О перспективности использования пористого фосфида индия в качестве подложек для пленок нитрида индия - Сычикова, Я.А. (Физическая инженерия поверхности, 2010)
В данной работе рассмотрена возможность получения тонких пленок InN на пористых
подложках InP методом радикало-лучевой геттерирующей эпитаксии. Пористый фосфид индия
получали методом электрохимического травления. На поверхности пористого InP методами
оже-спектроскопии было доказано образование пленок InN. По результатам оже-спектроскопии, толщина пленки InN составила от 100 нм до 0,5 мкм в зависимости от
технологических условий. У даній роботі розглянуто можливість отримання плівок InN на поруватих підкладках InP
методом радикало-променевої гетеруючої епітаксії. Поруватий фосфід індію отримували
методом електрохімічного травлення. На поверхні поруватого InP методом оже-спектроскопії
було доведено утворення плівок InN. За результатами оже-спектроскопії, товщина плівок InN
склала від 100 нм до 0,5 мкм в залежності від технологічних умов травлення. In this paper we consider the possibility of obtaining thin films of InN on porous InP substrates by
radical-beam gettering epitaxy. Porous InP obtained by electrochemical etching. On the surface of
porous InP by Auger-spectroscopy has been proven education films InN. According to the results of
Auger spectroscopy, InN film thickness ranged from 100 nm to 0.5 microns, depending on
technological conditions.