Регулировка состава Ti-Al-N покрытий, осаждаемых с применением двухканального вакуумно дугового источника фильтрованной плазмы

• Date: 2010
• Main Authors: Аксёнов, Д.С., Аксёнов, И.И., Лучанинов, А.А., Решетняк, Е.Н., Стрельницкий, В.Е.
• Format: Article
• Language: Russian
• Published: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2010
• Series: Физическая инженерия поверхности
• Online Access: https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98909
• Journal Title: Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
• Cite this: Регулировка состава Ti-Al-N покрытий, осаждаемых с применением двухканального вакуумно дугового источника фильтрованной плазмы / Д.С. Аксёнов, И.И. Аксёнов, А.А. Лучанинов, Е.Н. Решетняк, В.Е. Стрельницкий // Физическая инженерия поверхности. — 2010. — Т. 8, № 4. — С. 307–313. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.

Исследована возможность регулировки состава Ti-Al-N покрытий получаемых вакуумно-дуговым методом путём смешения потоков плазмы от генераторов с титановым и алюминиевым катодом. Фильтрация потоков осуществлялась с помощью общего для обоих генераторов Т-образного двухканального фильтра Установлено, что изменения содержания алюминия и титана в покрытии можно достичь путём регулировки соотношения разрядных токов в генераторах плазмы. Увеличение диапазона регулировки состава покрытия достигается путём подбора интенсивности магнитных полей в анодных секциях генераторов плазмы. Полученные покрытия однородны по составу на подложке диаметром 180 мм. Определены условия, позволяющие регулировать концентрацию алюминия в пределах от ∼14 вес.% до ∼60 вес.%.