Plasma potential influence on ion energy Distribution function in ICP source - Vozniy, O.V.; Yeom, G.Y.; Kropotov, A.Yu. (Физическая инженерия поверхности, 2007)
In this work, the deviation of energy distribution function of energetic ions from the predetermined
value in an inductively coupled plasma (ICP) ion gun source is discussed. An abnormal plasma potential
increase at an extraction voltage 400 V caused a beam energy shift of up to 50 eV compared to the
preset value. The ion energy peak position was found to be more affected by pressure at higher
extraction voltages on the acceleration grid. У даній роботі обговорюється відхилення функції розподілу по енергіях прискорених іонів від
установленого значення в джерелі на основе ВЧІ
розряду. Аномальне збільшення потенціала плазми при значенні прискорючого напруження 400 В
викликало зсув енергії пучка убік великих значень
на величину до 50 еВ. При цьому було виявлено,
що положення максимуму функції розподілу
залежило від тиску в більшому ступені при більш
високих значеннях прискорючого напруження. В данной работе обсуждается отклонение функции распределения по энергиямускоренных ионов
от установленного значения в источнике на основе ВЧИ разряда. Аномальное увеличение потенциала плазмы при значении ускоряющего напряжения 400 В вызывало смещение энергии
пучка в сторону больших значений на величину
до 50 эВ. При этом было обнаружено, что положение максимума функции распределения зависело от давления в большей степени при более
высоких значениях ускоряющего напряжения.