiAl)N
Nb, Al
Nb
0,3 150
– –
Al –
магнет-
ронное
распы-
ление
Nb –
вакуум-
но-ду-
говое
осаж-
дение
Двух-
слой-
ное
NbN +
Al2O3
120
Al
0,5-3,0
Ar+O2
0,5
100
Таблица 1
Технологические параметры осаждения
упругости Е = 394 ГПа. Величина отноше-
ния Н/Е* составила 0,07.
Покрытия ZrN (δ = 4 мкм), полученные с
использованием ВЧ напряжения, показали
твердость 32 – 34 ГПа, при модуле упругости
Е = 403 ГПа. Величина отношения Н/Е* сос-
тавила 0,081. Из сопоставления результатов
следует, что увеличение роста твердости свя-
зано с улучшением гомогенности объемной
структуры покрытий ZrN по фазовому сос-
таву с одной стороны, а с другой – рост твер-
дости может быть связан с измельчением зе-
ренной структуры (правило Холла-Петча)
ионной бомбардировкой при приложении
высоковольтных ВЧ импульсов к подложке в
процессе осаждения.
Покрытия NbN+Al2O3. Покрытия осаж-
дались из двух плазменных источников: ваку-
умно-дугового и магнетронного, которые рас-
полагались на боковой поверхности камеры.
На рис. 2 приведена дифрактограмма и мор-
фология поверхности внешнего слоя Al2O3
(рис. 2б) покрытия NbN + Al2O3, толщина
покрытия NbN (δ = 3 мкм), а Al2O3
(δ = 2 мкм). ОКР покрытия ~ 15 нм.
Максимальное значение твердости, изме-
ренное на образцах 12Х18Н10Т с покрытием
NbN + Al2O3, толщиной 4,5 мкм составляет
H = 19 ГПа.
Покрытия (TiAl)N. Рентгеноструктурные
исследования фазового состава покрытий
(TiAl)N, полученных как при подаче импуль-
сов, так и без них показали наличие только
одной фазы нитрида титана с ГЦК решеткой
(рис. 3). Установлено, что в процессе осаж-
дения потоков плазмы в вакууме при давле-
нии азота РN = 0,3 Па с использованием в ка-
Таблица 2
Физические, механические свойства
нанокристаллических покрытий
Покры-
тия
ОКР,
нм а, нм ε, % σ,
ГПа
Н,
ГПа
Е,
ГПа Н/Е
ZrN –
cтан-
дартная
техно-
логия
60 0,459 0,73 4,0 28 394 0,071
ZrN –
ВЧ осаж-
дение
20 0,458 0,35 3,0 33 403 0,081
Ti-Al-N –
ВЧ осаж-
дение
15 0,473 – 1,6 36 363,6 0,097
П.В. ТУРБИН, В.М. БЕРЕСНЕВ, О.М. ШВЕЦ
ФІП ФИП PSE, 2006, т. 4, № 3 – 4, vol. 4, No. 3 – 4200
честве распыляемого катода сплава титана с
алюминием образуется соединения Ti-Al-N,
содержащее Al 16 ат.%, текстурой {111}. В
соответствии с механизмом роста покрытий
[11], кристаллографическая ориентация рос-
та зерен определяется минимумом общей
энергии, состоящей из поверхностной энер-
гии и энергии деформации. Рост покрытий
происходит в направлении {200} с низкой
энергией, при этом определяющим фактором
является поверхностная энергия.
В рассматриваемом случае, образование
текстуры {111} связано с тем, что в процессе
роста доминирует деформация. Это справед-
ливо в условиях высокой подвижности ато-
мов на поверхности растущего покрытия. Так
как при пониженных температурах осажде-
ния подвижность атомов на поверхности не-
достаточна для обеспечения роста зерен в од-
ной кристаллографической ориентации, то в
данных условиях текстура не образуется. Из
анализа дифрактограмм следует, что струк-
тура покрытий Ti(Al)N является однофазной.
Если и возможно присутствие других фаз в
покрытии, то они должны находиться в виде
нанокристаллических выделений по грани-
цам зерен с размерами менее 0,2 нм, что не
позволяет идентифицировать их в виде соб-
ственных дифракционных максимумов.
Вклад таких фаз в общий химический состав
покрытия незначителен.
