Розподіл світла як фактор впливу на перебіг пошарової фотополімеризації олігоефіракрилатних композицій, наповнених кремнеземом
The influence of the high disperse silicas on the layer-going photopolymerisation process of olygoesteracrylates is considered. It was found that filling with silica does not change the layer-going character of photohardening but decreases the rate of the process and extreme thickness of the hardene...
Збережено в:
| Дата: | 2003 |
|---|---|
| Автор: | |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | Українська |
| Опубліковано: |
Chuiko Institute of Surface Chemistry National Academy of Sciences of Ukraine
2003
|
| Онлайн доступ: | https://surfacezbir.com.ua/index.php/surface/article/view/115 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Surface |
| Завантажити файл: |  |
Репозитарії
SurfaceБудьте першим, хто залишить коментар!