Сопоставление характеристик вакуумно-дуговых наноструктурных TiN покрытий, осаждаемых при подаче на подложку высоковольтных импульсов - Шулаев, В.М.; Андреев, А.А.; Горбань, В.Ф.; Столбовой, В.А. (Физическая инженерия поверхности, 2007)
Изучено два типа наноструктурных покрытий TiN: полученных по традиционной технологии
и с приложением к подложке высоковольтных импульсов. Проведено сопоставление данных
для обоих типов наноструктурных покрытий по цветовым характеристикам, рентгеноструктурным исследованиям, фрактографиям изломов и на предмет наличия частиц капельной фазы,
а также по измерению твердости наноиндентированием. Обнаружено формирование сверх-твердых наноструктурных TiN покрытий, не содержащих в объеме частиц капельной фазы,
при наложении на подложку дополнительных высоковольтных импульсов. Досліджено два типи наноструктурних TiN покриттів: отриманих за традиційною технологією
та з прикладанням на підкладку високовольтних
імпульсів. Проведено зіставлення даних для обох
типів наноструктурних покриттів за кольоровими
характеристиками, рентгеноструктурними дослідженнями, фрактографіями зломів та на предмет присутності частинок крапельної фази, а також за вимірюванням твердості наноиндентуванням. Виявлено формування надтвердих наноструктурних TiN покриттів, які не містять в об’ємі частинок крапельної фази при накладанні на
підкладку додаткових високовольтних імпульсів. Two types nano-structructure TiN coatings obtained
both by means of traditional technology and with
substrate HV pulse bias have been investigated. It
has been carried out the comparison both of nanostructure
types data; color features, X-ray characteristics,
fracture micrographs, concerning droplets
presence, and nano-indentation as well. It has been
found the formation of dropless superhard nanostructure
TiN coatings while additional HV pulse
substrate bias.