На рис. 4 приведены данные РМА, свиде-
тельствующие о процессах атомного переме-
шивания при использовании ВЧ напряжения
(рис. 4а) и как следствие, приводящие к
появлению ряда особенностей структуры –
образованию переходного слоя на границе
покрытие-подложка, обеспечивающего высо-
кую адгезию покрытия и формирование нано-
кристаллической структуры.
Изучение механических свойств покрытий
осуществлялось методом наноиндентирова-
ния при нагрузке 15 мН с глубиной информа-
тивного слоя ~ 140 нм, что с одной стороны
превышает поверхностный обогащенный
атомами примесей слой, а с другой стороны
– составляет величину меньшую, чем 0,1 от
толщины пленки, при условиях, когда влия-
ние подложки можно не учитывать.
Рис. 2. Двухслойное покрытия NbN+Al2O3: а) – дифрактограмма внешнего слоя Al2O3; б) – морфология
поверхности Al2O3.
а) б)
Рис. 3. Дифрактограмма покрытий (TiAl)N, толщина
покрытия (ґ = 5 мкм).
НАНОКРИСТАЛЛИЧЕСКИЕ ПОКРЫТИЯ, ПОЛУЧЕННЫЕ ВАКУУМНО-ДУГОВЫМ МЕТОДОМ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ ВЧ НАПРЯЖЕНИЯ
ФІП ФИП PSE, 2006, т. 4, № 3 – 4, vol. 4, No. 3 – 4 201
Согласно литературным данным критерий
(Н/Е) для всех типов исследуемых в массив-
ном состоянии материалов не самым, к мак-
симально возможному значению 0,14 – для
аморфного состояния материала [12]. Однако
в отличие от аморфных материалов, это со-
отношение достигается при относительно не-
высокой твердости (~ 20 ГПа), что касается
системы (TiAl)N с содержанием Al 16 ат.%,
то высокое соотношение Н/Е получено при
твердости близкой к 35 ГПа, что соответст-
вует порогу твердости для нанокристалли-
ческого состояния этой системы. Хранение
покрытий ZrN, (TiAl)N, полученных в усло-
виях ВЧ осаждения при комнатной темпе-
ратуре в течение 2-х месяцев не приводит к
снижению твёрдость покрытий.
ВЫВОДЫ
1. Показано, что использование ВЧ напря-
жения в методе вакуумно-дугового осаж-
дения, обеспечивает энергетическую сти-
муляцию процесса конденсации, откры-
вая, тем самым, возможности для регули-
рования структуры и свойств покрытий.
2. Установлено, что увеличение твердости
покрытий ZrN при приложении высоко-
вольтных ВЧ импульсов к подложке в про-
цессе осаждения связано с изменением
размеров структурных элементов
ОКР
cт.ZrN = 60 нм; ОКР
ВЧZrN = 20 нм.
3. Показаны возможности применения мно-
гофункциональной установки для получе-
ния наноструктурных многослойных по-
крытий NbN + Al2O3, путем спользования
вакуумно-дугового и магнетронного ис-
точников плазмы, а также высоковольт-
ных ВЧ им-пульсов подаваемых на под-
ложку в процессе осаждения.
4. Получены твердые нанокомпозитные по-
крытия системы (TiAl)N с содержанием
Al 16 ат.%, структура которых является од-
нофазной, при этом их твердость сос-
тавила 35 ГПа.
ЛИТЕРАТУРА
1. Гусев А.И. Наноматериалы, наноструктуры,
нанотехнологии. – 2005. – М.: Физмалит. –
416 с.
2. Андриевский Р.А., Рагуля А.В. Нанострук-
турные материалы. – 2005. – М.: Академия. –
192 с.
3. Veprek S., Argon A.S. Towards the understanding
of mechanical properties of super- and ultrahard
nanocomposites//J. Vac. Sci. Technol. – 2002. –
Vol. B20(2). – P. 650-664.
4. Petrov I., Hultman L., Sundgrenn J.-E.,
Grenn J.E. Polycrystalline TiN films deposited
by reactive bias magnetron sputtering. Effects
of ion bombardment on resputtering rates, film
composition and microstructure//J. Vac. Sci.
Techol. – 1992. – Vol. A.10(2). – P. 458-463.
