Сопоставление характеристик вакуумно-дуговых наноструктурных TiN покрытий, осаждаемых при подаче на подложку высоковольтных импульсов

Сопоставление характеристик вакуумно-дуговых наноструктурных TiN покрытий, осаждаемых при подаче на подложку высоковольтных импульсов

Изучено два типа наноструктурных покрытий TiN: полученных по традиционной технологии и с приложением к подложке высоковольтных импульсов. Проведено сопоставление данных для обоих типов наноструктурных покрытий по цветовым характеристикам, рентгеноструктурным исследованиям, фрактографиям изломов и...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Физическая инженерия поверхности
Datum:2007
Hauptverfasser: Шулаев, В.М., Андреев, А.А., Горбань, В.Ф., Столбовой, В.А.
Format: Artikel
Sprache:Russian
Veröffentlicht: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2007
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98818
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Сопоставление характеристик вакуумно-дуговых наноструктурных TiN покрытий, осаждаемых при подаче на подложку высоковольтных импульсов / В.М. Шулаев, А.А. Андреев, В.Ф. Горбань, В.А. Столбовой // Физическая инженерия поверхности. — 2007. — Т. 5, № 1-2. — С. 94–97. — Бібліогр.: 11 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-98818
record_format dspace
spelling Шулаев, В.М.
Андреев, А.А.
Горбань, В.Ф.
Столбовой, В.А.
2016-04-17T22:02:29Z
2016-04-17T22:02:29Z
2007
Сопоставление характеристик вакуумно-дуговых наноструктурных TiN покрытий, осаждаемых при подаче на подложку высоковольтных импульсов / В.М. Шулаев, А.А. Андреев, В.Ф. Горбань, В.А. Столбовой // Физическая инженерия поверхности. — 2007. — Т. 5, № 1-2. — С. 94–97. — Бібліогр.: 11 назв. — рос.
1999-8074
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98818
620.178.1:539.533
Изучено два типа наноструктурных покрытий TiN: полученных по традиционной технологии и с приложением к подложке высоковольтных импульсов. Проведено сопоставление данных для обоих типов наноструктурных покрытий по цветовым характеристикам, рентгеноструктурным исследованиям, фрактографиям изломов и на предмет наличия частиц капельной фазы, а также по измерению твердости наноиндентированием. Обнаружено формирование сверх-твердых наноструктурных TiN покрытий, не содержащих в объеме частиц капельной фазы, при наложении на подложку дополнительных высоковольтных импульсов.
Досліджено два типи наноструктурних TiN покриттів: отриманих за традиційною технологією та з прикладанням на підкладку високовольтних імпульсів. Проведено зіставлення даних для обох типів наноструктурних покриттів за кольоровими характеристиками, рентгеноструктурними дослідженнями, фрактографіями зломів та на предмет присутності частинок крапельної фази, а також за вимірюванням твердості наноиндентуванням. Виявлено формування надтвердих наноструктурних TiN покриттів, які не містять в об’ємі частинок крапельної фази при накладанні на підкладку додаткових високовольтних імпульсів.
Two types nano-structructure TiN coatings obtained both by means of traditional technology and with substrate HV pulse bias have been investigated. It has been carried out the comparison both of nanostructure types data; color features, X-ray characteristics, fracture micrographs, concerning droplets presence, and nano-indentation as well. It has been found the formation of dropless superhard nanostructure TiN coatings while additional HV pulse substrate bias.
Авторы выражают глубокую благодарность к.ф.-м.н. А.П. Крышталю за съемки на растровом электронном микроскопе. Работа выполнена по проекту №94/07-Н “Исследование ионно-плазменной нанотехнологии на основе вакуумно-дугового разряда для получения износостойких, высоко- и сверхвысокотвердых, а также пористых наноструктурных покрытий, изучение их физикомеханических свойств”.
ru
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
Физическая инженерия поверхности
Сопоставление характеристик вакуумно-дуговых наноструктурных TiN покрытий, осаждаемых при подаче на подложку высоковольтных импульсов
Зіставлення характеристик ваку- умно-дугових наноструктурних TiN покриттів, які осаджувались при подачі на підкладинку високовольтних імпульсів
Comparison of characteristics of vacuum-arc nano-structure TiN coatings deposited under hv pulse substrate bias
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Сопоставление характеристик вакуумно-дуговых наноструктурных TiN покрытий, осаждаемых при подаче на подложку высоковольтных импульсов
spellingShingle Сопоставление характеристик вакуумно-дуговых наноструктурных TiN покрытий, осаждаемых при подаче на подложку высоковольтных импульсов
Шулаев, В.М.
Андреев, А.А.
Горбань, В.Ф.
Столбовой, В.А.
title_short Сопоставление характеристик вакуумно-дуговых наноструктурных TiN покрытий, осаждаемых при подаче на подложку высоковольтных импульсов
