ВПЛИВ ДИСПЕРСНОЇ СИСТЕМИ НА ПОКАЗНИКИ ПОЛІРУВАННЯ СКЛА, СИТАЛІВ ТА ОПТИЧНИХ І НАПІВПРОВІДНИКОВИХ КРИСТАЛІВ

ВПЛИВ ДИСПЕРСНОЇ СИСТЕМИ НА ПОКАЗНИКИ ПОЛІРУВАННЯ СКЛА, СИТАЛІВ ТА ОПТИЧНИХ І НАПІВПРОВІДНИКОВИХ КРИСТАЛІВ

The aim of this study is to study the laws of the influence of the properties of a disperse system on the polishing indices of optical glass, sitals, optical and semiconductor crystals. Based on the cluster model of removal of the processed material during polishing, it is shown that the polishing p...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Datum:2020
Hauptverfasser: Філатов, Ю.Д., Сідорко, В.І., Ковальов, С.В., Панова, А.М., Ковальов, В.А., Балицька, Н.О., Гаращенко, В.В.
Format: Artikel
Sprache:Ukrainian
Veröffentlicht: Институт сверхтвердых материалов им. В. Н. Бакуля Национальной академии наук Украины 2020
Schlagworte:
полірування
дисперсна система
шорсткість
Online Zugang:http://altis-ism.org.ua/index.php/ALTIS/article/view/177
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Tooling materials science

Institution

Tooling materials science
id oai:ojs2.altis-ism.org.ua:article-177
record_format ojs
institution Tooling materials science
baseUrl_str
datestamp_date 2020-11-02T07:52:25Z
collection OJS
language Ukrainian
topic полірування
дисперсна система
шорсткість
spellingShingle полірування
дисперсна система
шорсткість
Філатов, Ю.Д.
Сідорко, В.І.
Ковальов, С.В.
Панова, А.М.
Ковальов, В.А.
Балицька, Н.О.
Гаращенко, В.В.
ВПЛИВ ДИСПЕРСНОЇ СИСТЕМИ НА ПОКАЗНИКИ ПОЛІРУВАННЯ СКЛА, СИТАЛІВ ТА ОПТИЧНИХ І НАПІВПРОВІДНИКОВИХ КРИСТАЛІВ
topic_facet polishing
disperse system
roughness
полирование
дисперсная система
шероховатость
полірування
дисперсна система
шорсткість
format Article
author Філатов, Ю.Д.
Сідорко, В.І.
Ковальов, С.В.
Панова, А.М.
Ковальов, В.А.
Балицька, Н.О.
Гаращенко, В.В.
author_facet Філатов, Ю.Д.
Сідорко, В.І.
Ковальов, С.В.
Панова, А.М.
Ковальов, В.А.
Балицька, Н.О.
Гаращенко, В.В.
author_sort Філатов, Ю.Д.
title ВПЛИВ ДИСПЕРСНОЇ СИСТЕМИ НА ПОКАЗНИКИ ПОЛІРУВАННЯ СКЛА, СИТАЛІВ ТА ОПТИЧНИХ І НАПІВПРОВІДНИКОВИХ КРИСТАЛІВ
title_short ВПЛИВ ДИСПЕРСНОЇ СИСТЕМИ НА ПОКАЗНИКИ ПОЛІРУВАННЯ СКЛА, СИТАЛІВ ТА ОПТИЧНИХ І НАПІВПРОВІДНИКОВИХ КРИСТАЛІВ
title_full ВПЛИВ ДИСПЕРСНОЇ СИСТЕМИ НА ПОКАЗНИКИ ПОЛІРУВАННЯ СКЛА, СИТАЛІВ ТА ОПТИЧНИХ І НАПІВПРОВІДНИКОВИХ КРИСТАЛІВ
title_fullStr ВПЛИВ ДИСПЕРСНОЇ СИСТЕМИ НА ПОКАЗНИКИ ПОЛІРУВАННЯ СКЛА, СИТАЛІВ ТА ОПТИЧНИХ І НАПІВПРОВІДНИКОВИХ КРИСТАЛІВ
title_full_unstemmed ВПЛИВ ДИСПЕРСНОЇ СИСТЕМИ НА ПОКАЗНИКИ ПОЛІРУВАННЯ СКЛА, СИТАЛІВ ТА ОПТИЧНИХ І НАПІВПРОВІДНИКОВИХ КРИСТАЛІВ
title_sort вплив дисперсної системи на показники полірування скла, ситалів та оптичних і напівпровідникових кристалів
title_alt THE INFLUENCE OF THE DISPERSED SYSTEM ON POLISHING INDICATORS GLASS, SITALS AND OPTICAL AND SEMICONDUCTOR CRYSTALS
ВЛИЯНИЕ ДИСПЕРСНОЙ СИСТЕМЫ НА ПОКАЗАТЕЛИ ПОЛИРОВАНИЯ СТЕКЛА, СИТАЛЛОВ, ОПТИЧЕСКИХ И ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ КРИСТАЛЛОВ
description The aim of this study is to study the laws of the influence of the properties of a disperse system on the polishing indices of optical glass, sitals, optical and semiconductor crystals. Based on the cluster model of removal of the processed material during polishing, it is shown that the polishing performance and the height roughness parameters of the treated surface depend on the concentration of sludge particles formed during polishing, which depends on the average value of the interaction potential of the grains of the polishing powder with the treated surface. Taking into account the distribution function of sludge particles over their surface areas and the contact area of the polishing powder grain with the treated surface makes it possible to determine