Технологические приемы улучшения теплового режима выращивания кристаллов GaAs методом Чохральского

For the Czochralski method with liquid encapsulation of the melt and an additional heater immersed in the flux, the dependence of the temperature gradient G near the crystallization front in GaAs crystals on the heater power, its distance from the crystal, as well as on the conditions of thermal shi...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Datum:2004
Hauptverfasser: Kovtun, G. P., Kravchenko, A. I., Kondrik, A. I., Shcherban', A. P.
Format: Artikel
Sprache:Ukrainisch
Veröffentlicht: PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2004
Schlagworte:
Online Zugang:https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2004.6.03
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Technology and design in electronic equipment

Institution

Technology and design in electronic equipment