Компенсация систематических погрешностей тонкопленочных элементов через элементы фотошаблона

Several methods are considered for compensating for systematic errors in the design parameters of thin-film resistors that determine the yield of functional microassemblies. A method of compensation is proposed by modifying the dimensions of photomask elements according to specific algorithms, which...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2004
Автор: Spirin, V. G.
Формат: Стаття
Мова:Українська
Опубліковано: PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2004
Теми:
Онлайн доступ:https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2004.4.09
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Technology and design in electronic equipment

Репозитарії

Technology and design in electronic equipment

Схожі ресурси