Функціоналізація і наноструктурування поверхневих шарів поруватого кремнію

Показана можливість створення багатошарових покрить шляхом модифікування методики
 електролітичного травлення поверхні монокристалічного кремнію. При травленні використовували добавки HСl і HBr. Методами електронної мікроскопії, рентгенофазового аналізу
 встановлено, що варіювання ск...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Физическая инженерия поверхности
Date:2013
Main Author: Зубко, Є.І.
Format: Article
Language:Ukrainian
Published: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2013
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/99822
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Функціоналізація і наноструктурування поверхневих шарів поруватого кремнію / Є.І. Зубко // Физическая инженерия поверхности. — 2013. — Т. 11, № 2. — С. 154–159. — Бібліогр.: 17 назв. — укр.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
_version_ 1862673424685465600
author Зубко, Є.І.
author_facet Зубко, Є.І.
citation_txt Функціоналізація і наноструктурування поверхневих шарів поруватого кремнію / Є.І. Зубко // Физическая инженерия поверхности. — 2013. — Т. 11, № 2. — С. 154–159. — Бібліогр.: 17 назв. — укр.
collection DSpace DC
container_title Физическая инженерия поверхности
description Показана можливість створення багатошарових покрить шляхом модифікування методики
 електролітичного травлення поверхні монокристалічного кремнію. При травленні використовували добавки HСl і HBr. Методами електронної мікроскопії, рентгенофазового аналізу
 встановлено, що варіювання складом електроліту і густиною струму приводить до наноструктурування поверхні кремнію в виді шарів різної товщини (200 – 400 нм), морфології і поруватого кремнію. Показана возможность создания многослойных покрытий путем модифицирования методики
 электролитического травления поверхности монокристаллического кремния. При травлении
 использовали добавки HCl и HBr. Методами электронной микроскопии, рентгенофазового
 анализа установлено, что варьирование составом электролита и плотностью тока приводит к
 наноструктурированию поверхности кремния в виде слоев разной толщины (200 – 400 нм),
 морфологии и пористости. The possibility of creating multilayer coatings by modifying the method of electrolytic etching of single
 crystal silicon. Additives used in etching and HCl HBr. By electron microscopy, X-ray diffraction
 analysis showed that the variation in the composition of the electrolyte and the current density results
 in a nanostructured surface of silicon in the form of layers of different thickness (200 – 400 nm),
 morphology and porosity.
first_indexed 2025-12-07T15:37:43Z
format Article
fulltext
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-99822
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
issn 1999-8074
language Ukrainian
last_indexed 2025-12-07T15:37:43Z
publishDate 2013
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
record_format dspace
spelling Зубко, Є.І.
2016-05-04T15:17:49Z
2016-05-04T15:17:49Z
2013
Функціоналізація і наноструктурування поверхневих шарів поруватого кремнію / Є.І. Зубко // Физическая инженерия поверхности. — 2013. — Т. 11, № 2. — С. 154–159. — Бібліогр.: 17 назв. — укр.
1999-8074
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/99822
669.782
Показана можливість створення багатошарових покрить шляхом модифікування методики
 електролітичного травлення поверхні монокристалічного кремнію. При травленні використовували добавки HСl і HBr. Методами електронної мікроскопії, рентгенофазового аналізу
 встановлено, що варіювання складом електроліту і густиною струму приводить до наноструктурування поверхні кремнію в виді шарів різної товщини (200 – 400 нм), морфології і поруватого кремнію.
Показана возможность создания многослойных покрытий путем модифицирования методики
 электролитического травления поверхности монокристаллического кремния. При травлении
 использовали добавки HCl и HBr. Методами электронной микроскопии, рентгенофазового
 анализа установлено, что варьирование составом электролита и плотностью тока приводит к
 наноструктурированию поверхности кремния в виде слоев разной толщины (200 – 400 нм),
 морфологии и пористости.
The possibility of creating multilayer coatings by modifying the method of electrolytic etching of single
 crystal silicon. Additives used in etching and HCl HBr. By electron microscopy, X-ray diffraction
 analysis showed that the variation in the composition of the electrolyte and the current density results
 in a nanostructured surface of silicon in the form of layers of different thickness (200 – 400 nm),
 morphology and porosity.
uk
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
Физическая инженерия поверхности
Функціоналізація і наноструктурування поверхневих шарів поруватого кремнію
Функционализация и наноструктурирование поверхностных слоев пористого кремния
Functionalization and nanostructurization porous silicon surface layers
Article
published earlier
spellingShingle Функціоналізація і наноструктурування поверхневих шарів поруватого кремнію
Зубко, Є.І.
title Функціоналізація і наноструктурування поверхневих шарів поруватого кремнію
title_alt Функционализация и наноструктурирование поверхностных слоев пористого кремния
Functionalization and nanostructurization porous silicon surface layers
title_full Функціоналізація і наноструктурування поверхневих шарів поруватого кремнію
title_fullStr Функціоналізація і наноструктурування поверхневих шарів поруватого кремнію
title_full_unstemmed Функціоналізація і наноструктурування поверхневих шарів поруватого кремнію
title_short Функціоналізація і наноструктурування поверхневих шарів поруватого кремнію
title_sort функціоналізація і наноструктурування поверхневих шарів поруватого кремнію
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/99822
work_keys_str_mv AT zubkoêí funkcíonalízacíâínanostrukturuvannâpoverhnevihšarívporuvatogokremníû
AT zubkoêí funkcionalizaciâinanostrukturirovaniepoverhnostnyhsloevporistogokremniâ
AT zubkoêí functionalizationandnanostructurizationporoussiliconsurfacelayers