title_full Сопоставление характеристик вакуумно-дуговых наноструктурных TiN покрытий, осаждаемых при подаче на подложку высоковольтных импульсов
title_fullStr Сопоставление характеристик вакуумно-дуговых наноструктурных TiN покрытий, осаждаемых при подаче на подложку высоковольтных импульсов
title_full_unstemmed Сопоставление характеристик вакуумно-дуговых наноструктурных TiN покрытий, осаждаемых при подаче на подложку высоковольтных импульсов
title_sort сопоставление характеристик вакуумно-дуговых наноструктурных tin покрытий, осаждаемых при подаче на подложку высоковольтных импульсов
author Шулаев, В.М.
Андреев, А.А.
Горбань, В.Ф.
Столбовой, В.А.
author_facet Шулаев, В.М.
Андреев, А.А.
Горбань, В.Ф.
Столбовой, В.А.
publishDate 2007
language Russian
container_title Физическая инженерия поверхности
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
format Article
title_alt Зіставлення характеристик ваку- умно-дугових наноструктурних TiN покриттів, які осаджувались при подачі на підкладинку високовольтних імпульсів
Comparison of characteristics of vacuum-arc nano-structure TiN coatings deposited under hv pulse substrate bias
description Изучено два типа наноструктурных покрытий TiN: полученных по традиционной технологии и с приложением к подложке высоковольтных импульсов. Проведено сопоставление данных для обоих типов наноструктурных покрытий по цветовым характеристикам, рентгеноструктурным исследованиям, фрактографиям изломов и на предмет наличия частиц капельной фазы, а также по измерению твердости наноиндентированием. Обнаружено формирование сверх-твердых наноструктурных TiN покрытий, не содержащих в объеме частиц капельной фазы, при наложении на подложку дополнительных высоковольтных импульсов. Досліджено два типи наноструктурних TiN покриттів: отриманих за традиційною технологією та з прикладанням на підкладку високовольтних імпульсів. Проведено зіставлення даних для обох типів наноструктурних покриттів за кольоровими характеристиками, рентгеноструктурними дослідженнями, фрактографіями зломів та на предмет присутності частинок крапельної фази, а також за вимірюванням твердості наноиндентуванням. Виявлено формування надтвердих наноструктурних TiN покриттів, які не містять в об’ємі частинок крапельної фази при накладанні на підкладку додаткових високовольтних імпульсів. Two types nano-structructure TiN coatings obtained both by means of traditional technology and with substrate HV pulse bias have been investigated. It has been carried out the comparison both of nanostructure types data; color features, X-ray characteristics, fracture micrographs, concerning droplets presence, and nano-indentation as well. It has been found the formation of dropless superhard nanostructure TiN coatings while additional HV pulse substrate bias.
issn 1999-8074
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98818
citation_txt Сопоставление характеристик вакуумно-дуговых наноструктурных TiN покрытий, осаждаемых при подаче на подложку высоковольтных импульсов / В.М. Шулаев, А.А. Андреев, В.Ф. Горбань, В.А. Столбовой // Физическая инженерия поверхности. — 2007. — Т. 5, № 1-2. — С. 94–97. — Бібліогр.: 11 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT šulaevvm sopostavlenieharakteristikvakuumnodugovyhnanostrukturnyhtinpokrytiiosaždaemyhpripodačenapodložkuvysokovolʹtnyhimpulʹsov
AT andreevaa sopostavlenieharakteristikvakuumnodugovyhnanostrukturnyhtinpokrytiiosaždaemyhpripodačenapodložkuvysokovolʹtnyhimpulʹsov
AT gorbanʹvf sopostavlenieharakteristikvakuumnodugovyhnanostrukturnyhtinpokrytiiosaždaemyhpripodačenapodložkuvysokovolʹtnyhimpulʹsov
AT stolbovoiva sopostavlenieharakteristikvakuumnodugovyhnanostrukturnyhtinpokrytiiosaždaemyhpripodačenapodložkuvysokovolʹtnyhimpulʹsov
AT šulaevvm zístavlennâharakteristikvakuumnodugovihnanostrukturnihtinpokrittívâkíosadžuvalisʹpripodačínapídkladinkuvisokovolʹtnihímpulʹsív
AT andreevaa zístavlennâharakteristikvakuumnodugovihnanostrukturnihtinpokrittívâkíosadžuvalisʹpripodačínapídkladinkuvisokovolʹtnihímpulʹsív
AT gorbanʹvf zístavlennâharakteristikvakuumnodugovihnanostrukturnihtinpokrittívâkíosadžuvalisʹpripodačínapídkladinkuvisokovolʹtnihímpulʹsív
AT stolbovoiva zístavlennâharakteristikvakuumnodugovihnanostrukturnihtinpokrittívâkíosadžuvalisʹpripodačínapídkladinkuvisokovolʹtnihímpulʹsív
AT šulaevvm comparisonofcharacteristicsofvacuumarcnanostructuretincoatingsdepositedunderhvpulsesubstratebias
AT andreevaa comparisonofcharacteristicsofvacuumarcnanostructuretincoatingsdepositedunderhvpulsesubstratebias
AT gorbanʹvf comparisonofcharacteristicsofvacuumarcnanostructuretincoatingsdepositedunderhvpulsesubstratebias
AT stolbovoiva comparisonofcharacteristicsofvacuumarcnanostructuretincoatingsdepositedunderhvpulsesubstratebias
first_indexed 2025-12-07T19:09:43Z
last_indexed 2025-12-07T19:09:43Z
_version_ 1850877761100447744

Ähnliche Einträge