Покрытия системы Ti-Al-N, нанесенные PVD методами

На основе анализа литературных данных составлена сводка физических явлений, проявляющихся в функциональных PVD покрытиях системы Ti-Al-N как в процессе осаждения, так и в течение последующей обработки и эксплуатации. Несмотря на ограниченный объем данных о физических параметрах взаимодействующих м...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:Физическая инженерия поверхности
Datum:2012
Hauptverfasser: Лучанинов, А.А., Стрельницкий, В.Е.
Format: Artikel
Sprache:Russian
Veröffentlicht: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2012
Online Zugang:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98923
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Покрытия системы Ti-Al-N, нанесенные PVD методами / А.А. Лучанинов, В.Е. Стрельницкий // Физическая инженерия поверхности. — 2012. — Т. 10, № 1. — С. 4–21. — Бібліогр.: 56 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-98923
record_format dspace
spelling Лучанинов, А.А.
Стрельницкий, В.Е.
2016-04-19T14:22:45Z
2016-04-19T14:22:45Z
2012
Покрытия системы Ti-Al-N, нанесенные PVD методами / А.А. Лучанинов, В.Е. Стрельницкий // Физическая инженерия поверхности. — 2012. — Т. 10, № 1. — С. 4–21. — Бібліогр.: 56 назв. — рос.
1999-8074
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98923
539.21:621.793
На основе анализа литературных данных составлена сводка физических явлений, проявляющихся в функциональных PVD покрытиях системы Ti-Al-N как в процессе осаждения, так и в течение последующей обработки и эксплуатации. Несмотря на ограниченный объем данных о физических параметрах взаимодействующих между собой потока осаждаемых частиц и поверхности твердого тела, приведенные сведения дают вполне определенные ориентиры для дизайна покрытий рассмотренного типа PVD методами, в том числе наиболее общие технологические характеристики процессов. Перспективы данного направления связаны с совершенствованием и более глубокими исследованиями методов осаждения из фильтрованной плазмы, модуляции энергии осаждаемых частиц путем подачи импульсного потенциала смещения на подложку, введения малых количеств легирующих элементов.
На основі аналізу літературних даних розглянуто фізичні явища, що виявляються у функціональних PVD покриттях системи Ti-Al-N як в процесі осадження, так і протягом наступної обробки та експлуатації. Незважаючи на обмежений об’єм даних про физичні параметри взаємодіючих між собою потоку заряджених частинок і поверхні твердого тіла, наведені відомості дають цілком певні орієнтири для дизайну покриттів розглянутого типу PVD методами, в тому числі найбільш загальні технологічні характеристики процесів. Перспективи даного напряму пов’язані з удосконаленням і більш глибокими дослідженнями методів осадження з фільтрованої плазми, модуляції енергії заряджених частинок шляхом подачі імпульсного потенціалу зміщення на підкладинку, введення малих доз легуючих елементів.
The main physical effects related to PVD Ti-Al-N coatings deposition and their further treatment and exploitation are reviewed on the basis of the literature data. In spite of limited information on the physical mechanisms of the effects reviewed, the presented materials give certain landmarks for design Ti-Al-N coatings by PVD methods including the main technological characteristics of the processes. Progress in these coatings is connected with in-depth study of the deposition from the filtered vacuum-arc plasma, modulation of the energy of the ions during deposition process through pulse substrate potential, doping with small amount of the alloying elements.
ru
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
Физическая инженерия поверхности
Покрытия системы Ti-Al-N, нанесенные PVD методами
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Покрытия системы Ti-Al-N, нанесенные PVD методами
spellingShingle Покрытия системы Ti-Al-N, нанесенные PVD методами
Лучанинов, А.А.
Стрельницкий, В.Е.
title_short Покрытия системы Ti-Al-N, нанесенные PVD методами
title_full Покрытия системы Ti-Al-N, нанесенные PVD методами
title_fullStr Покрытия системы Ti-Al-N, нанесенные PVD методами
title_full_unstemmed Покрытия системы Ti-Al-N, нанесенные PVD методами
title_sort покрытия системы ti-al-n, нанесенные pvd методами
author Лучанинов, А.А.
Стрельницкий, В.Е.
author_facet Лучанинов, А.А.
Стрельницкий, В.Е.
publishDate 2012
language Russian
container_title Физическая инженерия поверхности
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
format Article
description На основе анализа литературных данных составлена сводка физических явлений, проявляющихся в функциональных PVD покрытиях системы Ti-Al-N как в процессе осаждения, так и в течение последующей обработки и эксплуатации. Несмотря на ограниченный объем данных о физических параметрах взаимодействующих между собой потока осаждаемых частиц и поверхности твердого тела, приведенные сведения дают вполне определенные ориентиры для дизайна покрытий рассмотренного типа PVD методами, в том числе наиболее общие технологические характеристики процессов. Перспективы данного направления связаны с совершенствованием и более глубокими исследованиями методов осаждения из фильтрованной плазмы, модуляции энергии осаждаемых частиц путем подачи импульсного потенциала смещения на подложку, введения малых количеств легирующих элементов. На основі аналізу літературних даних розглянуто фізичні явища, що виявляються у функціональних PVD покриттях системи Ti-Al-N як в процесі осадження, так і протягом наступної обробки та експлуатації. Незважаючи на обмежений об’єм даних про физичні параметри взаємодіючих між собою потоку заряджених частинок і поверхні твердого тіла, наведені відомості дають цілком певні орієнтири для дизайну покриттів розглянутого типу PVD методами, в тому числі найбільш загальні технологічні характеристики процесів. Перспективи даного напряму пов’язані з удосконаленням і більш глибокими дослідженнями методів осадження з фільтрованої плазми, модуляції енергії заряджених частинок шляхом подачі імпульсного потенціалу зміщення на підкладинку, введення малих доз легуючих елементів. The main physical effects related to PVD Ti-Al-N coatings deposition and their further treatment and exploitation are reviewed on the basis of the literature data. In spite of limited information on the physical mechanisms of the effects reviewed, the presented materials give certain landmarks for design Ti-Al-N coatings by PVD methods including the main technological characteristics of the processes. Progress in these coatings is connected with in-depth study of the deposition from the filtered vacuum-arc plasma, modulation of the energy of the ions during deposition process through pulse substrate potential, doping with small amount of the alloying elements.
issn 1999-8074
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98923
citation_txt Покрытия системы Ti-Al-N, нанесенные PVD методами / А.А. Лучанинов, В.Е. Стрельницкий // Физическая инженерия поверхности. — 2012. — Т. 10, № 1. — С. 4–21. — Бібліогр.: 56 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT lučaninovaa pokrytiâsistemytialnnanesennyepvdmetodami
AT strelʹnickiive pokrytiâsistemytialnnanesennyepvdmetodami
first_indexed 2025-12-07T15:53:44Z
last_indexed 2025-12-07T15:53:44Z
_version_ 1850865431214030848