Кинетика десорбционной очистки поверхности кремниевых пластин в перекисно-аммиачных растворах

The paper investigates desorption of cations (Na⁺, Fe³⁺, Cu²⁺, Ag⁺) and atoms (Au), as well as anions S²⁻ and Cl⁻ from the surface of silicon wafers KDB-10 with orientations (100) and (110) during treatment at 70 °C in peroxide–ammonia solutions of three compositions. The method of radioactive isoto...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2003
Автори: Poltavtsev, Yu. G., Virchenko, P. T., Kostyuk, V. V.
Формат: Стаття
Мова:Українська
Опубліковано: PE "Politekhperiodika", Book and Journal Publishers 2003
Теми:
Онлайн доступ:https://www.tkea.com.ua/index.php/journal/article/view/TKEA2003.6.59
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Technology and design in electronic equipment

Репозитарії

Technology and design in electronic equipment