Сопоставление характеристик вакуумно-дуговых наноструктурных TiN покрытий, осаждаемых при подаче на подложку высоковольтных импульсов

Изучено два типа наноструктурных покрытий TiN: полученных по традиционной технологии
 и с приложением к подложке высоковольтных импульсов. Проведено сопоставление данных
 для обоих типов наноструктурных покрытий по цветовым характеристикам, рентгеноструктурным исследованиям, фрактогр...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Физическая инженерия поверхности
Date:2007
Main Authors: Шулаев, В.М., Андреев, А.А., Горбань, В.Ф., Столбовой, В.А.
Format: Article
Language:Russian
Published: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2007
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98818
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Сопоставление характеристик вакуумно-дуговых наноструктурных TiN покрытий, осаждаемых при подаче на подложку высоковольтных импульсов / В.М. Шулаев, А.А. Андреев, В.Ф. Горбань, В.А. Столбовой // Физическая инженерия поверхности. — 2007. — Т. 5, № 1-2. — С. 94–97. — Бібліогр.: 11 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862728578792161280
author Шулаев, В.М.
Андреев, А.А.
Горбань, В.Ф.
Столбовой, В.А.
author_facet Шулаев, В.М.
Андреев, А.А.
Горбань, В.Ф.
Столбовой, В.А.
citation_txt Сопоставление характеристик вакуумно-дуговых наноструктурных TiN покрытий, осаждаемых при подаче на подложку высоковольтных импульсов / В.М. Шулаев, А.А. Андреев, В.Ф. Горбань, В.А. Столбовой // Физическая инженерия поверхности. — 2007. — Т. 5, № 1-2. — С. 94–97. — Бібліогр.: 11 назв. — рос.
collection DSpace DC
container_title Физическая инженерия поверхности
description Изучено два типа наноструктурных покрытий TiN: полученных по традиционной технологии
 и с приложением к подложке высоковольтных импульсов. Проведено сопоставление данных
 для обоих типов наноструктурных покрытий по цветовым характеристикам, рентгеноструктурным исследованиям, фрактографиям изломов и на предмет наличия частиц капельной фазы,
 а также по измерению твердости наноиндентированием. Обнаружено формирование сверх-твердых наноструктурных TiN покрытий, не содержащих в объеме частиц капельной фазы,
 при наложении на подложку дополнительных высоковольтных импульсов. Досліджено два типи наноструктурних TiN покриттів: отриманих за традиційною технологією
 та з прикладанням на підкладку високовольтних
 імпульсів. Проведено зіставлення даних для обох
 типів наноструктурних покриттів за кольоровими
 характеристиками, рентгеноструктурними дослідженнями, фрактографіями зломів та на предмет присутності частинок крапельної фази, а також за вимірюванням твердості наноиндентуванням. Виявлено формування надтвердих наноструктурних TiN покриттів, які не містять в об’ємі частинок крапельної фази при накладанні на
 підкладку додаткових високовольтних імпульсів. Two types nano-structructure TiN coatings obtained
 both by means of traditional technology and with
 substrate HV pulse bias have been investigated. It
 has been carried out the comparison both of nanostructure
 types data; color features, X-ray characteristics,
 fracture micrographs, concerning droplets
 presence, and nano-indentation as well. It has been
 found the formation of dropless superhard nanostructure
 TiN coatings while additional HV pulse
 substrate bias.
first_indexed 2025-12-07T19:09:43Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-98818
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1999-8074
language Russian
last_indexed 2025-12-07T19:09:43Z
publishDate 2007
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
record_format dspace
spelling Шулаев, В.М.
Андреев, А.А.
Горбань, В.Ф.
Столбовой, В.А.
2016-04-17T22:02:29Z
2016-04-17T22:02:29Z
2007
Сопоставление характеристик вакуумно-дуговых наноструктурных TiN покрытий, осаждаемых при подаче на подложку высоковольтных импульсов / В.М. Шулаев, А.А. Андреев, В.Ф. Горбань, В.А. Столбовой // Физическая инженерия поверхности. — 2007. — Т. 5, № 1-2. — С. 94–97. — Бібліогр.: 11 назв. — рос.
1999-8074
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98818
620.178.1:539.533
Изучено два типа наноструктурных покрытий TiN: полученных по традиционной технологии
 и с приложением к подложке высоковольтных импульсов. Проведено сопоставление данных
 для обоих типов наноструктурных покрытий по цветовым характеристикам, рентгеноструктурным исследованиям, фрактографиям изломов и на предмет наличия частиц капельной фазы,
 а также по измерению твердости наноиндентированием. Обнаружено формирование сверх-твердых наноструктурных TiN покрытий, не содержащих в объеме частиц капельной фазы,
 при наложении на подложку дополнительных высоковольтных импульсов.
Досліджено два типи наноструктурних TiN покриттів: отриманих за традиційною технологією
 та з прикладанням на підкладку високовольтних
 імпульсів. Проведено зіставлення даних для обох
 типів наноструктурних покриттів за кольоровими
 характеристиками, рентгеноструктурними дослідженнями, фрактографіями зломів та на предмет присутності частинок крапельної фази, а також за вимірюванням твердості наноиндентуванням. Виявлено формування надтвердих наноструктурних TiN покриттів, які не містять в об’ємі частинок крапельної фази при накладанні на
 підкладку додаткових високовольтних імпульсів.
