Оцінка зміни текстури поверхні кремнію під дією магнітного поля та високотемпературної пластичної деформації за допомогою фрактального аналізу

• Дата: 2025
• Автори: Krit, O.M., Shirinyan, A.S., Marynchenko, L.V., Nizhelska, O.I.
• Формат: Стаття
• Мова: Англійська
• Опубліковано: Chuiko Institute of Surface Chemistry National Academy of Sciences of Ukraine 2025
• Теми: монокристалічний кремній; енергетика; технологія мікроелектроніки; текстура поверхні для біочипів; магнітне поле; високотемпературна деформація; ямки травлення; дислокації; фрактальний аналіз; домішки; мікрозображення
• Онлайн доступ: https://www.cpts.com.ua/index.php/cpts/article/view/805
• Назва журналу: Chemistry, Physics and Technology of Surface

Materials based on silicon are widely used in energy, electronic devices, solar cells, optoelectronics, and the electronics industry. A current challenge is the controlled use of these materials in technologies under mechanical loads, radiation, and magnetic fields. The aim of the study is to invest...