Компенсация систематических погрешностей тонкопленочных элементов через элементы фотошаблона
Several methods are considered for compensating for systematic errors in the design parameters of thin-film resistors that determine the yield of functional microassemblies. A method of compensation is proposed by modifying the dimensions of photomask elements according to specific algorithms, which...
Gespeichert in:
| Datum: | 2004 |
|---|---|
| 1. Verfasser: | |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Ukrainisch |
| Veröffentlicht: |
PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers
2004
|
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2004.4.09 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Technology and design in electronic equipment |
Institution
Technology and design in electronic equipment| _version_ | 1865123545258917888 |
|---|---|
| author | Spirin, V. G. |
| author_facet | Spirin, V. G. |
| author_sort | Spirin, V. G. |
| baseUrl_str | https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/oai |
| collection | OJS |
| datestamp_date | 2026-05-13T21:34:08Z |
| description | Several methods are considered for compensating for systematic errors in the design parameters of thin-film resistors that determine the yield of functional microassemblies. A method of compensation is proposed by modifying the dimensions of photomask elements according to specific algorithms, which will allow for a significant reduction in the dimensions of all thin-film elements without reducing the yield percentage of functional microassemblies. |
| first_indexed | 2026-05-14T01:00:21Z |
| format | Article |
| id | oai:tkea.com.ua:article-1135 |
| institution | Technology and design in electronic equipment |
| keywords_txt_mv | keywords |
| language | Ukrainian |
| last_indexed | 2026-05-14T01:00:21Z |
| publishDate | 2004 |
| publisher | PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers |
| record_format | ojs |
| spelling | oai:tkea.com.ua:article-11352026-05-13T21:34:08Z Compensation of systematic errors in thin-film elements using photomask elements Компенсация систематических погрешностей тонкопленочных элементов через элементы фотошаблона Spirin, V. G. compensation of systematic errors thin-film elements yield of functional microassemblies компенсация систематических погрешностей тонкопленочные элементы выход годных микросборок Several methods are considered for compensating for systematic errors in the design parameters of thin-film resistors that determine the yield of functional microassemblies. A method of compensation is proposed by modifying the dimensions of photomask elements according to specific algorithms, which will allow for a significant reduction in the dimensions of all thin-film elements without reducing the yield percentage of functional microassemblies. Рассмотрено несколько способов компенсации систематических погрешностей конструктивных параметров тонкопленочных резисторов, определяющих выход годных микросборок. Предложена компенсация путем изменения размеров элементов фотошаблона по определенным алгоритмам, которая позволит значительно уменьшить размеры всех тонкопленочных элементов без уменьшения процента выхода годных микросборок. PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2004-08-30 Article Article Peer-reviewed Article application/pdf https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2004.4.09 Technology and design in electronic equipment; No. 4 (2004): Tekhnologiya i konstruirovanie v elektronnoi apparature ; 9-11 Технологія та конструювання в електронній апаратурі; № 4 (2004): Технология и конструирование в электронной аппаратуре; 9-11 3083-6549 3083-6530 uk https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2004.4.09/1035 Copyright (c) 2004 V. G. Spirin http://creativecommons.org/licenses/by/4.0/ |
| spellingShingle | компенсация систематических погрешностей тонкопленочные элементы выход годных микросборок Spirin, V. G. Компенсация систематических погрешностей тонкопленочных элементов через элементы фотошаблона |
| title | Компенсация систематических погрешностей тонкопленочных элементов через элементы фотошаблона |
| title_alt | Compensation of systematic errors in thin-film elements using photomask elements |
| title_full | Компенсация систематических погрешностей тонкопленочных элементов через элементы фотошаблона |
| title_fullStr | Компенсация систематических погрешностей тонкопленочных элементов через элементы фотошаблона |
| title_full_unstemmed | Компенсация систематических погрешностей тонкопленочных элементов через элементы фотошаблона |
| title_short | Компенсация систематических погрешностей тонкопленочных элементов через элементы фотошаблона |
| title_sort | компенсация систематических погрешностей тонкопленочных элементов через элементы фотошаблона |
| topic | компенсация систематических погрешностей тонкопленочные элементы выход годных микросборок |
| topic_facet | compensation of systematic errors thin-film elements yield of functional microassemblies компенсация систематических погрешностей тонкопленочные элементы выход годных микросборок |
| url | https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2004.4.09 |
| work_keys_str_mv | AT spirinvg compensationofsystematicerrorsinthinfilmelementsusingphotomaskelements AT spirinvg kompensaciâsistematičeskihpogrešnostejtonkoplenočnyhélementovčerezélementyfotošablona |