Технология получения пленок силицида палладия для мощных диодов Шоттки

A technology is proposed for forming transition layers of palladium silicide through a solid-phase reaction of a palladium film with a silicon substrate directly during deposition, without the need for subsequent thermal treatment. Studies of the elemental composition and crystalline structure of...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2005
Автори: Anufriev, L. P., Baranov, V. V., Solovjov, J. A., Tarasikov, M. V.
Формат: Стаття
Мова:Українська
Опубліковано: PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2005
Теми:
Онлайн доступ:https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2005.4.55
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Technology and design in electronic equipment

Репозитарії

Technology and design in electronic equipment
_version_ 1863674025321955328
author Anufriev, L. P.
Baranov, V. V.
Solovjov, J. A.
Tarasikov, M. V.
author_facet Anufriev, L. P.
Baranov, V. V.
Solovjov, J. A.
Tarasikov, M. V.
author_sort Anufriev, L. P.
baseUrl_str https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/oai
collection OJS
datestamp_date 2026-04-27T20:05:22Z
description A technology is proposed for forming transition layers of palladium silicide through a solid-phase reaction of a palladium film with a silicon substrate directly during deposition, without the need for subsequent thermal treatment. Studies of the elemental composition and crystalline structure of the obtained silicide layers have been carried out, and the barrier height to n-type silicon has been measured. The possibility of using the resulting palladium silicide layers for the fabrication of high-power Schottky diodes has been demonstrated.
first_indexed 2026-04-28T01:00:52Z
format Article
id oai:tkea.com.ua:article-1037
institution Technology and design in electronic equipment
keywords_txt_mv keywords
language Ukrainian
last_indexed 2026-04-28T01:00:52Z
publishDate 2005
publisher PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers
record_format ojs
spelling oai:tkea.com.ua:article-10372026-04-27T20:05:22Z Technology for producing palladium silicide films for high-power Schottky diodes Технология получения пленок силицида палладия для мощных диодов Шоттки Anufriev, L. P. Baranov, V. V. Solovjov, J. A. Tarasikov, M. V. Schottky diodes palladium silicide thermal evaporation current–voltage characteristics диоды Шоттки силицид палладия термическое испарение вольт-амперные характеристики A technology is proposed for forming transition layers of palladium silicide through a solid-phase reaction of a palladium film with a silicon substrate directly during deposition, without the need for subsequent thermal treatment. Studies of the elemental composition and crystalline structure of the obtained silicide layers have been carried out, and the barrier height to n-type silicon has been measured. The possibility of using the resulting palladium silicide layers for the fabrication of high-power Schottky diodes has been demonstrated. Предложена технология формирования переходных слоев силицида палладия твердофазной реакцией пленки палладия с кремниевой подложкой непосредственно в процессе напыления без применения последующей термообработки. Проведены исследования элементного состава и кристаллической структуры полученных слоев силицида, измерена высота потенциального барьера к кремнию n-типа. Показана возможность применения полученных слоев силицидов палладия для изготовления мощных диодов Шоттки. PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2005-08-30 Article Article Peer-reviewed Article application/pdf https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2005.4.55 Technology and design in electronic equipment; No. 4 (2005): Tekhnologiya i konstruirovanie v elektronnoi apparature; 55-56 Технологія та конструювання в електронній апаратурі; № 4 (2005): Технология и конструирование в электронной аппаратуре; 55-56 3083-6549 3083-6530 uk https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2005.4.55/944 Copyright (c) 2005 Anufriev L. P., Baranov V. V., Solovjov J. A., Tarasikov M. V. http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
spellingShingle диоды Шоттки
силицид палладия
термическое испарение
вольт-амперные характеристики
Anufriev, L. P.
Baranov, V. V.
Solovjov, J. A.
Tarasikov, M. V.
Технология получения пленок силицида палладия для мощных диодов Шоттки
title Технология получения пленок силицида палладия для мощных диодов Шоттки
title_alt Technology for producing palladium silicide films for high-power Schottky diodes
title_full Технология получения пленок силицида палладия для мощных диодов Шоттки
title_fullStr Технология получения пленок силицида палладия для мощных диодов Шоттки
title_full_unstemmed Технология получения пленок силицида палладия для мощных диодов Шоттки
title_short Технология получения пленок силицида палладия для мощных диодов Шоттки
title_sort технология получения пленок силицида палладия для мощных диодов шоттки
topic диоды Шоттки
силицид палладия
термическое испарение
вольт-амперные характеристики
topic_facet Schottky diodes
palladium silicide
thermal evaporation
current–voltage characteristics
диоды Шоттки
силицид палладия
термическое испарение
вольт-амперные характеристики
url https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2005.4.55
work_keys_str_mv AT anufrievlp technologyforproducingpalladiumsilicidefilmsforhighpowerschottkydiodes
AT baranovvv technologyforproducingpalladiumsilicidefilmsforhighpowerschottkydiodes
AT solovjovja technologyforproducingpalladiumsilicidefilmsforhighpowerschottkydiodes
AT tarasikovmv technologyforproducingpalladiumsilicidefilmsforhighpowerschottkydiodes
AT anufrievlp tehnologiâpolučeniâplenoksilicidapalladiâdlâmoŝnyhdiodovšottki
AT baranovvv tehnologiâpolučeniâplenoksilicidapalladiâdlâmoŝnyhdiodovšottki
AT solovjovja tehnologiâpolučeniâplenoksilicidapalladiâdlâmoŝnyhdiodovšottki
AT tarasikovmv tehnologiâpolučeniâplenoksilicidapalladiâdlâmoŝnyhdiodovšottki