the interaction potential of the polishing powder grains with the treated surface depending on the Lifshitz constant, which depends on the electrical and optical characteristics of the processed material and the dispersed polishing system, and also the thickness of the gap between the elementary sections of the contact surfaces of the workpiece and lapping, which depends on the rheological properties of the polishing slurry and processing conditions. As a result of studies, it was found that the properties of the dispersed polishing system significantly affect the removal rate of the processed material when polishing optical glass, sitals, optical and semiconductor crystals, as well as the surface roughness. It is advisable to use the results of the study when developing the processes of nanopolishing non-metallic materials, as well as in subsequent studies of the laws of chemical-mechanical polishing of ultra-smooth surfaces. The practical significance and value of the results obtained lies in the general approach to the intermolecular interaction of condensed matters
publisher Институт сверхтвердых материалов им. В. Н. Бакуля Национальной академии наук Украины
publishDate 2020
url http://altis-ism.org.ua/index.php/ALTIS/article/view/177
work_keys_str_mv AT fílatovûd theinfluenceofthedispersedsystemonpolishingindicatorsglasssitalsandopticalandsemiconductorcrystals
AT sídorkoví theinfluenceofthedispersedsystemonpolishingindicatorsglasssitalsandopticalandsemiconductorcrystals
AT kovalʹovsv theinfluenceofthedispersedsystemonpolishingindicatorsglasssitalsandopticalandsemiconductorcrystals
AT panovaam theinfluenceofthedispersedsystemonpolishingindicatorsglasssitalsandopticalandsemiconductorcrystals
AT kovalʹovva theinfluenceofthedispersedsystemonpolishingindicatorsglasssitalsandopticalandsemiconductorcrystals
AT balicʹkano theinfluenceofthedispersedsystemonpolishingindicatorsglasssitalsandopticalandsemiconductorcrystals
AT garaŝenkovv theinfluenceofthedispersedsystemonpolishingindicatorsglasssitalsandopticalandsemiconductorcrystals
AT fílatovûd vliâniedispersnojsistemynapokazatelipolirovaniâsteklasitallovoptičeskihipoluprovodnikovyhkristallov
AT sídorkoví vliâniedispersnojsistemynapokazatelipolirovaniâsteklasitallovoptičeskihipoluprovodnikovyhkristallov
AT kovalʹovsv vliâniedispersnojsistemynapokazatelipolirovaniâsteklasitallovoptičeskihipoluprovodnikovyhkristallov
AT panovaam vliâniedispersnojsistemynapokazatelipolirovaniâsteklasitallovoptičeskihipoluprovodnikovyhkristallov
AT kovalʹovva vliâniedispersnojsistemynapokazatelipolirovaniâsteklasitallovoptičeskihipoluprovodnikovyhkristallov
AT balicʹkano vliâniedispersnojsistemynapokazatelipolirovaniâsteklasitallovoptičeskihipoluprovodnikovyhkristallov
AT garaŝenkovv vliâniedispersnojsistemynapokazatelipolirovaniâsteklasitallovoptičeskihipoluprovodnikovyhkristallov
AT fílatovûd vplivdispersnoísisteminapokaznikipolíruvannâsklasitalívtaoptičnihínapívprovídnikovihkristalív
AT sídorkoví vplivdispersnoísisteminapokaznikipolíruvannâsklasitalívtaoptičnihínapívprovídnikovihkristalív
AT kovalʹovsv vplivdispersnoísisteminapokaznikipolíruvannâsklasitalívtaoptičnihínapívprovídnikovihkristalív
AT panovaam vplivdispersnoísisteminapokaznikipolíruvannâsklasitalívtaoptičnihínapívprovídnikovihkristalív
AT kovalʹovva vplivdispersnoísisteminapokaznikipolíruvannâsklasitalívtaoptičnihínapívprovídnikovihkristalív
AT balicʹkano vplivdispersnoísisteminapokaznikipolíruvannâsklasitalívtaoptičnihínapívprovídnikovihkristalív
AT garaŝenkovv vplivdispersnoísisteminapokaznikipolíruvannâsklasitalívtaoptičnihínapívprovídnikovihkristalív
AT fílatovûd influenceofthedispersedsystemonpolishingindicatorsglasssitalsandopticalandsemiconductorcrystals
