Розподіл світла як фактор впливу на перебіг пошарової фотополімеризації олігоефіракрилатних композицій, наповнених кремнеземом

The influence of the high disperse silicas on the layer-going photopolymerisation process of olygoesteracrylates is considered. It was found that filling with silica does not change the layer-going character of photohardening but decreases the rate of the process and extreme thickness of the hardene...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Datum:2003
1. Verfasser: Starokadomsky, D. L.
Format: Artikel
Sprache:Ukrainisch
Veröffentlicht: Chuiko Institute of Surface Chemistry National Academy of Sciences of Ukraine 2003
Online Zugang:https://surfacezbir.com.ua/index.php/surface/article/view/115
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Surface
Завантажити файл: Pdf

Institution

Surface

Ähnliche Einträge