5. Musil J. Hruby H. Superhard nanocomposite
Ti1-xAlxN films prepared by magnetron
а) б)
Рис. 4. Распределение элементов по глубине покрытия (TiAl)N одного и того же участка поверхности:
а) – стандартная технология Uсм = 100 В; б) – с подачей импульсного ВЧ напряжения.
П.В. ТУРБИН, В.М. БЕРЕСНЕВ, О.М. ШВЕЦ
ФІП ФИП PSE, 2006, т. 4, № 3 – 4, vol. 4, No. 3 – 4202
sputtering//Thin Solid Films. – 2000. – Vol. 365.
– P. 104-109.
6. Musil J., Hard J. Hard and superhard nanocom-
posite cоatings//Surface and Coatings Tech-
nology. – 2000. – Vol. 125. – P. 322-330.
7. Mayrhofe P.H., Mitterer C., Musil J. Structure-
property relationships in single- and dual-phase
nanocrystalline hard coatings//Surface and Coa-
tings Technology. – 2003. – Vol. 174–175. –
Р. 725-731.
8. Veprek S., Veprek-Heijman M.G.J., Karvanko-
va P., Prochazka J. Different approaches to super-
hard coatings and nanocomposites//Thin Solid
Films. – 2005. – Vol. 476. – P. 1-29.
9. Турбин П.В., Фареник В.И., Целуйко А.Ф. и
др. Ионно-плазменное осаждение покрытий
NANOCRYSTALLINE COATINGS BY
VACUUM-ARC METHOD WITH USAGE
OF HIGH FREQUENCY VOLTAGE
P.V. Turbin, V.M. Beresnyev, O.M. Shvets
The opportunity of formation nanocrystalline coa-
tings by vacuum-arc method with usage of high fre-
quency voltage was shown. Properties of ZrN,
(TiAl)N, and also NbN + Al2O3 coatings were inves-
tigated. Received nanocrystalline (TiAl)N coatings
with contents Al of 16% at. had single-phase solution
and hardness 35 GPa. Hardness of ZrN, (TiNAl) N
coatings has not changed during 2 months.
//Восточно-европейский журнал передовых
технологий. – 2003. – № 4. – С. 37-43.
10. Береснев В.М. Использование импульсного
ВЧ напряжения в методе вакуумно-дугового
осаждения//Восточно-европейский журнал
передовых технологий. – 2006. – № 1. –
С. 109 –111.
11. Pelleg J., Zevin L.Z., Lungo S., Croitaru N.
Reactive – sputter-deposition TiN films of glass
substrates//Thin Solid Films. – 1991. – Vol. 197.–
P. 117-128.
12. Горбань В.Ф., Мамека Н.А., Печковский Э.П.,
Фирстов С.А. Идентификация структурного
состояния материалов методом автоматичес-
кого индентирования//Сб. докл. Харьковской
нанотехнологической ассамблеи. – 2006. –
Харьков ННЦ “ХФТИ”. – T. 1. – С. 52-55.
НАНОКРИСТАЛІЧНІ ПОКРИТТЯ,
ОТРИМАНІ ВАКУУМНО-ДУГОВИМ
МЕТОДОМ ІЗ ЗАСТОСУВАННЯМ
ВЧ НАПРУГИ
П.В. Турбін, В.М. Береснєв, О.М. Швець
Показана можливість формування нанокриста-
лічних покриттів вакуумно-дуговим методом із
застосуванням ВЧ напруги. Вивчено властивості
покриттів ZrN, (TiAl)N, а також NbN + Al2O3. От-
римані нанокристалічні покриття (TiAl)N з вміс-
том Al 16 % ат. є однофазним розчином і має твер-
дість 35 ГПа. Твердість покриттів ZrN, (TiNAl)N
не змінюється на протязі 2-х місяців.
