Пограничное газовыделение в тонкопленочной системе под действием протонного облучения и возможности его применения
Исследовано влияние облучения протонами на газовыделение в тонкоплёночной системе. Установлено, что протонное облучение инициирует образование на границе раздела плёнка-подложка мелких сферических образований, размеры которых возрастают с ростом дозы. Это
 объясняется выходом на границу разд...
Збережено в:
| Опубліковано в: : | Физическая инженерия поверхности |
|---|---|
| Дата: | 2010 |
| Автори: | , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Російська |
| Опубліковано: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2010
|
| Онлайн доступ: | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98916 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Пограничное газовыделение в тонкопленочной системе под действием протонного облучения и возможности его применения / Ю.Н. Борисенко, В.М. Береснев, С.В. Литовченко, А.Б. Шевцов // Физическая инженерия поверхности. — 2010. — Т. 8, № 4. — С. 353–357. — Бібліогр.: 8 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| _version_ | 1862737332973600768 |
|---|---|
| author | Борисенко, Ю.Н. Береснев, В.М. Литовченко, С.В. Шевцов, А.Б. |
| author_facet | Борисенко, Ю.Н. Береснев, В.М. Литовченко, С.В. Шевцов, А.Б. |
| citation_txt | Пограничное газовыделение в тонкопленочной системе под действием протонного облучения и возможности его применения / Ю.Н. Борисенко, В.М. Береснев, С.В. Литовченко, А.Б. Шевцов // Физическая инженерия поверхности. — 2010. — Т. 8, № 4. — С. 353–357. — Бібліогр.: 8 назв. — рос. |
| collection | DSpace DC |
| container_title | Физическая инженерия поверхности |
| description | Исследовано влияние облучения протонами на газовыделение в тонкоплёночной системе. Установлено, что протонное облучение инициирует образование на границе раздела плёнка-подложка мелких сферических образований, размеры которых возрастают с ростом дозы. Это
объясняется выходом на границу раздела внедрённого в подложку водорода. В ходе статистической обработки микроинтерферограмм поверхности плёнки проведен расчёт силовой и
энергетической характеристик адгезии плёнок к подложкам, а также получено уравнение кинетики роста пузыря на границе раздела и проделана оценка газокинетических характеристик.
Досліджено вплив опромінення протонами на газовиділення в тонкоплівковій системі. З’ясовано, що протонне опромінення ініціює утворення на границі розподілу плівка-підкладинка
дрібних сферичних утворень, розміри яких зростають зі зростанням дози. Це пояснюється виходом на границю розподілу водню, прониклого в підкладинку. Статистична обробка мікроінтерферограм поверхні плівки дозволила розрахувати силову та енергетичну характеристики
адгезії плівок до підкладинок, а також отримати рівняння кінетики росту пузиря на границі
розподілу та зробити оцінку газокінетичних характеристик.
The processes of the stimulated gas release and gas blister growth are investigated at an interface of
thin-film systems. The relationship of these processes to the adhesion of a system is established. A
method to determine the adhesion and to compute the adhesion characteristics in the film-substrate
system is described. Using the results of this study carried out a series of practical approaches is proposed
to measure the adhesion of thin films to substrates with the method of stimulated gas release.
|
| first_indexed | 2025-12-07T19:58:56Z |
| format | Article |
| fulltext | |
| id | nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-98916 |
| institution | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| issn | 1999-8074 |
| language | Russian |
| last_indexed | 2025-12-07T19:58:56Z |
| publishDate | 2010 |
| publisher | Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України |
| record_format | dspace |
| spelling | Борисенко, Ю.Н. Береснев, В.М. Литовченко, С.В. Шевцов, А.Б. 2016-04-19T14:09:42Z 2016-04-19T14:09:42Z 2010 Пограничное газовыделение в тонкопленочной системе под действием протонного облучения и возможности его применения / Ю.Н. Борисенко, В.М. Береснев, С.В. Литовченко, А.Б. Шевцов // Физическая инженерия поверхности. — 2010. — Т. 8, № 4. — С. 353–357. — Бібліогр.: 8 назв. — рос. 1999-8074 https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98916 539.612 Исследовано влияние облучения протонами на газовыделение в тонкоплёночной системе. Установлено, что протонное облучение инициирует образование на границе раздела плёнка-подложка мелких сферических образований, размеры которых возрастают с ростом дозы. Это
 объясняется выходом на границу раздела внедрённого в подложку водорода. В ходе статистической обработки микроинтерферограмм поверхности плёнки проведен расчёт силовой и
 энергетической характеристик адгезии плёнок к подложкам, а также получено уравнение кинетики роста пузыря на границе раздела и проделана оценка газокинетических характеристик. Досліджено вплив опромінення протонами на газовиділення в тонкоплівковій системі. З’ясовано, що протонне опромінення ініціює утворення на границі розподілу плівка-підкладинка
 дрібних сферичних утворень, розміри яких зростають зі зростанням дози. Це пояснюється виходом на границю розподілу водню, прониклого в підкладинку. Статистична обробка мікроінтерферограм поверхні плівки дозволила розрахувати силову та енергетичну характеристики
 адгезії плівок до підкладинок, а також отримати рівняння кінетики росту пузиря на границі
 розподілу та зробити оцінку газокінетичних характеристик. The processes of the stimulated gas release and gas blister growth are investigated at an interface of
 thin-film systems. The relationship of these processes to the adhesion of a system is established. A
 method to determine the adhesion and to compute the adhesion characteristics in the film-substrate
 system is described. Using the results of this study carried out a series of practical approaches is proposed
 to measure the adhesion of thin films to substrates with the method of stimulated gas release. ru Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України Физическая инженерия поверхности Пограничное газовыделение в тонкопленочной системе под действием протонного облучения и возможности его применения Article published earlier |
| spellingShingle | Пограничное газовыделение в тонкопленочной системе под действием протонного облучения и возможности его применения Борисенко, Ю.Н. Береснев, В.М. Литовченко, С.В. Шевцов, А.Б. |
| title | Пограничное газовыделение в тонкопленочной системе под действием протонного облучения и возможности его применения |
| title_full | Пограничное газовыделение в тонкопленочной системе под действием протонного облучения и возможности его применения |
| title_fullStr | Пограничное газовыделение в тонкопленочной системе под действием протонного облучения и возможности его применения |
| title_full_unstemmed | Пограничное газовыделение в тонкопленочной системе под действием протонного облучения и возможности его применения |
| title_short | Пограничное газовыделение в тонкопленочной системе под действием протонного облучения и возможности его применения |
| title_sort | пограничное газовыделение в тонкопленочной системе под действием протонного облучения и возможности его применения |
| url | https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98916 |
| work_keys_str_mv | AT borisenkoûn pograničnoegazovydelenievtonkoplenočnoisistemepoddeistviemprotonnogooblučeniâivozmožnostiegoprimeneniâ AT beresnevvm pograničnoegazovydelenievtonkoplenočnoisistemepoddeistviemprotonnogooblučeniâivozmožnostiegoprimeneniâ AT litovčenkosv pograničnoegazovydelenievtonkoplenočnoisistemepoddeistviemprotonnogooblučeniâivozmožnostiegoprimeneniâ AT ševcovab pograničnoegazovydelenievtonkoplenočnoisistemepoddeistviemprotonnogooblučeniâivozmožnostiegoprimeneniâ |