AT sídorkoví influenceofthedispersedsystemonpolishingindicatorsglasssitalsandopticalandsemiconductorcrystals
AT kovalʹovsv influenceofthedispersedsystemonpolishingindicatorsglasssitalsandopticalandsemiconductorcrystals
AT panovaam influenceofthedispersedsystemonpolishingindicatorsglasssitalsandopticalandsemiconductorcrystals
AT kovalʹovva influenceofthedispersedsystemonpolishingindicatorsglasssitalsandopticalandsemiconductorcrystals
AT balicʹkano influenceofthedispersedsystemonpolishingindicatorsglasssitalsandopticalandsemiconductorcrystals
AT garaŝenkovv influenceofthedispersedsystemonpolishingindicatorsglasssitalsandopticalandsemiconductorcrystals
first_indexed 2025-09-24T17:41:52Z
last_indexed 2025-09-24T17:41:52Z
_version_ 1844168058838450176
spelling oai:ojs2.altis-ism.org.ua:article-1772020-11-02T07:52:25Z THE INFLUENCE OF THE DISPERSED SYSTEM ON POLISHING INDICATORS GLASS, SITALS AND OPTICAL AND SEMICONDUCTOR CRYSTALS ВЛИЯНИЕ ДИСПЕРСНОЙ СИСТЕМЫ НА ПОКАЗАТЕЛИ ПОЛИРОВАНИЯ СТЕКЛА, СИТАЛЛОВ, ОПТИЧЕСКИХ И ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ КРИСТАЛЛОВ ВПЛИВ ДИСПЕРСНОЇ СИСТЕМИ НА ПОКАЗНИКИ ПОЛІРУВАННЯ СКЛА, СИТАЛІВ ТА ОПТИЧНИХ І НАПІВПРОВІДНИКОВИХ КРИСТАЛІВ Філатов, Ю.Д. Сідорко, В.І. Ковальов, С.В. Панова, А.М. Ковальов, В.А. Балицька, Н.О. Гаращенко, В.В. polishing, disperse system, roughness полирование, дисперсная система, шероховатость полірування, дисперсна система, шорсткість The aim of this study is to study the laws of the influence of the properties of a disperse system on the polishing indices of optical glass, sitals, optical and semiconductor crystals. Based on the cluster model of removal of the processed material during polishing, it is shown that the polishing performance and the height roughness parameters of the treated surface depend on the concentration of sludge particles formed during polishing, which depends on the average value of the interaction potential of the grains of the polishing powder with the treated surface. Taking into account the distribution function of sludge particles over their surface areas and the contact area of the polishing powder grain with the treated surface makes it possible to determine the interaction potential of the polishing powder grains with the treated surface depending on the Lifshitz constant, which depends on the electrical and optical characteristics of the processed material and the dispersed polishing system, and also the thickness of the gap between the elementary sections of the contact surfaces of the workpiece and lapping, which depends on the rheological properties of the polishing slurry and processing conditions. As a result of studies, it was found that the properties of the dispersed polishing system significantly affect the removal rate of the processed material when polishing optical glass, sitals, optical and semiconductor crystals, as well as the surface roughness. It is advisable to use the results of the study when developing the processes of nanopolishing non-metallic materials, as well as in subsequent studies of the laws of chemical-mechanical polishing of ultra-smooth surfaces. The practical significance and value of the results obtained lies in the general approach to the intermolecular interaction of condensed matters Целью данного исследования является изучение закономерностей влияния свойств дисперсной системы на показатели полирования оптического стекла, ситаллов, оптических и полупроводниковых кристаллов. На основе кластерной модели съема обрабатываемого материала при полировании показано, что производительность полирования и высотные параметры шероховатости обработанной поверхности зависят от концентрации частиц шлама, образующихся при полировании, которая зависит от среднего значения потенциала