Исследование электрических и фотоэлектрических свойств In-CdSxTe1-x-Si-In структуры

Изготовлено гетеропереходы n/Si-n/CdSx Te1-x методом вакуумного напыления пленки твердого раствора CdSx Te1-x на поверхность монокристаллического n/Si. Исследованы основные электрические и фотоэлектрические свойства гетеропереходов. Определены значения постоянной кристаллической решетки твердо...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in:Физическая инженерия поверхности
Date:2013
Main Author: Сапаев, И.Б.
Format: Article
Language:Russian
Published: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2013
Online Access:https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/99830
Tags: Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
Journal Title:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Cite this:Исследование электрических и фотоэлектрических свойств In-CdSxTe1-x-Si-In структуры / И.Б. Сапаев // Физическая инженерия поверхности. — 2013. — Т. 11, № 2. — С. 223–227. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id nasplib_isofts_kiev_ua-123456789-99830
record_format dspace
spelling Сапаев, И.Б.
2016-05-04T16:01:34Z
2016-05-04T16:01:34Z
2013
Исследование электрических и фотоэлектрических свойств In-CdSxTe1-x-Si-In структуры / И.Б. Сапаев // Физическая инженерия поверхности. — 2013. — Т. 11, № 2. — С. 223–227. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.
1999-8074
https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/99830
53.043;53.023;539.234.
Изготовлено гетеропереходы n/Si-n/CdSx Te1-x методом вакуумного напыления пленки твердого раствора CdSx Te1-x на поверхность монокристаллического n/Si. Исследованы основные электрические и фотоэлектрические свойства гетеропереходов. Определены значения постоянной кристаллической решетки твердого раствора CdSx Te1-x на границе гетероструктуры n/Si-n/CdSx Te1-x.
Виготовлено гетеропереходи n/Sі-n/CdSx Te1-x методом вакуумного напилювання плівки твердого розчину CdSx Te1-x на поверхню монокристалічного n/Sі. Досліджено основні електричні та фотоелектричні властивості гетеропереходів. Визначено значення постійних кристалічних ґраток твердого розчину CdSx Te1-x на границі гетероструктури n/Si-n/CdSx Te1-x.
It is made heterojunction n/Si-n/CdSx Te1-x by a method of a vacuum dusting of a film of firm solution CdSx Te1-x on a surface monocrystalline n/Si. The basic electric and photo-electric properties of heterojunction are investigated. Values of a constant crystal lattice of firm solution CdSx Te1-x on heterostructure border n/Si-n/ CdSx Te1-x are defined.
ru
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
Физическая инженерия поверхности
Исследование электрических и фотоэлектрических свойств In-CdSxTe1-x-Si-In структуры
Дослідження електричних і фотоелектричних властивостей In-CdSxTe1-x-Si-In-структури
Research of electric and photo-electric properties In-CdSx Te1-x-Si-In structures
Article
published earlier
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
title Исследование электрических и фотоэлектрических свойств In-CdSxTe1-x-Si-In структуры
spellingShingle Исследование электрических и фотоэлектрических свойств In-CdSxTe1-x-Si-In структуры
Сапаев, И.Б.
title_short Исследование электрических и фотоэлектрических свойств In-CdSxTe1-x-Si-In структуры
title_full Исследование электрических и фотоэлектрических свойств In-CdSxTe1-x-Si-In структуры
title_fullStr Исследование электрических и фотоэлектрических свойств In-CdSxTe1-x-Si-In структуры
title_full_unstemmed Исследование электрических и фотоэлектрических свойств In-CdSxTe1-x-Si-In структуры
title_sort исследование электрических и фотоэлектрических свойств in-cdsxte1-x-si-in структуры
author Сапаев, И.Б.
author_facet Сапаев, И.Б.
publishDate 2013
language Russian
container_title Физическая инженерия поверхности
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
format Article
title_alt Дослідження електричних і фотоелектричних властивостей In-CdSxTe1-x-Si-In-структури
Research of electric and photo-electric properties In-CdSx Te1-x-Si-In structures
description Изготовлено гетеропереходы n/Si-n/CdSx Te1-x методом вакуумного напыления пленки твердого раствора CdSx Te1-x на поверхность монокристаллического n/Si. Исследованы основные электрические и фотоэлектрические свойства гетеропереходов. Определены значения постоянной кристаллической решетки твердого раствора CdSx Te1-x на границе гетероструктуры n/Si-n/CdSx Te1-x. Виготовлено гетеропереходи n/Sі-n/CdSx Te1-x методом вакуумного напилювання плівки твердого розчину CdSx Te1-x на поверхню монокристалічного n/Sі. Досліджено основні електричні та фотоелектричні властивості гетеропереходів. Визначено значення постійних кристалічних ґраток твердого розчину CdSx Te1-x на границі гетероструктури n/Si-n/CdSx Te1-x. It is made heterojunction n/Si-n/CdSx Te1-x by a method of a vacuum dusting of a film of firm solution CdSx Te1-x on a surface monocrystalline n/Si. The basic electric and photo-electric properties of heterojunction are investigated. Values of a constant crystal lattice of firm solution CdSx Te1-x on heterostructure border n/Si-n/ CdSx Te1-x are defined.
issn 1999-8074
url https://nasplib.isofts.kiev.ua/handle/123456789/99830
citation_txt Исследование электрических и фотоэлектрических свойств In-CdSxTe1-x-Si-In структуры / И.Б. Сапаев // Физическая инженерия поверхности. — 2013. — Т. 11, № 2. — С. 223–227. — Бібліогр.: 4 назв. — рос.
work_keys_str_mv AT sapaevib issledovanieélektričeskihifotoélektričeskihsvoistvincdsxte1xsiinstruktury
AT sapaevib doslídžennâelektričnihífotoelektričnihvlastivosteiincdsxte1xsiinstrukturi
AT sapaevib researchofelectricandphotoelectricpropertiesincdsxte1xsiinstructures
first_indexed 2025-12-07T13:18:20Z
last_indexed 2025-12-07T13:18:20Z
_version_ 1850855653674844160