Кинетика десорбционной очистки поверхности кремниевых пластин в перекисно-аммиачных растворах

The paper investigates desorption of cations (Na⁺, Fe³⁺, Cu²⁺, Ag⁺) and atoms (Au), as well as anions S²⁻ and Cl⁻ from the surface of silicon wafers KDB-10 with orientations (100) and (110) during treatment at 70 °C in peroxide–ammonia solutions of three compositions. The method of radioactive isoto...

Ausführliche Beschreibung

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Bibliographische Detailangaben
Datum:2003
Hauptverfasser: Poltavtsev, Yu. G., Virchenko, P. T., Kostyuk, V. V.
Format: Artikel
Sprache:Ukrainisch
Veröffentlicht: PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2003
Schlagworte:
Online Zugang:https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2003.6.59
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Назва журналу:Technology and design in electronic equipment

Institution

Technology and design in electronic equipment

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