Регулировка состава Ti-Al-N покрытий, осаждаемых с применением двухканального вакуумно дугового источника фильтрованной плазмы

Исследована возможность регулировки состава Ti-Al-N покрытий получаемых вакуумно-дуговым методом путём смешения потоков плазмы от генераторов с титановым и алюминиевым катодом. Фильтрация потоков осуществлялась с помощью общего для обоих генераторов Т-образного двухканального фильтра Установлено,...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Физическая инженерия поверхности
Datum:2010
Hauptverfasser: Аксёнов, Д.С., Аксёнов, И.И., Лучанинов, А.А., Решетняк, Е.Н., Стрельницкий, В.Е.
Format: Artikel
Sprache:Russian
Veröffentlicht: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2010
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98909
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Регулировка состава Ti-Al-N покрытий, осаждаемых с применением двухканального вакуумно дугового источника фильтрованной плазмы / Д.С. Аксёнов, И.И. Аксёнов, А.А. Лучанинов, Е.Н. Решетняк, В.Е. Стрельницкий // Физическая инженерия поверхности. — 2010. — Т. 8, № 4. — С. 307–313. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-98909
record_format dspace
spelling Аксёнов, Д.С.
Аксёнов, И.И.
Лучанинов, А.А.
Решетняк, Е.Н.
Стрельницкий, В.Е.
2016-04-19T13:57:06Z
2016-04-19T13:57:06Z
2010
Регулировка состава Ti-Al-N покрытий, осаждаемых с применением двухканального вакуумно дугового источника фильтрованной плазмы / Д.С. Аксёнов, И.И. Аксёнов, А.А. Лучанинов, Е.Н. Решетняк, В.Е. Стрельницкий // Физическая инженерия поверхности. — 2010. — Т. 8, № 4. — С. 307–313. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.
1999-8074
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98909
621.793
Исследована возможность регулировки состава Ti-Al-N покрытий получаемых вакуумно-дуговым методом путём смешения потоков плазмы от генераторов с титановым и алюминиевым катодом. Фильтрация потоков осуществлялась с помощью общего для обоих генераторов Т-образного двухканального фильтра Установлено, что изменения содержания алюминия и титана в покрытии можно достичь путём регулировки соотношения разрядных токов в генераторах плазмы. Увеличение диапазона регулировки состава покрытия достигается путём подбора интенсивности магнитных полей в анодных секциях генераторов плазмы. Полученные покрытия однородны по составу на подложке диаметром 180 мм. Определены условия, позволяющие регулировать концентрацию алюминия в пределах от ∼14 вес.% до ∼60 вес.%.
Досліджено можливість регулювання составу Ti-Al-N покриттів, які отримано вакуумно-дуговим методом шляхом змішування потоків плазми від генераторів із титановим та алюмінієвим катодом. Фільтрація потоків здійснювалась за допомогою спільного для обох генераторів T подібного двоканального фільтру. Встановлено, що зміни вмісту алюмінію та титану в покритті можливо досягти шляхом регулювання співвідношення розрядних струмів генераторів плазми. Збільшення діапазону регулювання составу покриття досягається шляхом підбору інтенсивності магнітних полів в анодних секціях генераторів плазми. Отримані покриття однорідніза складом на підкладці діаметром 180 мм. Визначено умови, які дозволяють регулювати концентрацію алюмінію у межах від ∼14 ваг.% до ∼60 ваг.%.
Ability of Ti Al N films composition adjustment, deposited using vacuum arc technique by mixing of plasma streams from plasma sources equipped with titanium and aluminum cathodes was investigated. Plasma filtering was performed by common to both plasma sources T-shaped two-channel filter. It has been found that film composition can be varied by changing arc currents in plasma sources. Adjustment range can be expanded by changing magnetic field intensity in anode sections of plasma sources. Obtained films have uniform composition on 180 mm diameter surface. Conditions for composition adjustment range from ∼14 wt.% to ∼60 wt.% were found.
ru
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
Физическая инженерия поверхности
Регулировка состава Ti-Al-N покрытий, осаждаемых с применением двухканального вакуумно дугового источника фильтрованной плазмы
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Регулировка состава Ti-Al-N покрытий, осаждаемых с применением двухканального вакуумно дугового источника фильтрованной плазмы
spellingShingle Регулировка состава Ti-Al-N покрытий, осаждаемых с применением двухканального вакуумно дугового источника фильтрованной плазмы
Аксёнов, Д.С.
Аксёнов, И.И.
Лучанинов, А.А.
Решетняк, Е.Н.