Two types nano-structructure TiN coatings obtained
 both by means of traditional technology and with
 substrate HV pulse bias have been investigated. It
 has been carried out the comparison both of nanostructure
 types data; color features, X-ray characteristics,
 fracture micrographs, concerning droplets
 presence, and nano-indentation as well. It has been
 found the formation of dropless superhard nanostructure
 TiN coatings while additional HV pulse
 substrate bias.
Авторы выражают глубокую благодарность к.ф.-м.н. А.П. Крышталю за съемки на
 растровом электронном микроскопе.
 Работа выполнена по проекту №94/07-Н
 “Исследование ионно-плазменной нанотехнологии на основе вакуумно-дугового разряда для получения износостойких, высоко- и
 сверхвысокотвердых, а также пористых наноструктурных покрытий, изучение их физикомеханических свойств”.
ru
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
Физическая инженерия поверхности
Сопоставление характеристик вакуумно-дуговых наноструктурных TiN покрытий, осаждаемых при подаче на подложку высоковольтных импульсов
Зіставлення характеристик ваку- умно-дугових наноструктурних TiN покриттів, які осаджувались при подачі на підкладинку високовольтних імпульсів
Comparison of characteristics of vacuum-arc nano-structure TiN coatings deposited under hv pulse substrate bias
Article
published earlier
spellingShingle Сопоставление характеристик вакуумно-дуговых наноструктурных TiN покрытий, осаждаемых при подаче на подложку высоковольтных импульсов
Шулаев, В.М.
Андреев, А.А.
Горбань, В.Ф.
Столбовой, В.А.
title Сопоставление характеристик вакуумно-дуговых наноструктурных TiN покрытий, осаждаемых при подаче на подложку высоковольтных импульсов
title_alt Зіставлення характеристик ваку- умно-дугових наноструктурних TiN покриттів, які осаджувались при подачі на підкладинку високовольтних імпульсів
Comparison of characteristics of vacuum-arc nano-structure TiN coatings deposited under hv pulse substrate bias
title_full Сопоставление характеристик вакуумно-дуговых наноструктурных TiN покрытий, осаждаемых при подаче на подложку высоковольтных импульсов
title_fullStr Сопоставление характеристик вакуумно-дуговых наноструктурных TiN покрытий, осаждаемых при подаче на подложку высоковольтных импульсов
title_full_unstemmed Сопоставление характеристик вакуумно-дуговых наноструктурных TiN покрытий, осаждаемых при подаче на подложку высоковольтных импульсов
title_short Сопоставление характеристик вакуумно-дуговых наноструктурных TiN покрытий, осаждаемых при подаче на подложку высоковольтных импульсов
title_sort сопоставление характеристик вакуумно-дуговых наноструктурных tin покрытий, осаждаемых при подаче на подложку высоковольтных импульсов
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98818
work_keys_str_mv AT šulaevvm sopostavlenieharakteristikvakuumnodugovyhnanostrukturnyhtinpokrytiiosaždaemyhpripodačenapodložkuvysokovolʹtnyhimpulʹsov
AT andreevaa sopostavlenieharakteristikvakuumnodugovyhnanostrukturnyhtinpokrytiiosaždaemyhpripodačenapodložkuvysokovolʹtnyhimpulʹsov
AT gorbanʹvf sopostavlenieharakteristikvakuumnodugovyhnanostrukturnyhtinpokrytiiosaždaemyhpripodačenapodložkuvysokovolʹtnyhimpulʹsov
AT stolbovoiva sopostavlenieharakteristikvakuumnodugovyhnanostrukturnyhtinpokrytiiosaždaemyhpripodačenapodložkuvysokovolʹtnyhimpulʹsov
AT šulaevvm zístavlennâharakteristikvakuumnodugovihnanostrukturnihtinpokrittívâkíosadžuvalisʹpripodačínapídkladinkuvisokovolʹtnihímpulʹsív
AT andreevaa zístavlennâharakteristikvakuumnodugovihnanostrukturnihtinpokrittívâkíosadžuvalisʹpripodačínapídkladinkuvisokovolʹtnihímpulʹsív
AT gorbanʹvf zístavlennâharakteristikvakuumnodugovihnanostrukturnihtinpokrittívâkíosadžuvalisʹpripodačínapídkladinkuvisokovolʹtnihímpulʹsív
AT stolbovoiva zístavlennâharakteristikvakuumnodugovihnanostrukturnihtinpokrittívâkíosadžuvalisʹpripodačínapídkladinkuvisokovolʹtnihímpulʹsív
AT šulaevvm comparisonofcharacteristicsofvacuumarcnanostructuretincoatingsdepositedunderhvpulsesubstratebias
AT andreevaa comparisonofcharacteristicsofvacuumarcnanostructuretincoatingsdepositedunderhvpulsesubstratebias
AT gorbanʹvf comparisonofcharacteristicsofvacuumarcnanostructuretincoatingsdepositedunderhvpulsesubstratebias
AT stolbovoiva comparisonofcharacteristicsofvacuumarcnanostructuretincoatingsdepositedunderhvpulsesubstratebias