взаимодействия зерен полировального порошка с обрабатываемой поверхностью. Учет функции распределения частиц шлама по площадям их поверхности и площади контакта зерна полировального порошка с обрабатываемой поверхностью дает возможность определить потенциал взаимодействия зерен полировального порошка с обрабатываемой поверхностью в зависимости от константы Лифшица, которая зависит от электрических и оптических характеристик обрабатываемого материала и дисперсной полировальной системы, а также толщины промежутка между элементарными участками контактных поверхностей обрабатываемой детали и притира, которая зависит от реологических свойств полировальной суспензии и режимов обработки. В результате исследований установлено, что свойства полировальной дисперсной системы существенно влияют на интенсивность удаления обрабатываемого материала при полировании оптического стекла, ситаллов, оптических и полупроводниковых кристаллов, а также на шероховатость обработанной поверхности. Результаты исследования целесообразно использовать при разработке процессов нанополирования неметаллических материалов, а также при последующих исследованиях закономерностей химико-механического полирования сверхгладких поверхностей. Практическое значение и ценность полученных результатов заключается в общем подходе к межмолекулярному взаимодействию конденсированных сред Метою даного дослідження є вивчення закономірностей впливу властивостей дисперсної системи на показники полірування оптичного скла, ситалів та оптичних і напівпровідникових кристалів. На основі кластерної моделі зняття оброблюваного матеріалу під час полірування показано, що продуктивність полірування та висотні параметри шорсткості обробленої поверхні залежать від концентрації частинок шламу, що утворюються під час полірування, яка залежить від середнього значення потенціалу взаємодії зерен полірувального порошку з оброблюваною поверхнею. Врахування функції розподілу частинок шламу за площами їх поверхні та площі зони контакту зерна полірувального порошку з оброблюваною поверхнею дає можливість визначити потенціал взаємодії зерен полірувального порошку з оброблюваною поверхнею в залежності від константи Ліфшиця, яка залежить від електричних та оптичних характеристик оброблюваного матеріалу та дисперсної полірувальної системи, а також товщини проміжку між елементарними ділянками контактних поверхонь оброблюваної деталі та притиру, яка залежить від реологічних властивостей полірувальної суспензії та режимів полірування. В результаті досліджень встановлено, що властивості полірувальної дисперсної системи суттєво впливають на інтенсивність видалення оброблюваного матеріалу під час полірування оптичного скла, ситалів та оптичних і напівпровідникових кристалів, а також на шорсткість обробленої поверхні. Результати дослідження доцільно використовувати при розробці процесів нанополірування неметалевих матеріалів, а також при подальших дослідженнях закономірностей хіміко-механічного полірування надгладеньких поверхонь. Практичне значення та цінність отриманих результатів полягає в загальному підході до міжмолекулярної взаємодії конденсованих середовищ. Институт сверхтвердых материалов им. В. Н. Бакуля Национальной академии наук Украины 2020-10-08 Article Article application/pdf http://altis-ism.org.ua/index.php/ALTIS/article/view/177 Інструментальне матеріалознавство; Том 23 № 1 (2020): Інструментальне матеріалознавство; 336-342 Инструментальное материаловедение; Том 23 № 1 (2020): Инструментальное материаловедение; 336-342 Tooling materials science; Vol 23 No 1 (2020): Tooling materials science; 336-342 2708-7328 2708-731X uk http://altis-ism.org.ua/index.php/ALTIS/article/view/177/155 Авторське право (c) 2020 Інструментальне матеріалознавство

Ähnliche Einträge