Usage of suspensions based on fumed silica for mechano-chemical polishing of single-crystalline silicon

This article describes a preparation technique of polishing suspensions based on pyrogenic silicon dioxide nanoparticles, determines their basic technical characteristics, and also the guidelines on their usage are given in the mechano-chemical polishing process of semiconductor wafers of single-cry...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2008
Автори: Gaishun, V. E., Kosenok, Y. A., Tyulenkova, O. I., Turov, V. V., Gun'ko, V. M.
Формат: Стаття
Мова:Російська
Опубліковано: Chuiko Institute of Surface Chemistry National Academy of Sciences of Ukraine 2008
Онлайн доступ:https://surfacezbir.com.ua/index.php/surface/article/view/300
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Surface
Завантажити файл: Pdf

Репозитарії

Surface

Схожі ресурси