Нанесение тонких пленок в вакууме на подложки из синтетического опала

The influence of thermal evaporation, ion-plasma magnetron sputtering, and ion-beam deposition methods of thin films on the surface characteristics of photonic crystals is examined. Schemes of thin film formation processes on opal matrices and designs of technological equipment are presented. The re...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2005
Автори: Panfilov, Yu. V., Samoylovich, M. I., Bulygina, E. V.
Формат: Стаття
Мова:Українська
Опубліковано: PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2005
Теми:
Онлайн доступ:https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2005.2.49
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Technology and design in electronic equipment

Репозитарії

Technology and design in electronic equipment
_version_ 1863855188939374592
author Panfilov, Yu. V.
Samoylovich, M. I.
Bulygina, E. V.
author_facet Panfilov, Yu. V.
Samoylovich, M. I.
Bulygina, E. V.
author_sort Panfilov, Yu. V.
baseUrl_str https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/oai
collection OJS
datestamp_date 2026-04-29T15:52:35Z
description The influence of thermal evaporation, ion-plasma magnetron sputtering, and ion-beam deposition methods of thin films on the surface characteristics of photonic crystals is examined. Schemes of thin film formation processes on opal matrices and designs of technological equipment are presented. The results of electrical resistance measurements of the films and surface topography characteristics of photonic crystal samples obtained using an atomic force microscope are provided.
first_indexed 2026-04-30T01:00:23Z
format Article
id oai:tkea.com.ua:article-1072
institution Technology and design in electronic equipment
keywords_txt_mv keywords
language Ukrainian
last_indexed 2026-04-30T01:00:23Z
publishDate 2005
publisher PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers
record_format ojs
spelling oai:tkea.com.ua:article-10722026-04-29T15:52:35Z Deposition of thin films in vacuum on synthetic opal substrates Нанесение тонких пленок в вакууме на подложки из синтетического опала Panfilov, Yu. V. Samoylovich, M. I. Bulygina, E. V. thin films photonic crystal opal matrix thermal evaporation ion-plasma sputtering ion-beam deposition тонкие пленки фотонный кристалл опаловая матрица термическое испарение ионно-плазменное распыление ионно-лучевое осаждение The influence of thermal evaporation, ion-plasma magnetron sputtering, and ion-beam deposition methods of thin films on the surface characteristics of photonic crystals is examined. Schemes of thin film formation processes on opal matrices and designs of technological equipment are presented. The results of electrical resistance measurements of the films and surface topography characteristics of photonic crystal samples obtained using an atomic force microscope are provided. Рассмотрено влияние методов термического испарения, ионно-плазменного магнетронного распыления и осаждения тонких пленок из ионного пучка на характеристики поверхности фотонных кристаллов. Приведены схемы процессов формирования тонких пленок на опаловых матрицах и конструкции технологической оснастки. Представлены результаты измерения электрического сопротивления пленок и характеристики топографии поверхности образцов фотонных кристаллов, полученные с помощью атомно-силового микроскопа. PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2005-04-29 Article Article Peer-reviewed Article application/pdf https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2005.2.49 Technology and design in electronic equipment; No. 2 (2005): Tekhnologiya i konstruirovanie v elektronnoi apparature; 49-52 Технологія та конструювання в електронній апаратурі; № 2 (2005): Технология и конструирование в электронной аппаратуре; 49-52 3083-6549 3083-6530 uk https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2005.2.49/978 Copyright (c) 2005 Panfilov Yu. V., Samoylovich M. I., Bulygina E. V. http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
spellingShingle тонкие пленки
фотонный кристалл
опаловая матрица
термическое испарение
ионно-плазменное распыление
ионно-лучевое осаждение
Panfilov, Yu. V.
Samoylovich, M. I.
Bulygina, E. V.
Нанесение тонких пленок в вакууме на подложки из синтетического опала
title Нанесение тонких пленок в вакууме на подложки из синтетического опала
title_alt Deposition of thin films in vacuum on synthetic opal substrates
title_full Нанесение тонких пленок в вакууме на подложки из синтетического опала
title_fullStr Нанесение тонких пленок в вакууме на подложки из синтетического опала
title_full_unstemmed Нанесение тонких пленок в вакууме на подложки из синтетического опала
title_short Нанесение тонких пленок в вакууме на подложки из синтетического опала
title_sort нанесение тонких пленок в вакууме на подложки из синтетического опала
topic тонкие пленки
фотонный кристалл
опаловая матрица
термическое испарение
ионно-плазменное распыление
ионно-лучевое осаждение
topic_facet thin films
photonic crystal
opal matrix
thermal evaporation
ion-plasma sputtering
ion-beam deposition
тонкие пленки
фотонный кристалл
опаловая матрица
термическое испарение
ионно-плазменное распыление
ионно-лучевое осаждение
url https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2005.2.49
work_keys_str_mv AT panfilovyuv depositionofthinfilmsinvacuumonsyntheticopalsubstrates
AT samoylovichmi depositionofthinfilmsinvacuumonsyntheticopalsubstrates
AT bulyginaev depositionofthinfilmsinvacuumonsyntheticopalsubstrates
AT panfilovyuv nanesenietonkihplenokvvakuumenapodložkiizsintetičeskogoopala
AT samoylovichmi nanesenietonkihplenokvvakuumenapodložkiizsintetičeskogoopala
AT bulyginaev nanesenietonkihplenokvvakuumenapodložkiizsintetičeskogoopala