НАНОКРИСТАЛЛИЧЕСКИЕ ПОКРЫТИЯ, ПОЛУЧЕННЫЕ ВАКУУМНО-ДУГОВЫМ МЕТОДОМ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ ВЧ НАПРЯЖЕНИЯ
|
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-98800 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1999-8074 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-11-30T15:19:54Z |
| publishDate | 2006 |
| publisher | Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Турбин, П.В. Береснев, В.М. Швец, О.М. 2016-04-17T19:53:59Z 2016-04-17T19:53:59Z 2006 Нанокристаллические покрытия, полученные вакуумно-дуговым методом с использованием ВЧ напряжения / П.В. Турбин, В.М. Береснев, О.М. Швец // Физическая инженерия поверхности. — 2006. — Т. 4, № 3-4. — С. 198–202. — Бібліогр.: 12 назв. — рос. 1999-8074 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98800 620.178.1: 539.533 Показана возможность формирования нанокристаллических покрытий вакуумно-дуговым методом с использованием ВЧ напряжения. Изучены свойства покрытий ZrN, (TiAl)N, а также NbN + Al₂O₃. Полученные нанокристаллические покрытия (TiAl)N с содержанием Al 16 ат.% представляют собой однофазный раствор и имеют твердость 35 ГПа. Твердость покрытий ZrN, (TiAl)N не изменилась в течение 2-х месяцев. Показана можливість формування нанокристалічних покриттів вакуумно-дуговим методом із застосуванням ВЧ напруги. Вивчено властивості покриттів ZrN, (TiAl)N, а також NbN + Al₂O₃. Отримані нанокристалічні покриття (TiAl)N з вмістом Al 16 % ат. є однофазним розчином і має твер-дість 35 ГПа. Твердість покриттів ZrN, (TiNAl)N не змінюється на протязі 2-х місяців. The opportunity of formation nanocrystalline coatings by vacuum-arc method with usage of high frequency voltage was shown. Properties of ZrN, (TiAl)N, and also NbN + Al₂O₃ coatings were investigated. Received nanocrystalline (TiAl)N coatings with contents Al of 16% at. had single-phase solution and hardness 35 GPa. Hardness of ZrN, (TiNAl) N coatings has not changed during 2 months. ru Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України Физическая инженерия поверхности Нанокристаллические покрытия, полученные вакуумно-дуговым методом с использованием ВЧ напряжения Nanocrystalline coatings by vacuum-arc method with usage of high frequency voltage Нанокристалічні покриття, отримані вакуумно-дуговим методом із застосуванням ВЧ напруги Article published earlier |
| spellingShingle | Нанокристаллические покрытия, полученные вакуумно-дуговым методом с использованием ВЧ напряжения Турбин, П.В. Береснев, В.М. Швец, О.М. |
| title | Нанокристаллические покрытия, полученные вакуумно-дуговым методом с использованием ВЧ напряжения |
| title_alt | Nanocrystalline coatings by vacuum-arc method with usage of high frequency voltage Нанокристалічні покриття, отримані вакуумно-дуговим методом із застосуванням ВЧ напруги |
| title_full | Нанокристаллические покрытия, полученные вакуумно-дуговым методом с использованием ВЧ напряжения |
| title_fullStr | Нанокристаллические покрытия, полученные вакуумно-дуговым методом с использованием ВЧ напряжения |
| title_full_unstemmed | Нанокристаллические покрытия, полученные вакуумно-дуговым методом с использованием ВЧ напряжения |
| title_short | Нанокристаллические покрытия, полученные вакуумно-дуговым методом с использованием ВЧ напряжения |
| title_sort | нанокристаллические покрытия, полученные вакуумно-дуговым методом с использованием вч напряжения |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98800 |
| work_keys_str_mv | AT turbinpv nanokristalličeskiepokrytiâpolučennyevakuumnodugovymmetodomsispolʹzovaniemvčnaprâženiâ AT beresnevvm nanokristalličeskiepokrytiâpolučennyevakuumnodugovymmetodomsispolʹzovaniemvčnaprâženiâ AT švecom nanokristalličeskiepokrytiâpolučennyevakuumnodugovymmetodomsispolʹzovaniemvčnaprâženiâ AT turbinpv nanocrystallinecoatingsbyvacuumarcmethodwithusageofhighfrequencyvoltage AT beresnevvm nanocrystallinecoatingsbyvacuumarcmethodwithusageofhighfrequencyvoltage AT švecom nanocrystallinecoatingsbyvacuumarcmethodwithusageofhighfrequencyvoltage AT turbinpv nanokristalíčnípokrittâotrimanívakuumnodugovimmetodomízzastosuvannâmvčnaprugi AT beresnevvm nanokristalíčnípokrittâotrimanívakuumnodugovimmetodomízzastosuvannâmvčnaprugi AT švecom nanokristalíčnípokrittâotrimanívakuumnodugovimmetodomízzastosuvannâmvčnaprugi |