Стрельницкий, В.Е.
title_short Регулировка состава Ti-Al-N покрытий, осаждаемых с применением двухканального вакуумно дугового источника фильтрованной плазмы
title_full Регулировка состава Ti-Al-N покрытий, осаждаемых с применением двухканального вакуумно дугового источника фильтрованной плазмы
title_fullStr Регулировка состава Ti-Al-N покрытий, осаждаемых с применением двухканального вакуумно дугового источника фильтрованной плазмы
title_full_unstemmed Регулировка состава Ti-Al-N покрытий, осаждаемых с применением двухканального вакуумно дугового источника фильтрованной плазмы
title_sort регулировка состава ti-al-n покрытий, осаждаемых с применением двухканального вакуумно дугового источника фильтрованной плазмы
author Аксёнов, Д.С.
Аксёнов, И.И.
Лучанинов, А.А.
Решетняк, Е.Н.
Стрельницкий, В.Е.
author_facet Аксёнов, Д.С.
Аксёнов, И.И.
Лучанинов, А.А.
Решетняк, Е.Н.
Стрельницкий, В.Е.
publishDate 2010
language Russian
container_title Физическая инженерия поверхности
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
format Article
description Исследована возможность регулировки состава Ti-Al-N покрытий получаемых вакуумно-дуговым методом путём смешения потоков плазмы от генераторов с титановым и алюминиевым катодом. Фильтрация потоков осуществлялась с помощью общего для обоих генераторов Т-образного двухканального фильтра Установлено, что изменения содержания алюминия и титана в покрытии можно достичь путём регулировки соотношения разрядных токов в генераторах плазмы. Увеличение диапазона регулировки состава покрытия достигается путём подбора интенсивности магнитных полей в анодных секциях генераторов плазмы. Полученные покрытия однородны по составу на подложке диаметром 180 мм. Определены условия, позволяющие регулировать концентрацию алюминия в пределах от ∼14 вес.% до ∼60 вес.%. Досліджено можливість регулювання составу Ti-Al-N покриттів, які отримано вакуумно-дуговим методом шляхом змішування потоків плазми від генераторів із титановим та алюмінієвим катодом. Фільтрація потоків здійснювалась за допомогою спільного для обох генераторів T подібного двоканального фільтру. Встановлено, що зміни вмісту алюмінію та титану в покритті можливо досягти шляхом регулювання співвідношення розрядних струмів генераторів плазми. Збільшення діапазону регулювання составу покриття досягається шляхом підбору інтенсивності магнітних полів в анодних секціях генераторів плазми. Отримані покриття однорідніза складом на підкладці діаметром 180 мм. Визначено умови, які дозволяють регулювати концентрацію алюмінію у межах від ∼14 ваг.% до ∼60 ваг.%. Ability of Ti Al N films composition adjustment, deposited using vacuum arc technique by mixing of plasma streams from plasma sources equipped with titanium and aluminum cathodes was investigated. Plasma filtering was performed by common to both plasma sources T-shaped two-channel filter. It has been found that film composition can be varied by changing arc currents in plasma sources. Adjustment range can be expanded by changing magnetic field intensity in anode sections of plasma sources. Obtained films have uniform composition on 180 mm diameter surface. Conditions for composition adjustment range from ∼14 wt.% to ∼60 wt.% were found.
issn 1999-8074
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98909
citation_txt Регулировка состава Ti-Al-N покрытий, осаждаемых с применением двухканального вакуумно дугового источника фильтрованной плазмы / Д.С. Аксёнов, И.И. Аксёнов, А.А. Лучанинов, Е.Н. Решетняк, В.Е. Стрельницкий // Физическая инженерия поверхности. — 2010. — Т. 8, № 4. — С. 307–313. — Бібліогр.: 9 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT aksenovds regulirovkasostavatialnpokrytiiosaždaemyhsprimeneniemdvuhkanalʹnogovakuumnodugovogoistočnikafilʹtrovannoiplazmy
AT aksenovii regulirovkasostavatialnpokrytiiosaždaemyhsprimeneniemdvuhkanalʹnogovakuumnodugovogoistočnikafilʹtrovannoiplazmy
AT lučaninovaa regulirovkasostavatialnpokrytiiosaždaemyhsprimeneniemdvuhkanalʹnogovakuumnodugovogoistočnikafilʹtrovannoiplazmy
AT rešetnâken regulirovkasostavatialnpokrytiiosaždaemyhsprimeneniemdvuhkanalʹnogovakuumnodugovogoistočnikafilʹtrovannoiplazmy
AT strelʹnickiive regulirovkasostavatialnpokrytiiosaždaemyhsprimeneniemdvuhkanalʹnogovakuumnodugovogoistočnikafilʹtrovannoiplazmy
first_indexed 2025-12-02T06:39:59Z
last_indexed 2025-12-02T06:39:59Z
_version_ 1850861761784184832