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Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering

The investigations of the reactive magnetron depositing of the stoichiometric coatings “metal-metalloid” were done. The dependences between sputtering parameters of a target and processes of plasmochemical formation on the surface of sample “metal-metalloid” and formations of coatings of the app...

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Bibliographische Detailangaben
Veröffentlicht in:	Физическая инженерия поверхности
Datum:	2012
Hauptverfasser:	Sagalovych, A., Dudnik, S., Sagalovych, V.
Format:	Artikel
Sprache:	Englisch
Veröffentlicht:	Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2012
Online Zugang:	https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/98970
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Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:	Deposition of the stoichiometric coatings by reactive magnetron sputtering / A. Sagalovych, S. Dudnik, V. Sagalovych // Физическая инженерия поверхности. — 2012. — Т. 10, № 3. — С. 263–272. — Бібліогр.: 23 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

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