ЗАСТОСУВАННЯ ШЕСТИПУАНСОННОЇ АПАРАТУРИ ВИСОКОГО ТИСКУ ДЛЯ ВИРОЩУВАННЯ МОНОКРИСТАЛІВ АЛМАЗУ ТИПУ IB З МЕТОЮ ВИГОТОВЛЕННЯ ПЛАСТИН ПЛОЩЕЮ 80 – 100 ММ2

Досліджено методи отримання структурно досконалих монокристалів алмазу, які за формою та розмірами дозволяють виготовлення алмазні пластини площею до 100 мм2 та подальшого використання як ініціюючих CVD-кристалізацію алмазних поверхонь. Розроблено ростові комірки для отримання монокристалічних зразк...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Datum:2025
Hauptverfasser: Бурченя , Андрій, Іванченко, Сергій, Лисаковський, Валентин, Коваленко, Тетяна, Заневській, Олег, Івахненко, Сергій
Format: Artikel
Sprache:Ukrainisch
Veröffentlicht: Институт сверхтвердых материалов им. В. Н. Бакуля Национальной академии наук Украины 2025
Schlagworte:
Online Zugang:http://altis-ism.org.ua/index.php/ALTIS/article/view/437
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Tooling materials science

Institution

Tooling materials science
Beschreibung
Zusammenfassung:Досліджено методи отримання структурно досконалих монокристалів алмазу, які за формою та розмірами дозволяють виготовлення алмазні пластини площею до 100 мм2 та подальшого використання як ініціюючих CVD-кристалізацію алмазних поверхонь. Розроблено ростові комірки для отримання монокристалічних зразків великого об’єму  шляхом НТНР-кристалізації в області термодинамічної стабільності; оптимізовані склади ростових систем для отримання кристалів типу Ib  на базі розчинників Fe-Ni, Fe-Co та  Fe-Co-Mg. Розроблено методи для проведення операцій механічного розколювання, розпилювання та шліфування в залежності від габітусної форми кристалів, наявності та розташування дефектів структури;  випробувано їх використання для виготовлення пластин необхідної форми та кристалографічної орієнтації з метою їх застосування в якості ініціюючих підкладинок для проведення CVD-процесів кристалізації алмазу.               Результати досліджень, виконаних в результаті проведення роботи, мають бути застосовані для CVD-осадження вуглецю для отримання алмазних поверхонь з метою використання як ініціюючих кристалізацію при одержані плівок.